本发明涉及陶瓷,特别涉及一种止滑保护釉、止滑陶瓷砖及其制备方法。
背景技术:
1、亚光类陶瓷砖产品以普通仿古砖、半抛砖为主,这些类型的陶瓷砖的止滑性能都不强。目前抛光砖的摩擦系数最大只能达到0.4,摩擦系数最小的却只有0.2,而国内外安全标准要求的摩擦系数最小都要达到0.5才被认为是安全的。现有的抛光砖的安全摩擦系数还远远达不到要求,并且其在遇水或遇油后防滑效果会更差。
2、目前市面上也有少量亚光止滑砖,但一直难以推广,主要原因是现有的亚光止滑砖常出现吸污的问题,并且在用拖把或毛巾清洁砖面时,阻涩感强,砖面不但难以清洁干净,而且还容易造成拖把或毛巾的绒毛脱落,损坏拖把或毛巾。
技术实现思路
1、鉴于上述现有技术的不足之处,本发明的目的在于提供一种止滑保护釉、止滑陶瓷砖及其制备方法,旨在提高亚光止滑砖的防滑性能和耐污性能。
2、为了达到上述目的,本发明采取了以下技术方案:
3、本发明第一方面提供了一种止滑保护釉,按重量百分数计,其化学组分包括:sio245%~50%、tio2 0.1%~0.2%、al2o3 14%~17%、fe2o3 0.2%~0.4%、mn3o4 0.01%~0.02%、mgo 1.5%~2.5%、cao 3.5%~5.5%、na2o 0.65%~0.85%、k2o 3%~4%、p2o50.1%~0.3%、sro 0.03%~1%、zro2 0.01%~0.03%、hfo2 0~0.01%、bao 15.5%~17.5%、zno 2.5%~3.5%,灼减5.5%~6.5%。
4、所述的止滑保护釉,其中,按重量百分数计,其制备原料包括:熔块75%~80%、钾长石7%~9%、煅烧高岭土3%~5%、硅灰石3%~5%、氧化铝2%~4%、石英粉2%~4%;所述熔块的化学组分包括:sio2 50%~52%、al2o310%~12%、cao 8%~10%、na2o 1%~2%、k2o 4%~6%、zro2 0.01%~0.03%、fe2o3 0.1%~0.2%、zno 5.0%~7.0%、p2o50.01%~0.03%、bao 12%~14%、sro 0.01%~1%、mgo 0.15%~0.4%、hfo2 0.01%~0.02%、b2o3 2%~3%、其余为微量元素,灼减0.05%~0.2%。
5、本发明第二方面提供了一种止滑陶瓷砖,包括依次设置的坯体层、化妆土层、止滑面釉层、图案层和保护釉层,所述保护釉层由以上所述的止滑保护釉烧制得到。
6、本发明第三方面提供了一种止滑陶瓷砖,其包括依次设置的坯体层、化妆土层、止滑面釉层、图案层、肌理釉层和保护釉层,所述保护釉层由以上所述的止滑保护釉烧制得到;所述肌理釉层包括多个半球形的凸起结构。
7、所述的止滑陶瓷砖,其中,所述止滑面釉层由止滑面釉烧制得到,按重量百分数计,所述止滑面釉的化学组分包括:sio2 55%~60%、tio2 0.05%~0.15%、al2o3 22%~26%、fe2o3 0.15%~0.3%、mn3o4 0.01%~0.02%、mgo 2%~3%、cao 0.5%~1.5%、na2o 1.5%~2.5%、k2o 3%~5%、p2o5 0.1%~0.3%、so3 0.01%~0.03%、zro2 4.5%~5.5%、hfo2 0.1%~0.3%、bao 0.02%~0.04%、zno 1%~3%,灼减1.5%~3%。
8、所述的止滑陶瓷砖,其中,按重量百分数计,所述止滑面釉的制备原料包括:钾长石37%~39%、钠长石5%~7%、高岭土7%~9%、烧滑石4%~6%、硅酸锆7%~9%、石英15%~17%、氧化锌1%~3%、烧土6%~8%、氧化铝9%~11%。
9、所述的止滑陶瓷砖,其中,所述化妆土层由底釉烧制得到,按重量百分数计,所述底釉的化学组分包括:sio2 60%~62%、tio2 0.05%~0.15%、al2o3 22%~26%、fe2o30.1%~0.2%、mn3o4 0.01%~0.02%、mgo 1.5%~2.5%、cao 1%~2%、na2o 1.5%~3.5%、k2o 0.5%~1.5%、v2o5 0.01%~0.02%、nio0.01%~0.02%、zro2 5%~7%、hfo20.1%~0.2%、bao 0.01%~0.02%、p2o50.1%~0.3%,灼减1.5%~2.5%。
10、所述的止滑陶瓷砖,其中,按重量百分数计,所述底釉的制备原料包括:气刀土9%~11%、煅烧高岭土14%~16%、钾长石19%~21%、钠长石27%~29%、烧滑石5%~7%、硅灰石2%~4%、石英7%~9%、硅酸锆9%~11%。
11、所述的止滑陶瓷砖,其中,所述凸起结构的高度为200~300微米;所述凸起结构的直径与高度的比值为10~20;所述凸起结构的表面接触角为10~25度;相邻两个凸起结构的间距为6~11微米。
12、本发明第四方面提供了一种陶瓷砖的制备方法,所述制备方法用于制备以上所述的止滑陶瓷砖,包括如下步骤:在坯体层上布施底釉,以形成化妆土层;在化妆土层上布施止滑面釉,以形成止滑面釉层;在止滑面釉上打印图案,以形成图案层;在图案层上打印肌理,以形成肌理釉层;在肌理釉层上布施止滑保护釉,以形成止滑保护釉层;烧制,获得所述止滑陶瓷砖。
13、有益效果:
14、本发明第一方面提供了一种止滑保护釉,所述止滑保护釉含有高含量的al2o3,并采用大量碱土金属氧化物和碱金属氧化物进行搭配,让止滑保护釉在烧成过程中整体析晶,使釉面布满由细小晶粒形成的小凸点,让釉面不仅具有亚光效果,而且具有良好的止滑防污性能和耐磨性能。
15、本发明第二方面提供了一种止滑陶瓷砖,所述止滑陶瓷砖包括依次设置的坯体层、化妆土层、止滑面釉层、图案层和保护釉层;所述止滑陶瓷砖通过设置保护釉层,让所述止滑陶瓷砖具有良好的止滑、抗污以及耐磨性能。
16、本发明第三方面还提供了一种止滑陶瓷砖,所述止滑陶瓷砖包括依次设置的坯体层、化妆土层、止滑面釉层、图案层、肌理釉层和保护釉层;所述止滑陶瓷砖通过保护釉层和肌理釉层的搭配,让所述止滑陶瓷砖兼具良好的抗污以及耐磨性能的情况下,进一步提高了止滑性能。
17、本发明第四方面提供了一种陶瓷砖的制备方法,所述制备方法用于制备以上所述的止滑陶瓷砖,所述制备方法工艺成熟,可行性高,可确保产品的成品率高。
1.一种止滑保护釉,其特征在于,按重量百分数计,其化学组分包括:sio245%~50%、tio2 0.1%~0.2%、al2o3 14%~17%、fe2o3 0.2%~0.4%、mn3o40.01%~0.02%、mgo1.5%~2.5%、cao 3.5%~5.5%、na2o 0.65%~0.85%、k2o 3%~4%、p2o5 0.1%~0.3%、sro 0.03%~1%、zro2 0.01%~0.03%、hfo2 0~0.01%、bao 15.5%~17.5%、zno 2.5%~3.5%,灼减5.5%~6.5%。
2.根据权利要求1所述的止滑保护釉,其特征在于,按重量百分数计,其制备原料包括:熔块75%~80%、钾长石7%~9%、煅烧高岭土3%~5%、硅灰石3%~5%、氧化铝2%~4%、石英粉2%~4%;所述熔块的化学组分包括:sio2 50%~52%、al2o3 10%~12%、cao8%~10%、na2o 1%~2%、k2o 4%~6%、zro2 0.01%~0.03%、fe2o3 0.1%~0.2%、zno5.0%~7.0%、p2o5 0.01%~0.03%、bao 12%~14%、sro 0.01%~1%、mgo 0.15%~0.4%、hfo2 0.01%~0.02%、b2o3 2%~3%、其余为微量元素,灼减0.05%~0.2%。
3.一种止滑陶瓷砖,其特征在于,包括依次设置的坯体层、化妆土层、止滑面釉层、图案层和保护釉层,所述保护釉层由权利要求1-2所述的止滑保护釉烧制得到。
4.一种止滑陶瓷砖,其特征在于,包括依次设置的坯体层、化妆土层、止滑面釉层、图案层、肌理釉层和保护釉层,所述保护釉层由权利要求1-2所述的止滑保护釉烧制得到;所述肌理釉层包括多个半球形的凸起结构。
5.根据权利要求4所述的止滑陶瓷砖,其特征在于,所述止滑面釉层由止滑面釉烧制得到,按重量百分数计,所述止滑面釉的化学组分包括:sio255%~60%、tio2 0.05%~0.15%、al2o3 22%~26%、fe2o3 0.15%~0.3%、mn3o4 0.01%~0.02%、mgo 2%~3%、cao 0.5%~1.5%、na2o 1.5%~2.5%、k2o 3%~5%、p2o5 0.1%~0.3%、so3 0.01%~0.03%、zro2 4.5%~5.5%、hfo2 0.1%~0.3%、bao 0.02%~0.04%、zno 1%~3%,灼减1.5%~3%。
6.根据权利要求5所述的止滑陶瓷砖,其特征在于,按重量百分数计,所述止滑面釉的制备原料包括:钾长石37%~39%、钠长石5%~7%、高岭土7%~9%、烧滑石4%~6%、硅酸锆7%~9%、石英15%~17%、氧化锌1%~3%、烧土6%~8%、氧化铝9%~11%。
7.根据权利要求4所述的止滑陶瓷砖,其特征在于,所述化妆土层由底釉烧制得到,按重量百分数计,所述底釉的化学组分包括:sio2 60%~62%、tio2 0.05%~0.15%、al2o322%~26%、fe2o3 0.1%~0.2%、mn3o4 0.01%~0.02%、mgo 1.5%~2.5%、cao 1%~2%、na2o 1.5%~3.5%、k2o 0.5%~1.5%、v2o5 0.01%~0.02%、nio 0.01%~0.02%、zro2 5%~7%、hfo2 0.1%~0.2%、bao 0.01%~0.02%、p2o5 0.1%~0.3%,灼减1.5%~2.5%。
8.根据权利要求7所述的止滑陶瓷砖,其特征在于,按重量百分数计,所述底釉的制备原料包括:气刀土9%~11%、煅烧高岭土14%~16%、钾长石19%~21%、钠长石27%~29%、烧滑石5%~7%、硅灰石2%~4%、石英7%~9%、硅酸锆9%~11%。
9.根据权利要求4所述的止滑陶瓷砖,其特征在于,所述凸起结构的高度为200~300微米;所述凸起结构的直径与高度的比值为10~20;所述凸起结构的表面接触角为10~25度;相邻两个凸起结构的间距为6~11微米。
10.一种陶瓷砖的制备方法,其特征在于,用于制备权利要求4-9任一项所述的止滑陶瓷砖,包括如下步骤: