本发明涉及显示,尤其涉及一种光学薄膜材料、光学薄膜的制备方法及显示面板。
背景技术:
1、目前,在传感器、显示器等器件中,常采用高折射率聚合物材料来改善光学传感效果以及显示效果。
2、在相关技术中,可以采用卤素原子或者纳米粒子来提高材料的折射率,但是,卤素原子因为毒性以及燃烧时产生的腐蚀性气体而被限制使用,而纳米粒子与聚合物的分散性和稳定性不好,且应用于光学器件中时,纳米粒子容易发生散射,进而影响器件的光学性能。
技术实现思路
1、本发明实施例提供一种光学薄膜材料、光学薄膜的制备方法及显示面板,能够提高光学薄膜的折射率。
2、本发明实施例提供一种光学薄膜材料,所述光学薄膜材料包括至少一如下通式所示的化合物;
3、
4、其中,r1和r2中的一者包括芳香环和/或硫原子,另一者包括丙烯酰氧基、芳香环以及硫原子中的至少一种。
5、在本发明的一种实施例中,所述r1和所述r2皆包括丙烯酰氧基。
6、在本发明的一种实施例中,所述光学薄膜材料包括第一化合物、第二化合物以及第三化合物中的至少一者;
7、其中,所述第一化合物的结构式如下所示:
8、
9、所述第二化合物的结构式如下所示:
10、
11、所述第三化合物的结构式如下所示:
12、
13、在本发明的一种实施例中,所述光学薄膜材料包括50~100质量份的所述第一化合物、0~50质量份的所述第二化合物以及0~50质量份的所述第三化合物。
14、在本发明的一种实施例中,所述光学薄膜材料还包括活性稀释剂以及光引发剂,其中,所述活性稀释剂包括含有单官能团的活性稀释剂或者含有双官能团的活性稀释剂,所述光引发剂包括i型光引发剂和/或ii型光引发剂。
15、在本发明的一种实施例中,所述光学薄膜材料包括10~30质量份的所述活性稀释剂以及1~10质量份的所述光引发剂。
16、根据本发明的上述目的,本发明实施例还提供一种光学薄膜的制备方法,其包括以下步骤:
17、提供光学薄膜材料,所述光学薄膜材料包括至少一如下通式所示的化合物;其中,r1和r2中的一者包括芳香环和/或硫原子,另一者包括丙烯酰氧基、芳香环以及硫原子中的至少一种;
18、采用所述光学薄膜材料制得所述光学薄膜。
19、在本发明的一种实施例中,所述提供光学薄膜材料的步骤还包括:
20、所述光学薄膜材料还包括活性稀释剂以及光引发剂;
21、将所述光学薄膜材料混合,以形成混合液;
22、采用所述混合液进行涂布,以得到中间薄膜;
23、对所述中间薄膜进行固化处理,以得到所述光学薄膜。
24、在本发明的一种实施例中,所述光学薄膜的折射率大于或等于1.5,且小于或等于1.8。
25、根据本发明的上述目的,本发明实施例还提供一种显示面板,所述显示面板包括光学薄膜,所述光学薄膜采用所述光学薄膜的制备方法制得。
26、本发明的有益效果:本发明通过在光学薄膜材料中形成芳香环和/或硫原子,而芳香环和硫原子皆能有效提高聚合物的折射率,因此,本发明实施例提供的光学薄膜材料可以形成具有较高折射率的光学薄膜;且该光学薄膜材料中没有卤素原子和添加型的金属氧化物纳米粒子,避免了因为毒性以及燃烧时产生的腐蚀性气体而被限制使用的现象发生,以及消除了纳米粒子对光的散射的不良影响。
1.一种光学薄膜材料,其特征在于,所述光学薄膜材料包括至少一如下通式所示的化合物;
2.根据权利要求1所述的光学薄膜材料,其特征在于,所述r1和所述r2皆包括丙烯酰氧基。
3.根据权利要求1所述的光学薄膜材料,其特征在于,所述光学薄膜材料包括第一化合物、第二化合物以及第三化合物中的至少一者;
4.根据权利要求3所述的光学薄膜材料,其特征在于,所述光学薄膜材料包括50~100质量份的所述第一化合物、0~50质量份的所述第二化合物以及0~50质量份的所述第三化合物。
5.根据权利要求3所述的光学薄膜材料,其特征在于,所述光学薄膜材料还包括活性稀释剂以及光引发剂,其中,所述活性稀释剂包括含有单官能团的活性稀释剂或者含有双官能团的活性稀释剂,所述光引发剂包括i型光引发剂和/或ii型光引发剂。
6.根据权利要求5所述的光学薄膜材料,其特征在于,所述光学薄膜材料包括10~30质量份的所述活性稀释剂以及1~10质量份的所述光引发剂。
7.一种光学薄膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
8.根据权利要求7所述的光学薄膜的制备方法,其特征在于,所述提供光学薄膜材料的步骤还包括:
9.根据权利要求7所述的光学薄膜的制备方法,其特征在于,所述光学薄膜的折射率大于或等于1.5,且小于或等于1.8。
10.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括光学薄膜,所述光学薄膜采用如权利要求7至9任一项所述的光学薄膜的制备方法制得。