专利名称：方片旋转涂胶机构的制作方法
技术领域：
方片旋转涂f交+几构駄领域本实用新型涉及光刻胶的胶涂技术，具体为一种方片旋转涂胶机构，应用于 板及平板显示器制造中方形基片(板)涂光刻f交工艺，也可在其它要求较高 均匀性的方形基片(板)涂覆工艺中运用。背景就在撤莫板及平板显示器制造中需要在基fei:涂覆一层光亥贩，要求均匀性很 高，然后经过曝光、显影等工艺使设计好的图形能够转移到基fei:。这是掩膜板 及平板显示器制造中的一项重要工序，胶膜质量直接影响到所成图形的质量。传统的旋转涂覆技术在掩膜板及平板显示器制造中得到广泛应用，通常采用 在一个圆形腔体内中心有一带吸附平台的旋转主轴，基片用真空吸附在平台上完 成涂覆工艺。这一方式广泛应用于圆形基片的涂胶工艺中，能够取得很好的胶膜 均匀性。但是，传统的旋涂方式在对方形基片涂胶过程中，由于本身的形状及周 边气流的影响方形基片四个角上的胶膜会变厚，极不均匀，造成四角周边很大-一 块区域不能使用，对基片是很大的浪费，并且可會媳成某些工艺要求无法实现。实用新型内容本实用新型的目的在于提《共一种方片旋转涂伊交+几构，解,统旋转涂覆方式 在涂胶过程中，方形基片的四角会出现胶膜不均匀而影响使用等问题。 本实用新型的技术方案是一种方片旋转涂胶机构，采用双层腔体结构，包括上盖、旋转盖板、承片台、 外腔体，方形基片吸附于承片台上，承片台夕刚设置外腔体，可升降的上誠部 安装旋转盖板；上盖扣在外腔体上，形成外层封闭腔体；旋转盖板扣在承片台上， 形成内层封闭腔体。戶;M承片台周边可以设有销子，旋转盖W1其上的销孔与承片台上的销子扣合。
戶;M承片台底部可连接由主轴电机驱动的旋转主轴。 臓外腔体外侦何设置用于滴加光刻胶的移动胶臂。 戶脱外层封闭腔体底部可连翻卿构。本实用新型的有益效果是1、 本实用新型方片旋转涂胶机构采用了旋转涂覆方式，其基本原理是先在方 形基片上滴一定量的光刻胶，然后瞬间加速快速甩胶，在高速旋转过程中使光刻 胶覆盖在方形基片表面形成一层胶膜，其均匀性、膜厚受到转速、加速度、气流 等多方面的影响。方片旋转涂胶机构正是运用于这一工艺，會巨够在方形基片上形 成一层均匀的胶膜，实现方形基片胶膜的整体均匀性。2、 本实用新型方片旋转涂胶机构的核心技术是采用双层腔体结构，内层由一 圆形旋转盖板和承片台扣在一起形成"^寸闭腔体，并带动方形基片一起旋转，通 过改变气流形成方形的均匀胶膜。该封闭腔体可以延缓光刻胶的挥发，使光刻胶 在旋转到方形基片纖时，有充足的时间沿边缘继续均匀涂胶。3、 本实用新型着眼于解决传统旋转涂覆方式产生的问题，在涂覆光刻胶工艺中能够在方形基片上形成一层均匀的胶膜，除方形基片边缘2 3mm边框以外， 整体均匀性很高。
图1为本实用新型方片旋转涂胶机构的结构图。图中，l上盖；2旋转盖板；3承片台；4主轴电机；5旋转主轴；6外腔体; 7移动胶臂；8销子；9方形基片。 具体鄉方式如图1所示，本实用新型方片旋转涂胶机构采用双层腔体结构，包括上盖l、 旋转盖板2、承片台3、外腔体6，方形基片9吸附于承片台3上，承片台3外侧 设置外腔体6，可升降的上盖1底部安装旋转盖板2。上盖1扣在外腔体6上，形 成外层封闭腔体；旋转盖板2扣在承片台3上，形成内层封闭腔体。承片台3周 边设有销子8，旋转盖板2通过其上的销孔与承片台上的销子扣合，承片台3底 部连接由主轴电机4驱动的旋转主轴5，夕卜腔体6外侧设置用于滴加光刻胶的移 动胶臂7。
本实用新型的工作过程为-
手动放片，承片台3抽真空吸附方形基片9，然后M移动胶臂7滴一定量 光刻l^ffi方形基片9上，移动胶臂7移出后，上盖1带动旋转盖板2—起下降， 上盖1扣在外腔体6上，旋转盖板2则扣在承片台3上，并通过承片台3周边的 销子8和其连在一起在主轴电机4驱动下，按预先设定的工艺参数(魏、力口速 度、旋转时间等)完成甩胶过程。
本实用新型方片旋转涂胶机构可嵌入全自动或独立式半自动方片、凃胶设备中 用于撤莫板及平M示器制造中。
权利要求1、一种方片旋转涂胶机构，其特征在于采用双层腔体结构，包括上盖(1)、旋转盖板(2)、承片台(3)、外腔体(6)，方形基片(9)吸附于承片台(3)上，承片台(3)外侧设置外腔体(6)，可升降的上盖(1)底部安装旋转盖板(2)；上盖(1)扣在外腔体(6)上，形成外层封闭腔体；旋转盖板(2)扣在承片台(3)上，形成内层封闭腔体。
专利摘要本实用新型涉及光刻胶的胶涂技术，具体为一种方片旋转涂胶机构，应用于掩膜板及平板显示器制造中方形基片涂光刻胶工艺，也可在其它要求较高均匀性的方形基片涂覆工艺中运用，解决传统旋转涂覆方式在涂胶过程中，方形基片的四角会出现胶膜不均匀而影响使用等问题。采用双层腔体结构，包括上盖、旋转盖板、承片台、外腔体，方形基片吸附于承片台上，承片台外侧设置外腔体，可升降的上盖底部安装旋转盖板；上盖扣在外腔体上，形成外层封闭腔体；旋转盖板扣在承片台上，形成内层封闭腔体。本实用新型可在涂覆光刻胶工艺中能够在方形基片上形成一层均匀的胶膜，除方形基片边缘2～3mm边框以外，整体均匀性很高。
文档编号B05C9/02GK201030353SQ200720011939
公开日2008年3月5日 申请日期2007年4月30日 优先权日2007年4月30日
发明者焱 陈 申请人:沈阳芯源微电子设备有限公司