结晶化玻璃基板的制作方法

文档序号:36422135发布日期:2023-12-20 13:53阅读:26来源:国知局
结晶化玻璃基板的制作方法

本发明涉及一种在表面具有压缩应力层的结晶化玻璃基板。


背景技术:

1、在智能型手机、平板型pc(personal computer;个人计算机)等便携式电子设备中使用用于保护显示器的玻璃盖。此外,在车载用的光学设备中也使用用于保护透镜的保护镜(protector)。进而,近年也有运用在成为电子设备的外装体的壳体等的需求。然后,为了让这些设备能经受更苛刻的使用,具有更高的硬度的材料的需求逐渐增强。

2、以往,作为保护部件用途等的材料,使用化学强化玻璃。然而,由于以往的化学强化玻璃,对于从玻璃表面垂直地形成的裂缝非常弱,因此便携式设备掉落时经常发生破损的事故而成为问题。进而,破损时粉碎成碎粉飞散时则有受伤的危险。需要在破坏时变成大的碎片。

3、专利文献1公开了一种信息记录介质用结晶化玻璃基板。该结晶化玻璃基板,在对其施以化学强化的情况下没有获得充分的压缩应力值。

4、现有技术文献

5、专利文献

6、专利文献1:日本特开2014-114200号公报


技术实现思路

1、发明要解决的技术问题

2、本发明鉴于上述问题点而成。本发明的目的在于获得一种硬且不易破裂的结晶化玻璃基板。

3、为了解决上述课题,本发明人们致力研究反复实验,结果发现可以获得一种结晶化玻璃基板,其通过混合酸进行化学强化,由此可以提高压缩应力层的表面压缩应力并降低中心压缩应力,耐冲击性高且即使被冲击破坏也难以碎裂(爆炸破坏),进而完成本发明。具体而言,本发明提供以下的产品。

4、(方式1)

5、一种结晶化玻璃基板,在表面具有压缩应力层,

6、当将所述压缩应力层的表面压缩应力为0mpa时的深度记做应力深度dolzero时:

7、所述压缩应力层之中,从最外表面到6μm为止的深度的表面压缩应力的梯度a为50.0mpa/μm至110.0mpa/μm;

8、从(所述应力深度dolzero-10μm)的深度到所述应力深度dolzero为止的表面压缩应力的梯度b为2.5mpa/μm至15.0mpa/μm;

9、所述最外表面的压入深度20nm的硬度为7.50gpa至9.50gpa。

10、(方式2)

11、一种结晶化玻璃基板,在表面具有压缩应力层,

12、当将所述压缩应力层的表面压缩应力为0mpa时的深度记做应力深度dolzero时:

13、所述压缩应力层之中,从最外表面到6μm为止的深度的表面压缩应力的梯度a为50.0mpa/μm至110.0mpa/μm;

14、从(所述应力深度dolzero-10μm)的深度到所述应力深度dolzero为止的表面压缩应力的梯度b为2.5mpa/μm至15.0mpa/μm;

15、所述最外表面的压入深度100nm的硬度为8.00gpa至9.50gpa。

16、(方式3)

17、一种结晶化玻璃基板,在表面具有压缩应力层,

18、当将所述压缩应力层的表面压缩应力为0mpa时的深度记做应力深度dolzero时:

19、所述压缩应力层之中,从最外表面到6μm为止的深度的表面压缩应力的梯度a为50.0mpa/μm至110.0mpa/μm;

20、从(所述应力深度dolzero-10μm)的深度到所述应力深度dolzero为止的表面压缩应力的梯度b为2.5mpa/μm至15.0mpa/μm;

21、所述压缩应力层的最外表面的表面压缩应力cs为900.0mpa至1200.0mpa。

22、(方式4)

23、如方式1或2所述的结晶化玻璃基板,其中,

24、所述应力深度dolzero为30.0μm至70.0μm;

25、所述压缩应力层的最外表面的表面压缩应力cs为870.0mpa至1150.0mpa;

26、中心压缩应力ct为35.0mpa至70.0mpa。

27、(方式5)

28、如方式1至4中任一项所述的结晶化玻璃基板,其中,

29、以换算为氧化物的重量%计,含有:

30、40.0%至70.0%的sio2成分;

31、11.0%至25.0%的al2o3成分;

32、5.0%至19.0%的na2o成分;

33、0%至9.0%的k2o成分;

34、1.0%至18.0%的从mgo成分以及zno成分中选择的1种以上;

35、0%至3.0%的cao成分;以及

36、0.5%至12.0%的tio2成分。

37、(方式6)

38、如方式1至5中任一项所述的结晶化玻璃基板,其中,所述结晶化玻璃基板的厚度为0.1mm至1.0mm。

39、通过本发明,可获得硬且不易破裂的结晶化玻璃基板。

40、本发明的结晶化玻璃基板可用于电子设备的显示器或透镜的玻璃盖、车载用的光学设备用透镜保护镜、外框部件或是壳体、光学透镜材料、其它各种部件。



技术特征:

1.一种结晶化玻璃基板,在表面具有压缩应力层,其中,

2.一种结晶化玻璃基板,在表面具有压缩应力层,其中,

3.一种结晶化玻璃基板,在表面具有压缩应力层,其中,

4.如权利要求1至3中任一项所述的结晶化玻璃基板,其中,

5.如权利要求1至3中任一项所述的结晶化玻璃基板,其中,

6.如权利要求1至3中任一项所述的结晶化玻璃基板,其中,所述结晶化玻璃基板的厚度为0.1mm至1.0mm。


技术总结
本发明为一种结晶化玻璃基板,在表面具有压缩应力层,当将所述压缩应力层的表面压缩应力为0MPa时的深度设为应力深度DOL<subgt;zero</subgt;时:所述压缩应力层之中,从最外表面到6μm为止的深度的表面压缩应力的梯度A为50.0MPa/μm至110.0MPa/μm;从(所述应力深度DOL<subgt;zero</subgt;-10μm)的深度到所述应力深度DOL<subgt;zero</subgt;为止的表面压缩应力的梯度B为2.5MPa/μm至15.0MPa/μm;所述最外表面的压入深度20nm的硬度为7.50GPa至9.50GPa。

技术研发人员:八木俊刚,小笠原康平
受保护的技术使用者:株式会社小原
技术研发日:
技术公布日:2024/1/15
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