技术特征：
技术总结
本发明公开了一种利用两个Lemont的纹枯病抗性基因的方法。该方法是利用D550、D856标记分别PCR扩增Lemont和扬稻4号组配的重组自交系分离群体内的不同株系，选出D550标记扩增的带型与Lemont带型相同的株系，且D856标记扩增的带型与Lemont带型相同的株系，即是携带两个来自Lemont的纹枯病抗病等位基因的双抗纹枯病的水稻株系。该方法可同时聚合2个纹枯病抗病基因获得抗纹枯病的水稻材料，可大大提高育种效率。
技术研发人员：梁燕;杨长登;曾宇翔;季芝娟
受保护的技术使用者：中国水稻研究所
技术研发日：2018.01.05
技术公布日：2018.07.24