一种手性二氢萘类化合物及其制备方法

本发明涉及手性二氢萘化合物，尤其涉及一种手性二氢萘类化合物及其制备方法。

背景技术：

1、二氢萘类化合物广泛存在于各种天然产物和生物活性分子中。研究表明，含有氢化萘结构单元的化合物具有解热、镇痛、抗炎等药理活性。目前，通过有机金属试剂对芳香萘底物进行去芳构化是构建二氢萘类化合物的最常用方法。但是，该方法具有底物局限性，通常需要使用缺电子萘作为起始材料。此外，二氢萘对映选择性合成鲜有报道，手性二氢萘的合成仍是一项具有挑战性的工作。

技术实现思路

1、本发明一实施方式提供了一种手性二氢萘类化合物，具有式1所示结构：

2、

3、其中，r1为苯基、取代苯基或呋喃基团，所述取代苯基的取代基选自甲基、甲氧基、二甲氨基，或者所述取代苯基为苯并噻吩基团；r2为氢、甲基、甲氧基或卤族原子。

4、根据本发明一实施方式，所述取代苯基中取代基的数量为1个、2个或3个；

5、所述卤族原子包括氟、氯、溴和碘。

6、根据本发明一实施方式，所述手性二氢萘类化合物选自下列化合物中的一种：

7、

8、本发明一实施方式进一步提供了一种上述的手性二氢萘类化合物的制备方法，包括通过在催化剂的作用下将化合物c1与化合物c2反应，制得所述手性二氢萘类化合物；其中，所述化合物c1、所述化合物c2的结构如下所示：

9、

10、r1为苯基、取代苯基或呋喃基团，所述取代苯基的取代基选自甲基、甲氧基、二甲氨基，或者所述取代苯基为苯并噻吩基团；r2为氢、甲基、甲氧基或卤族原子；

11、所述催化剂包括第一催化剂和第二催化剂，所述第一催化剂包括卡宾前体，所述第二催化剂包括钯配合物，所述钯配合物的配体为有机磷。

12、根据本发明一实施方式，所述卡宾前体包括如下化合物：

13、

14、根据本发明一实施方式，所述钯配合物包括如下配体：

15、

16、根据本发明一实施方式，所述化合物c1与所述化合物c2的反应温度为20～30℃，反应时间为24～48小时。

17、根据本发明一实施方式，所述卡宾前体的用量为15～20mol％，所述钯配合物的用量为8～10mol％，上述摩尔百分含量以所述化合物c2的物质的量为基准。

18、根据本发明一实施方式，所述方法包括通过将烯丙基氯化钯与所述有机磷反应制得所述钯配合物。

19、根据本发明一实施方式，所述化合物c2通过如下步骤制得：

20、将化合物c21与丙烯醛、醋酸酐反应制得化合物c22；以及

21、将所述化合物c22在酸性条件下进行脱保护反应，制得所述化合物c2；

22、所述化合物c21、所述化合物c22的结构如下：

23、

24、本发明一实施方式的手性二氢萘类化合物的制备方法，工艺简单且所制得的产物具有较高的对映选择性。

25、本发明一实施方式的手性二氢萘类化合物，制备工艺简单，可用作二氢萘类药物的制备原料或中间体。

26、本发明中，上述各技术方案之间还可以相互组合，以实现更多的优选组合方案。本发明的其他特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分优点可从说明书中变得显而易见，或者通过实施本发明而了解。本发明的目的和其他优点可通过说明书以及附图中所特别指出的内容中来实现和获得。

技术特征：

1.一种手性二氢萘类化合物，具有式1所示结构：

2.根据权利要求1所述的手性二氢萘类化合物，其中，所述取代苯基中取代基的数量为1个、2个或3个；

3.根据权利要求1所述的手性二氢萘类化合物，其选自下列化合物中的一种：

4.一种权利要求1至3中任一项所述的手性二氢萘类化合物的制备方法，包括通过在催化剂的作用下将化合物c1与化合物c2反应，制得所述手性二氢萘类化合物；其中，所述化合物c1、所述化合物c2的结构如下所示：

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述卡宾前体包括如下化合物：

6.根据权利要求4所述的方法，其中，所述钯配合物包括如下配体：

7.根据权利要求4所述的方法，其中，所述化合物c1与所述化合物c2的反应温度为20～30℃，反应时间为24～48小时。

8.根据权利要求4所述的方法，其中，所述卡宾前体的用量为15～20mol％，所述钯配合物的用量为8～10mol％，上述摩尔百分含量以所述化合物c2的物质的量为基准。

9.根据权利要求4至8中任一项所述的方法，包括通过将烯丙基氯化钯与所述有机磷反应制得所述钯配合物。

10.根据权利要求4至9中任一项所述的方法，其中，所述化合物c2通过如下步骤制得：

技术总结
本发明涉及一种手性二氢萘类化合物及其制备方法，该手性二氢萘类化合物具有式1所示结构；其中，R1为苯基、取代苯基或呋喃基团，所述取代苯基的取代基选自甲基、甲氧基、二甲氨基，或者所述取代苯基为苯并噻吩基团；R2为甲基、甲氧基或卤族原子。本发明一实施方式的手性二氢萘类化合物，制备工艺简单，可用作二氢萘类药物的制备原料或中间体。

技术研发人员：叶松,韩有风,张春林
受保护的技术使用者：中国科学院化学研究所
技术研发日：
技术公布日：2024/1/15