专利名称:窑变抛釉砖及其生产方法
技术领域：
本发明涉及一种陶瓷制品，尤其涉及抛釉砖产品技术领域：
。
技术背景
陶瓷制品的应用场合非常广，仅以陶瓷砖为例，就可广泛应用于墙壁、地面，可用于家居或办公场所大面积的铺设，也可以用于小面积的装饰墙，或者是装饰画。不同的应用场合需要不同风格的产品。
公开号为CN1197043A，发明名称为“夜光印刷釉及其印花夜光釉面砖的制作方法” 的中国发明专利申请公开了一种夜光印刷釉及其印花夜光釉面砖的制作方法，其采用了瓷坯素烧、釉烧和夜光釉烤烧三次烧成工艺，制得的产品亮度高，余辉时间长，经照射后可在暗处发出彩色光。
公开号为CN1281778A，发明名称为“一种堆晶浮雕砖的生产方法”的中国发明专利申请公开了一种堆晶浮雕砖的生产方法，该方法利用熔块在高温熔融时乳浊熔块的熔解和流动在产品浮雕部分形成含有近似于结晶釉晶花的花纹组合，生产出来的产品浮雕部分具有独特的自然晶花，立体感强。
公开号为CN100387M5C，发明名称为“基于熔块包裹着色术的仿石材图案釉面陶瓷砖的制造方法”的中国发明专利公开了一种基于熔块包裹着色术的仿石材图案釉面陶瓷砖的制造方法，是将颜色釉浆经过喷涂、淋涂或甩洒等方式施涂至玻璃熔块表面，然后经过干燥，在熔块表面形成一定具有厚度的包裹层，而后将包裹着色的熔块按照预先设计好的方案铺积至陶瓷砖坯上，再补充施加粘性水浆液，使熔块颗粒层粘接固定在陶瓷砖坯上，再经干燥、烧成、抛磨等工艺，形成具有天然石材外观效果的图案。
再如，公开号为CN1644559，发明名称为“一种镀金属抛釉陶瓷制品及其制作工艺” 的中国发明专利公开了一种镀金属抛釉砖的制作工艺，其特点是先将釉料调制成的印花膏通过刻制成图案的网板印制在砖胚上，再在图案上印刷透明熔块粉，然后一次烧成，继而进行抛光处理。所制得的产品图案清晰、图案间界限分明、立体感强。在制作过程中，熔块粉和釉料不发生化学反应。熔块粉能使产品更富有立体感，但其本身并不构成图案的组成部分，只是起到把釉料印制成的图案固定在砖胚上的作用。为了能清晰地透出图案及色彩， 熔块粉必须采用透明的熔块粉。根据上述发明可成功地制作出色泽好、立体感强、图案线条清晰突出的陶瓷制品，满足某方面的市场需求。
但市场的需求是多样化的，因而生产者需要不断地研发及创新才能满足、甚至创造出多种多样的市场需求。
发明内容
本发明的目的在于填补现有技术的部分空白，提供一种图案及色彩具有自然混合，颜色渐变细腻、层次感强的抛釉砖及其生产方法。
为了达到上述发明目的，本发明采用了以下技术方案一种抛釉砖的生产方法，其特征在于依次包括以下步骤
(A)在砖胚上覆盖熔块粉，烧制，形成熔块层；
(B)在所述已烧成的熔块层上覆盖釉层并烧制，烧制时熔块层与釉层发生窑变反应以获得自然渐变图案；
(C)对所述半成品表层进行抛光处理；
其中所述步骤(A)是根据已制好的网板将调制好的熔块粉覆盖在砖面上形成图案，图案中的凹陷部分留空，然后进行第一次烧成，烧成温度为950 1050°C，烧成时间为 60 90分钟，形成带有凹陷的熔块层，
所述步骤(B)是根据已制好的网板在所述熔块层的表面印刷第一种釉料，对于凹陷的部位则留空，然后进行第二次烧成，烧成温度为950 1050°C，烧成时间为60 90分钟，形成釉料与熔块层反应后形成的窑变釉层；
所述熔块粉为透明或不透明熔块粉，细度范围为80 200目，化学组成用釉式表
示如下
权利要求
1.一种抛釉砖的生产方法，其特征在于依次包括以下步骤(A)在砖胚上覆盖熔块粉，烧制，形成熔块层；(B)在所述已烧成的熔块层上覆盖釉层并烧制，烧制时熔块层与釉层发生窑变反应以获得自然渐变图案；(C)对所述半成品表层进行抛光处理；其中所述步骤(A)是根据已制好的网板将调制好的熔块粉覆盖在砖面上形成图案，图案中的凹陷部分留空，然后进行第一次烧成，烧成温度为950 1050°C，烧成时间为60 90分钟，形成带有凹陷的熔块层，所述步骤(B)是根据已制好的网板在所述熔块层的表面印刷第一种釉料，对于凹陷的部位则留空，然后进行第二次烧成，烧成温度为950 1050°C，烧成时间为60 90分钟，形成釉料与熔块层反应后形成的窑变釉层；所述熔块粉为透明或不透明熔块粉，细度范围为80 200目，化学组成用釉式表示如下
2.根据权利要求
1所述的抛釉砖的生产方法，其特征在于所述生产方法还包括在烧制后的釉层表面镀上金属层。
3.根据权利要求
1所述的抛釉砖的生产方法，其特征在于还包括在第二次烧制后在所述图案中的凹陷部分填充另一种釉料，进行第三次烧制，烧成温度为750 950°C，烧成时间为60 90分钟。
4.根据权利要求
1所述的抛釉砖的生产方法，其特征在于还包括在所述图案中的凹陷部分填充第二种釉料，并在其上覆盖一透明熔块薄层，进行第三次烧成，烧成温度为 750 950°C，烧成时间为60 90分钟。
5.采用如权利要求
1-4之任一所述的抛釉砖的生产方法所生产的抛釉砖。
专利摘要
本发明公开了一种窑变抛釉砖的生产方法，依次包括以下步骤(A)在砖胚上覆盖熔块粉，烧制，形成熔块层；(B)在所述已烧成的熔块层上覆盖釉层并烧制，烧制时熔块层与釉层发生窑变反应以获得自然渐变图案。依本发明的方法所生产出来的抛釉砖，熔块层表面在窑炉的高温下与装饰釉层的釉料发生发应，图案的形状及色彩的形成不但取决于印制上去的釉料，还受熔块层表面与釉料发生发应后的结果而影响。受反应的影响，不同色块之间的边界模糊，过渡自然，具有成熟、高贵、华丽的美感。因此所制作的陶瓷砖装饰效果好，可作规则的铺排，也可以根据大型地面/墙壁设计，而铺设出具有强烈视觉效果的主题场景。
文档编号C04B33/34GKCN101747020 B发布类型授权 专利申请号CN 200910174289
公开日2012年7月4日 申请日期2009年9月16日
发明者唐纳德·温·黑格比, 陈满坚 申请人:陈满坚导出引文BiBTeX, EndNote, RefMan专利引用 (3), 非专利引用 (1),