疏水镀膜液及其所制备的抗污抗指纹镀膜层的生产工艺的制作方法

文档序号:3781137阅读:164来源:国知局
疏水镀膜液及其所制备的抗污抗指纹镀膜层的生产工艺的制作方法
【专利摘要】本发明涉及一种疏水镀膜液及其所制备的抗污抗指纹镀膜层的生产工艺,该疏水镀膜液包括有氟硅氧烷100质量份、全氟聚醚0.1~0.5质量份、蒸馏水或去离子水1~20质量份、醇10~50质量份以及无机酸0.1~2质量份;该镀膜层的生产工艺,包括如下步骤:首先将基材进行清洗,清洗后在基材的表面上进行羟基化处理;b、将疏水镀膜液倒入喷镀设备中,并将羟基化后的基材放入喷镀设备中进行喷镀作业;c、将喷镀后的基材放入烘烤箱中进行烘烤;烘烤温度为150℃;烘烤时间为30分钟。d、最后,将烘烤后的基材取出冷却10分钟即得具有抗污抗指纹镀膜层的基材。该镀膜层具有良好的抗污抗指纹性能且具有良好的超疏水性能和耐磨性能。
【专利说明】疏水镀膜液及其所制备的抗污抗指纹镀膜层的生产工艺
【技术领域】
[0001]本发明涉及镀膜领域技术,尤其是指一种疏水镀膜液及其所制备的抗污抗指纹镀膜层的生产工艺。
[0002]
【背景技术】
[0003]抗污、抗指纹膜层的功能即是降低物体表面的表面能(如玻璃或金属表面),形成一种超疏水特性的膜层。改变物体表面能的两种方法,一种是物理性表面粗糙改质法:根据自洁理论,表面为结构越粗糙,可产生越优良的疏水自洁效果,但粗糙的表面会造成可见光的严重散射,使涂层呈现非透明状态,并使机械物性如接着、抗磨等效果下降,此方法于目前保护玻璃产业并不适用;另一种方法是加入氟官能团的基团至高分子链上,伴随着烷基上氢原子被氟原子取代数目的增加,其表面能亦随着下降,物质表面可构成最低表面能与最高水滴触角的材料,是以-CF3形成的六方最密堆积之分子薄膜,其接触角可以达到120°,所有平坦表面结构的材料与水的接触角不会超过120°,因此一般含氟的高分子具有优越的疏水特性,只是这些含氟高分子与基材之间的范德华力很微弱,将会造成与基材的附着力不佳而无法直接涂覆于基材上。
[0004]_

【发明内容】

[0005]有鉴于此,本发明针对现有技术存在之缺失,其主要目的是提供一种疏水镀膜液以及由该疏水镀膜液所 制备的具有抗污抗指纹的镀膜层及其生产工艺,该镀膜层具有良好的抗污抗指纹性能且具有良好的超疏水性能和耐磨性能。
[0006]为实现上述目的,本发明采用如下之技术方案:一种疏水镀膜液,包括有:氟硅氧烧100质量份、全氟聚醚0.1~0.5质量份、蒸懼水或去离子水I~20质量份、醇10~50质量份以及无机酸0.1~2质量份。
[0007]所述氟硅氧烷的化学结构式为CF3-CF2-CF2-CF2-CF2-O-S1-(OCH3)3 ;该氟硅氧烷由含有全氟丁基醚的组合物及硅氧烷相互反应而成,该全氟丁基醚组合物为聚九氟丁基醚组合物。该CF3-CF2-CF2-CF2-CF2-O-S1-(OCH3)3中的-OCH3为可水解的烷氧基。
[0008]所述全氟聚醚的化学结构式为CF3-O-(CF2-O-CF2-CF2-O)n-CF3。该全氟聚醚能够和硅氧烷相互反应。
[0009]所述醇为甲醇或乙醇中的一种或两种。
[0010]所述无机酸为盐酸或硫酸或硝酸中的一种或几种。该无机酸对镀膜层的形成具有催化促进作用。
[0011]一种应用前述疏水镀膜液制备的抗污抗指纹镀膜层的生产工艺,包括如下步骤:
a、首先将需要进行抗污抗指纹镀膜的基材进行清洗,清洗后在基材的表面上进行羟基
化处理;经处理后的基材表面形成有羟基(-OH);b、将疏水镀膜液倒入喷镀设备中,并将羟基化后的基材放入喷镀设备中进行喷镀作业;在疏水镀膜液中CF3-CF2-CF2-CF2-CF2-O-S1-(OCH3)3中的烷氧基(-OCH3)水解生成羟基(-OH);
C、将喷镀后的基材放入烘烤箱中进行烘烤;烘烤温度为150°C;烘烤时间为30分钟。前述氟硅氧烷水解后的产生的羟基在该烘烤过程中易于与基材表面上的羟基反应失去一个水分子(H2O),将氟硅氧烷牢牢与基材相结合;即所形成的镀膜层很好的附着于基材上。此时全氟聚醚通过一系列的反应后也能够有效的附着于基材上。
[0012]d、最后,将烘烤后的基材取出冷却10分钟即得具有抗污抗指纹镀膜层的基材。
[0013]所述基材为玻璃。
[0014]所述喷镀设备为大气奈米喷镀设备。
[0015]本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果,本发明通过采用疏水镀膜液中的氟硅氧烷、全氟聚醚、蒸馏水或去离子水、醇以及无机酸在大气奈米喷镀设备中对经羟基化处理过的基材进行常压喷镀后进行烘烤,该疏水镀膜液经过一系列的反应并与基材上的羟基进行反应,使得由该疏水镀膜液所形成的镀膜层能够很好的附着于基材上,大大提高了镀膜层的附着力;同时本产品选用氟硅氧烷和全氟聚醚作为原料,其含有以-CF3集团其形成的六方最密堆积之分子薄膜,其接触角可以达到120°,由本发明疏水镀膜液所形成的平坦表面结构镀膜层与水的接触角为大于或等于110°,具有良好的疏水性能,即具有良好的抗污及抗指纹性能。
[0016]
【具体实施方式】
[0017]一种疏水镀膜液,包括有:氟硅氧烷100质量份、全氟聚醚0.1~0.5质量份、蒸馏水或去离子水I~20质量份、醇10~50质量份以及无机酸0.1~2质量份。所述氟硅氧烷的化学结构式为CF3-CF2-CF2-CF2-CF2-0-S1-(0CH3)3 ;所述全氟聚醚的化学结构式为CF3-0-(CF2-0-CF2-CF2-0)H-CF3 ;所述醇为甲醇;所述无机酸为盐酸。
[0018]对此,本发明人做了大量的实验,疏水镀膜液各组分含量的具体实验数据如下表所示:
【权利要求】
1.一种疏水镀膜液,其特征在于:包括有 氟硅氧烷100质量份; 全氟聚醚0.1~0.5质量份; 蒸馏水或去离子水I~20质量份; 醇10~50质量份; 无机酸0.1~2质量份。
2.根据权利要求1所述疏水镀膜液,其特征在于:所述氟硅氧烷的化学结构式为CF3-CF2-CF2-CF2-CF2-O-S1- (OCH3) 3。
3.根据权利要求1所述疏水镀膜液,其特征在于:所述全氟聚醚的化学结构式为CF3-O-(CF2-O-CF2-CF2-O)n-CF3。
4.根据权利要求1所述疏水镀膜液,其特征在于:所述醇为甲醇或乙醇中的一种或两种。
5.根据权利要求1所述疏水镀膜液,其特征在于:所述无机酸为盐酸或硫酸或硝酸中的一种或几种。
6.一种应用如权利要求1所述疏水镀膜液制备的抗污抗指纹镀膜层的生产工艺,其特征在于:包括如下步骤, a、首先将需要进行抗污抗指纹镀膜的基材进行清洗,清洗后在基材的表面上进行羟基化处理;经处理后的基材表面形成有羟基; b、将疏水镀膜液倒入喷镀设备中,并将羟基化后的基材放入喷镀设备中进行喷镀作业; C、将喷镀后的基材放入烘烤箱中进行烘烤;烘烤温度为150°C ;烘烤时间为30分钟; d、最后,将烘烤后的基材取出冷却10分钟即得具有抗污抗指纹镀膜层的基材。
7.根据权利要求6所述的抗污抗指纹镀膜层的生产工艺,其特征在于:所述基材为玻3? ο
8.根据权利要求6所述的抗污抗指纹镀膜层的生产工艺,其特征在于:所述喷镀设备采用大气奈米喷镀设备。
【文档编号】C09D183/12GK103865390SQ201210551082
【公开日】2014年6月18日 申请日期:2012年12月18日 优先权日:2012年12月18日
【发明者】方铭国, 萧建仁 申请人:锜玮科技(深圳)有限公司
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