一种带有调节结构的单晶炉副室清洁装置的制作方法

本技术具体涉及单晶炉清洁，具体是一种带有调节结构的单晶炉副室清洁装置。

背景技术：

1、单晶炉是一种在惰性气体(氮气、氦气为主)环境中,用石墨加热器将多晶硅等多晶材料熔化,用直拉法生长无错位单晶的设备；单晶炉副室则是用于提取单晶硅的设备。

2、中国专利申请号cn 215628409 u公开了一种单晶炉副室清理装置，属于单晶炉辅助设备技术领域，包括底座；电机箱，设置在所述底座上；多级伸缩杆，设置在所述底座上，与所述电机箱相连，通过所述电机箱驱动所述多级伸缩杆升降；支撑环，设置在所述多级伸缩杆的顶端。

3、上述一种单晶炉副室清理装置，是通过电机箱驱动多级伸缩杆向上抬升，带动支撑环向上抬升进入单晶炉副室内，支撑环上的清洁材料对炉筒内壁进行清理；但是，其圆环状的支撑环的大小是固定的，只能够固定内径的单晶炉副室进行清理，导致其工作范围很小，适用性不高；此外，上述一种单晶炉副室清理装置是通过支撑环的上下移动，带动清洁材料与单晶炉副室的内壁摩擦而达到清洁的效果，这种清洁方式的前提是需要让单晶炉副室的高度高于支撑环，因此需要将单晶炉副室吊起，而吊起单晶炉副室有需要其他装置才能够做到，因此上述单晶炉副室清理装置需要与起吊装置配合才能够对单晶炉副室进行清理，增加了单晶炉副室清理的困难度；

4、为此我们提供一种带有调节结构的单晶炉副室清洁装置，本装置的电机通过丝杆带动连接座和伸缩件旋转并上下移动，让伸缩件上套接的清洁布在旋转位移的过程中对单晶炉副室的内壁进行清洁，且伸缩件能够根据单晶炉副室的内径进行调整，能够对不同直径的单晶炉副室进行清洁；此外，本装置在清理单晶炉副室时，单晶炉副室位于本装置的下方，只需要将单晶炉副室垂直立在地面上即可，清理难度很低。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供一种带有调节结构的单晶炉副室清洁装置，以解决上述一种单晶炉副室清理装置圆环状的支撑环的大小是固定的，只能够固定内径的单晶炉副室进行清理，导致其工作范围很小，适用性不高；此外，上述一种单晶炉副室清理装置是通过支撑环的上下移动，带动清洁材料与单晶炉副室的内壁摩擦而达到清洁的效果，这种清洁方式的前提是需要让单晶炉副室的高度高于支撑环，因此需要将单晶炉副室吊起，而吊起单晶炉副室有需要其他装置才能够做到，因此上述单晶炉副室清理装置需要与起吊装置配合才能够对单晶炉副室进行清理，增加了单晶炉副室清理的困难度的问题。

2、为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

3、一种带有调节结构的单晶炉副室清洁装置，包括连接座，该连接座上均匀设有四个内槽；连接座的四个内槽进插接有伸缩件，且四个伸缩件远离连接座的一端均套接有清洁布；连接座的一侧固定连接有丝杆，该丝杆的另一端与电机的输出轴固定连接；所述的丝杆上螺纹连接有滑座，该滑座的底部均匀焊接有四个连接杆，且四个连接杆的另一端均与连接座焊接。

4、作为本实用新型的进一步技术方案，所述的电机通过螺栓与顶板固定连接，该顶板的底部四角均焊接有立柱。

5、作为本实用新型的进一步技术方案，四个所述的立柱的底部均与底板焊接，该底板的底部四角均焊接有支架。

6、作为本实用新型的进一步技术方案，所述的连接座下方设有单晶炉副室，该单晶炉副室呈圆柱形；单晶炉副室位于四个支架之间。

7、作为本实用新型的进一步技术方案，四个所述的伸缩件远离连接座的一端均呈圆弧状。

8、作为本实用新型的进一步技术方案，所述的丝杆的长度大于单晶炉副室的长度。

9、与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

10、1.本实用新型，使用时，将需要清理的单晶炉副室放置到连接座的下方，在电机的带动下，丝杆控制连接座旋转下降，连接座同步带动与其连接的四个伸缩件旋转下降，此时伸缩件上套接的清洁布会对单晶炉副室的内壁进行打磨，且清洁布是以旋转的方式进行清理，能够将单晶炉副室的内壁进行完整清理，不会出现遗漏的地方，有效保证清理效果；滑座与连接杆用于增强丝杆与连接座的连接，防止连接座在旋转的过程中发生脱落；四个伸缩件通过拧动螺丝能够改变长度，根据需要清理的单晶炉副室的内径来调节四个伸缩件的长度，让本装置能够对任意直径的单晶炉副室进行清理，增加了本装置的适用范围；此外，本装置在清理单晶炉副室时，单晶炉副室位于本装置的下方，只需要将单晶炉副室垂直立在地面上即可，清理难度很低；

11、2.本实用新型，顶板起到支撑电机的作用，同时能够降低电机运作时产生的震动，降低电机的震动对旋转中的伸缩件产生的影响，保证本装置对单晶炉副室的清理效果；

12、3.本实用新型，四个支架起到支撑本装置的作用，同时让本装置的高度高于单晶炉副室，方便将单晶炉副室放置到连接座下方，降低单晶炉副室清理的困难度。

技术特征：

1.一种带有调节结构的单晶炉副室清洁装置，其特征在于：包括连接座(1)，该连接座(1)上均匀设有四个内槽；连接座(1)的四个内槽进插接有伸缩件(2)，且四个伸缩件(2)远离连接座(1)的一端均套接有清洁布(3)；连接座(1)的一侧固定连接有丝杆(4)，该丝杆(4)的另一端与电机(5)的输出轴固定连接；所述的丝杆(4)上螺纹连接有滑座(6)，该滑座(6)的底部均匀焊接有四个连接杆(7)，且四个连接杆(7)的另一端均与连接座(1)焊接。

2.根据权利要求1所述的一种带有调节结构的单晶炉副室清洁装置，其特征在于：所述的电机(5)通过螺栓与顶板(8)固定连接，该顶板(8)的底部四角均焊接有立柱(9)。

3.根据权利要求2所述的一种带有调节结构的单晶炉副室清洁装置，其特征在于：四个所述的立柱(9)的底部均与底板(10)焊接，该底板(10)的底部四角均焊接有支架(11)。

4.根据权利要求3所述的一种带有调节结构的单晶炉副室清洁装置，其特征在于：所述的连接座(1)下方设有单晶炉副室(12)，该单晶炉副室(12)呈圆柱形；单晶炉副室(12)位于四个支架(11)之间。

5.根据权利要求4所述的一种带有调节结构的单晶炉副室清洁装置，其特征在于：四个所述的伸缩件(2)远离连接座(1)的一端均呈圆弧状。

6.根据权利要求5所述的一种带有调节结构的单晶炉副室清洁装置，其特征在于：所述的丝杆(4)的长度大于单晶炉副室(12)的长度。

技术总结
本技术公开了一种带有调节结构的单晶炉副室清洁装置，涉及单晶炉副室清洁技术领域，包括连接座，该连接座上均匀设有四个内槽；连接座的四个内槽进插接有伸缩件，且四个伸缩件远离连接座的一端均套接有清洁布；连接座的一侧固定连接有丝杆，该丝杆的另一端与电机的输出轴固定连接；电机带动四个伸缩件旋转下降，此时伸缩件上套接的清洁布会对单晶炉副室的内壁进行打磨，且清洁布是以旋转的方式进行清理，能够将单晶炉副室的内壁进行完整清理，不会出现遗漏的地方，四个伸缩件通过拧动螺丝能够改变长度，根据需要清理的单晶炉副室的内径来调节四个伸缩件的长度，让本装置能够对任意直径的单晶炉副室进行清理，增加了本装置的适用范围。

技术研发人员：窦长林,窦押华
受保护的技术使用者：江苏安惠环境设备科技有限公司
技术研发日：20230701
技术公布日：2024/3/17