清洗笼的制作方法

本发明涉及清洗多晶硅时使用的清洗笼。

背景技术：

1、硅半导体原料、太阳电池原料等所使用的多晶硅要求是高纯度，所以制造工序包含除去附着于多晶硅的污染物质等的清洗工序。在清洗工序中，在将多晶硅收容于专用的清洗笼的状态下进行蚀刻清洗以及纯水清洗。作为在清洗该多晶硅时使用的清洗笼，例如，专利文献1中公开了由树脂板形成为箱状，收容多晶硅的清洗笼。

2、另外，在专利文献2示出了将多晶硅收容于树脂制的清洗笼实施了蚀刻清洗的情况下，在清洗后的多晶硅的表面产生由起因于清洗笼的有机成分、碳引起的污染。并且，在专利文献2的段落0039～0041中，记载了与清洗笼是新品的情况相比，反复进行多次蚀刻清洗而树脂劣化的情况下，来自该清洗笼的树脂的污染更剧烈。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开2011－68554号公报

6、专利文献2：日本特开2020－128332号公报

技术实现思路

1、发明所要解决的问题

2、在专利文献1所公开的清洗笼中，在清洗工序中，在浸入作为清洗液的氟硝酸的清洗笼的部分进行焊接的情况下，该焊接部与其他的树脂部分相比更容易劣化，本申请的发明人已经查明这是起因于上述清洗笼的污染的一个因素。特别是，若反复进行蚀刻清洗，则会产生由酸引起的破裂、剥离，由此产生的树脂片在清洗液中不溶解，所以存在树脂片附着于多晶硅，进一步显著提高多晶硅的污染这样的问题。

3、根据本发明的一方式，其目的在于防止清洗工序中的多晶硅的污染。

4、用于解决问题的手段

5、为了解决上述的问题，本发明的一方式所涉及的清洗笼，其特征在于，所述清洗笼是在收容有多晶硅的状态下用于所述多晶硅的清洗的清洗笼，所述清洗笼具备多个由树脂构成的构成部件，所述多个构成部件分别通过旋入由树脂构成的螺钉而相互结合。

6、发明的效果

7、根据本发明的一方式，能够防止清洗工序中的多晶硅的污染。

1.一种清洗笼，其特征在于，所述清洗笼是在收容有多晶硅的状态下用于所述多晶硅的清洗的清洗笼，

2.根据权利要求1所述的清洗笼，其特征在于，所述构成部件以及所述螺钉分别由氟树脂构成。

3.根据权利要求1或者2所述的清洗笼，其特征在于，