一种液晶玻璃基板清洗剂及其制备方法与流程

文档序号:35103360发布日期:2023-08-10 12:40阅读:58来源:国知局
一种液晶玻璃基板清洗剂及其制备方法与流程

本发明涉及清洗剂制备,具体为一种液晶玻璃基板清洗剂及其制备方法。


背景技术:

1、玻璃基板是液晶显示面板的核心部件;玻璃基板是构成液晶显示器件的一个基本部件,是一种表面极其平整的浮法生产薄玻璃片。

2、现有技术中,在商业上应用的液晶玻璃基板,其主要厚度为0.7mm至0.4mm。基本上,一片tft-lcd面板需使用到二片玻璃基板,分别供作底层玻璃基板及彩色滤光片之底板使用。在液晶玻璃基板的加工过程中,只有经过洁净清洗的玻璃基板才能导入包装工序进行成品包装存储。玻璃基板清洗效果主要通过测量被清洗基板表面附着的颗粒数量来衡量,颗粒数越低,清洗效果越好,成品品质越好。

3、但是,通过对清洗后玻璃基板的颗粒分布进行观察统计,发现颗粒主要是玻璃碎屑、玻璃粉、有机物、金属物、手印等杂质,且主要分布在玻璃基板四周及边缘部分。过多的颗粒存在,导致液晶玻璃基板清洗无效废弃,必须用专门清洗剂配合清洗机进行彻底清洗去除。所以,清洗剂对液晶玻璃基板的产品良率起到至关重要的作用。为此,本发明提出了一种液晶玻璃基板清洗剂及其制备方法。


技术实现思路

1、本发明的目的在于提供一种液晶玻璃基板清洗剂及其制备方法,以解决上述背景技术中提出的问题。

2、为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种液晶玻璃基板清洗剂,所述液晶玻璃基板清洗剂包括以下重量百分组分:碳氢化合物60-80%、乙二醇醚化合物5-15%、非离子表面活性剂3-10%、络合剂2-8%、络合助剂0.5-1%,其余为去离子水。

3、优选的,所述液晶玻璃基板清洗剂包括以下重量百分组分:碳氢化合物80%、乙二醇醚化合物5%、非离子表面活性剂3%、络合剂8%、络合助剂0.5%,其余为去离子水。

4、优选的,所述液晶玻璃基板清洗剂包括以下重量百分组分:碳氢化合物68%、乙二醇醚化合物10%、非离子表面活性剂6%、络合剂5%、络合助剂0.8%,其余为去离子水。

5、优选的,所述液晶玻璃基板清洗剂包括以下重量百分组分:碳氢化合物72%、乙二醇醚化合物15%、非离子表面活性剂10%、络合剂6%、络合助剂0.9%,其余为去离子水。

6、优选的,所述液晶玻璃基板清洗剂包括以下重量百分组分:碳氢化合物60%、乙二醇醚化合物10%、非离子表面活性剂8%、络合剂2%、络合助剂0.5%,其余为去离子水。

7、优选的,所述碳氢化合物选用异构烃、正构烃以及正构烃中的至少一种。

8、优选的,所述乙二醇醚化合物选自三聚氧乙烯亚乙基三聚氧乙烯双丁基醚、三聚氧乙烯亚乙基三聚氧乙烯双辛基醚、四聚氧乙烯苯甲基四聚氧乙烯双丁基醚、四聚氧乙烯亚丁基四聚氧乙烯双己烯醚中的至少一种。

9、优选的,所述非离子表面活性剂选自聚乙二醇双酸酯、脂肪醇聚氧乙烯醚中的一种。

10、优选的,所述络合剂选用羟基亚乙基二磷酸、羟基亚乙基二磷酸钠盐、羟基亚乙基二磷酸钾盐、羟基亚乙基二磷酸、羟基亚乙基二磷酸钠盐、羟基亚乙基二磷酸钾盐的一种或几种混合物;

11、络合助剂为三聚磷酸钠、三聚磷酸钾、多聚磷酸、多聚磷酸钠、多聚磷酸钾的至少一种。

12、一种液晶玻璃基板清洗剂的液晶玻璃基板清洗剂制备方法,所述制备方法包括以下步骤:

13、按照以下重量百分称取组分:碳氢化合物60-80%、乙二醇醚化合物5-15%、非离子表面活性剂3-10%、络合剂2-8%、络合助剂0.5-1%,其余为去离子水;

14、向反应釜中依次加入称取的去离子水、碳氢化合物、乙二醇醚化合物、非离子表面活性剂、络合剂以及络合助剂,直至充分混合均匀制得液晶玻璃基板清洗剂;

15、将制备的液晶玻璃基板清洗剂分别通过1微米、100纳米的过滤器过滤,最后进行灌装,制得液晶玻璃基板清洗剂成品。

16、与现有技术相比,本发明的有益效果是:

17、本发明提出的液晶玻璃基板清洗剂及其制备方法清洗效果好,组分和制备工艺简单,对环境没有污染,且清洗颗粒能力强,能够符合液晶玻璃基板的清洗质量要求;分别采用1微米、100nm过滤两级过滤,有效去除清洗剂本身的颗粒杂质,避免了液晶玻璃基板清洗过程中的二次污染。



技术特征:

1.一种液晶玻璃基板清洗剂,其特征在于:所述液晶玻璃基板清洗剂包括以下重量百分组分:碳氢化合物60-80%、乙二醇醚化合物5-15%、非离子表面活性剂3-10%、络合剂2-8%、络合助剂0.5-1%,其余为去离子水。

2.根据权利要求1所述的一种液晶玻璃基板清洗剂,其特征在于:所述液晶玻璃基板清洗剂包括以下重量百分组分:碳氢化合物80%、乙二醇醚化合物5%、非离子表面活性剂3%、络合剂8%、络合助剂0.5%,其余为去离子水。

3.根据权利要求1所述的一种液晶玻璃基板清洗剂,其特征在于:所述液晶玻璃基板清洗剂包括以下重量百分组分:碳氢化合物68%、乙二醇醚化合物10%、非离子表面活性剂6%、络合剂5%、络合助剂0.8%,其余为去离子水。

4.根据权利要求1所述的一种液晶玻璃基板清洗剂,其特征在于:所述液晶玻璃基板清洗剂包括以下重量百分组分:碳氢化合物72%、乙二醇醚化合物15%、非离子表面活性剂10%、络合剂6%、络合助剂0.9%,其余为去离子水。

5.根据权利要求1所述的一种液晶玻璃基板清洗剂,其特征在于:所述液晶玻璃基板清洗剂包括以下重量百分组分:碳氢化合物60%、乙二醇醚化合物10%、非离子表面活性剂8%、络合剂2%、络合助剂0.5%,其余为去离子水。

6.根据权利要求1所述的一种液晶玻璃基板清洗剂,其特征在于:所述碳氢化合物选用异构烃、正构烃以及正构烃中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的一种液晶玻璃基板清洗剂,其特征在于:所述乙二醇醚化合物选自三聚氧乙烯亚乙基三聚氧乙烯双丁基醚、三聚氧乙烯亚乙基三聚氧乙烯双辛基醚、四聚氧乙烯苯甲基四聚氧乙烯双丁基醚、四聚氧乙烯亚丁基四聚氧乙烯双己烯醚中的至少一种。

8.根据权利要求1所述的一种液晶玻璃基板清洗剂,其特征在于:所述非离子表面活性剂选自聚乙二醇双酸酯、脂肪醇聚氧乙烯醚中的一种。

9.根据权利要求1所述的一种液晶玻璃基板清洗剂,其特征在于:所述络合剂选用羟基亚乙基二磷酸、羟基亚乙基二磷酸钠盐、羟基亚乙基二磷酸钾盐、羟基亚乙基二磷酸、羟基亚乙基二磷酸钠盐、羟基亚乙基二磷酸钾盐的一种或几种混合物;

10.一种根据权利要求1-9任意一项所述的液晶玻璃基板清洗剂的液晶玻璃基板清洗剂制备方法,其特征在于:所述制备方法包括以下步骤:


技术总结
本发明涉及清洗剂制备技术领域,具体为一种液晶玻璃基板清洗剂及其制备方法,液晶玻璃基板清洗剂包括以下重量百分组分:碳氢化合物60‑80%、乙二醇醚化合物5‑15%、非离子表面活性剂3‑10%、络合剂2‑8%、络合助剂0.5‑1%,其余为去离子水;有益效果为:本发明提出的液晶玻璃基板清洗剂及其制备方法清洗效果好,组分和制备工艺简单,对环境没有污染,且清洗颗粒能力强,能够符合液晶玻璃基板的清洗质量要求;分别采用1微米、100nm过滤两级过滤,有效去除清洗剂本身的颗粒杂质,避免了液晶玻璃基板清洗过程中的二次污染。

技术研发人员:付元涛,章小琴,张培文,松尾壮一
受保护的技术使用者:华璞微电子科技(宁波)有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/1/14
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