一种基于普通基材MLCC离型膜及其制备方法与流程

本发明涉及离型膜，具体涉及一种基于普通基材mlcc离型膜及其制备方法。

背景技术：

1、mlcc离型膜是一种在mlcc(层积式陶瓷电容器)生产过程中必须使用的损耗品，生产mlcc的过程中需要将陶瓷浆料涂布在mlcc离型膜上，产品在经过烘干分切后需要进行多层堆叠，mlcc离型膜在整个生产过程中起到托底和表面保护的作用。

2、mlcc离型膜与普通离型膜的差异在于表面平整度的指标要求极高，表面的高低极差要求控制在500nm以内，满足此要求的离型膜产品才可以被使用在电子产品用mlcc内，电子产品mlcc要求体积小，电容大，这就要求mlcc内部可以进行上百次的堆叠，这对mlcc离型膜的表面平整度提出了极高的要求。

3、mlcc等级高平整度基材不仅价格昂贵且需要进口。mlcc等级基材的表面粗糙度低，离型涂层不易附着和流平，切收卷后易出现吸附的情况，放卷使用时离型层出现破坏的情况发生，导致离型膜的离型力不稳定。

4、因此，如何采用普通等级的pet基材(即表面粗糙度ra＞40nm)制得高平整度mlcc离型膜，是本领域技术人员需要解决的技术问题。

技术实现思路

1、本发明的目的之一在于克服现有技术中存在的缺陷，提供一种该基于普通基材mlcc离型膜，通过环氧树脂和硅氧烷类抗静电剂复配的抗静电平滑层降低基材的表面粗糙度，并提高离型层与基材的附着性；离型层通过羟基改性硅油优化该层的离型力稳定性和附着性。

2、为了实现上述工艺效果，本发明的技术方案为：一种基于普通基材mlcc离型膜，包括：

3、基材层，为未电晕pet基材；

4、抗静电平滑层，设置于所述基材层的至少一表面；

5、离型层，设置于所述抗静电平滑层远离所述基材层的表面；

6、所述抗静电平滑层的平滑涂布液包括环氧树脂、硅氧烷类抗静电剂、第一催化剂和第一溶剂，所述环氧树脂和硅氧烷类抗静电剂的质量比为1：(1～3)；

7、所述离型层的离型涂布液包括主剂硅油、交联剂、锚固剂、第二催化剂、羟基改性硅油和第二溶剂。

8、优选的技术方案为：按质量份数计，所述平滑涂布液包括环氧树脂10份、硅氧烷类抗静电剂10～25份、第一催化剂0.3～1份、第一溶剂20～40份。进一步的，平滑涂布液包括环氧树脂10份、硅氧烷类抗静电剂15～22份、第一催化剂0.3～0.8份、第一溶剂25～35份。

9、优选的技术方案为：所述第一溶剂包括甲苯、丁酮和环已酮，所述甲苯、丁酮和环已酮的质量比为1：1：(0.2～0.25)。进一步的，甲苯、丁酮和环已酮的质量比为1：1：(0.2～0.24)。

10、优选的技术方案为：所述硅氧烷类抗静电剂为

11、colcoat-n-103x，所述环氧树脂为三菱双酚f型环氧树脂jer807。

12、优选的技术方案为：按质量份数计，所述离型层的离型涂布液包括主剂硅油100份、交联剂0.1～0.5份、锚固剂0.3～0.8份、第二催化剂1～2份、羟基改性硅油0.1～0.5份和第二溶剂2000～3000份。进一步的，离型层的离型涂布液包括主剂硅油100份、交联剂0.1～0.3份、锚固剂0.3～0.6份、第二催化剂1～1.5份、羟基改性硅油0.1～0.3份和第二溶剂2300～2800份。

13、优选的技术方案为：所述主剂硅油为道康宁ltc-752，所述羟基改性硅油为信越x-22-343。

14、优选的技术方案为：所述第二溶剂包括甲苯、丁酮和正庚烷，所述甲苯、丁酮和正庚烷的质量比为(3～4)：(8～10)：(1～2)。

15、优选的技术方案为：所述抗静电平滑层的层厚为0.4～0.8μm。进一步的，抗静电平滑层的层厚为0.4～0.6μm。

16、本发明的目的之二在于克服现有技术中存在的缺陷，提供一种mlcc离型膜的制备方法，包括以下步骤：

17、s1：制备平滑涂布液和离型涂布液；

18、s2：将所述平滑涂布液涂覆于所述基材层的至少一表面，并第一次固化烘干，连续烘干温度依次设置为：90±5℃，110±5℃，110±5℃，110±5℃，110±5℃，95±5℃，得具有抗静电平滑层的坯膜；

19、s3：将所述离型涂布液涂覆于所述抗静电平滑层的表面，第二次固化烘干，连续烘干温度依次设置为：90±5℃，115±5℃，120±5℃，120±5℃，125±5℃，110±5℃，得具有离型层的薄膜；

20、s4：熟化所述薄膜，制得mlcc离型膜。

21、优选的技术方案为：所述熟化的温度为50～60℃。进一步的，熟化的温度为53～57℃。

22、本发明的优点和有益效果在于：

23、该基于普通基材mlcc离型膜，通过抗静电平滑层降低基材的表面粗糙度，并提高离型层与基材的附着性；

24、环氧树脂和硅氧烷类抗静电剂复配不仅提高基材表面的平滑性，且有利于抗静电剂的均匀分布，进而提高离型膜的抗静电稳定性和抗静电性，同时提高离型层的附着性；

25、离型涂布液通过羟基改性硅油优化离型膜的离型力稳定性，以及提高后道工序陶瓷浆料与离型膜的附着性。

技术特征：

1.一种基于普通基材mlcc离型膜，包括：

2.根据权利要求1所述的基于普通基材mlcc离型膜，其特征在于，按质量份数计，所述平滑涂布液包括环氧树脂10份、硅氧烷类抗静电剂10～25份、第一催化剂0.3～1份、第一溶剂20～40份。

3.根据权利要求1或2所述的基于普通基材mlcc离型膜，其特征在于，所述第一溶剂包括甲苯、丁酮和环已酮，所述甲苯、丁酮和环已酮的质量比为1：1：(0.2～0.25)。

4.根据权利要求1或2所述的基于普通基材mlcc离型膜，其特征在于，所述硅氧烷类抗静电剂为colcoat-n-103x，所述环氧树脂为三菱双酚f型环氧树脂jer807。

5.根据权利要求1所述的基于普通基材mlcc离型膜，其特征在于，按质量份数计，所述离型层的离型涂布液包括主剂硅油100份、交联剂0.1～0.5份、锚固剂0.3～0.8份、第二催化剂1～2份、羟基改性硅油0.1～0.5份和第二溶剂2000～3000份。

6.根据权利要求1或5所述的基于普通基材mlcc离型膜，其特征在于，所述主剂硅油为道康宁ltc-752，所述羟基改性硅油为信越x-22-343。

7.根据权利要求1或5所述的基于普通基材mlcc离型膜，其特征在于，所述第二溶剂包括甲苯、丁酮和正庚烷，所述甲苯、丁酮和正庚烷的质量比为(3～4)：(8～10)：(1～2)。

8.根据权利要求1所述的基于普通基材mlcc离型膜，其特征在于，所述抗静电平滑层的层厚为0.4～0.8μm。

9.一种mlcc离型膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

10.根据权利要求9所述的mlcc离型膜的制备方法，其特征在于，所述熟化的温度为50～60℃。

技术总结
本发明公开了一种基于普通基材MLCC离型膜，包括：基材层，为未电晕PET基材；抗静电平滑层，设置于基材层的至少一表面；离型层，设置于抗静电平滑层远离基材层的表面；抗静电平滑层的平滑涂布液包括环氧树脂、硅氧烷类抗静电剂、第一催化剂和第一溶剂，环氧树脂和硅氧烷类抗静电剂的质量比为1：(1～3)；离型层的离型涂布液包括主剂硅油、交联剂、锚固剂、第二催化剂、羟基改性硅油和第二溶剂。该基于普通基材MLCC离型膜，通过环氧树脂和硅氧烷类抗静电剂复配的抗静电平滑层降低基材的表面粗糙度，并提高离型层与基材的附着性；离型层通过羟基改性硅油优化该层的离型力稳定性和附着性。

技术研发人员：周永南,吴佳铭
受保护的技术使用者：江阴通利光电科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/31