一种滚磨加工研磨光亮剂的制作方法

文档序号:37461284发布日期:2024-03-28 18:44阅读:9来源:国知局

本发明涉及抛光试剂,具体为一种滚磨加工研磨光亮剂。


背景技术:

1、在滚磨研磨抛光加工过程中,化学剂起着重要的作用,合理选择研磨光亮剂不仅影响工件外观,而且会影响加工效率。研磨光亮剂的作用有:侵蚀零件表面,促进研磨抛光效率;充分浸润零件表面,清洗工件表面油污、磨粉、微切屑等杂质,使金属裸露基体,促进研磨抛光作用;润滑零件表面,避免抛磨块边棱及缺陷对表面的微观损伤;一定的起泡量,对抛磨块的冲击进行缓冲,形成稳定的压力工况;具有一定的分散作用,使研磨光亮剂水溶液“溶解”研磨抛光杂物,增强使用寿命;与抛磨块的交互作用,保持抛磨块的清洁润滑,避免抛磨块堵塞不自锐和过于锋利;具有一定的防锈能力,保护研磨抛光后裸露的金属基体不被迅速氧化;此外,具有一定的耐硬水能力等。

2、研磨光亮剂的配制一般依据所加工的工件材质的特性来决定。金属研磨抛光,表面侵蚀和表面润滑的平衡,是抛光的关键,侵蚀过强,表面易形成氧化膜,亮度不足;润滑过量,金属表面研磨能力不足,难以去除前序纹理,裸露金属基体,造成抛光不透亮,另外、浸润清洗能力不足,易造成研磨微粉及污染物附着金属表面,阻碍研磨抛光和元素沉积,造成抛不亮的现象;发泡缓冲能力不足,易造成金属表面围观的划伤、冲击磕伤等一系列表面完整性问题,造成无法形成微观反射镜面的情况,使金属表面白而不亮。


技术实现思路

1、(一)解决的技术问题

2、针对现有技术的不足,本发明提供了一种滚磨加工研磨光亮剂,解决了现有研磨光亮剂浸润清洗能力不足、发泡缓冲能力不足,易造成金属表面围观的划伤以及侵蚀过强,表面易形成氧化膜,亮度不足的问题。

3、(二)技术方案

4、为实现以上目的,本发明通过以下技术方案予以实现:一种滚磨加工研磨光亮剂,包括以下质量份数的原料:太古油:4.5~7.5份、乙二胺油酸酯:8~11.5份、c13异丙醇酰胺:5~9份、烷基胺酯ote:8~10份、助溶剂:0.5~1份、无机盐:0.5~1份、水:50~60份。

5、优选的,所述助溶剂为乙二醇、三乙醇胺与二乙醇胺的混合物。

6、优选的,所述无机盐为硅酸钾、焦磷酸钠与偏磷酸钠的混合物。

7、优选的,所述助溶剂包括以下制备步骤:将乙二醇、三乙醇胺与二乙醇胺置于搅拌炉a内,在30~35摄氏度以及50~80转每分钟转速下搅拌20~30分钟,得到所述助溶剂。

8、优选的,所述无机盐包括以下制备步骤:将硅酸钾、焦磷酸钠与偏磷酸钠置于搅拌炉b内,在80~100摄氏度以及20~30转每分钟转速下熔化搅拌50~60分钟,完成搅拌后,待冷却至20~30摄氏度时,得到所述无机盐。

9、优选的,一种滚磨加工研磨光亮剂制备方法,包括以下制备步骤

10、s1、取50~60份水置入反应釜内,将反应釜升温至70~80摄氏度,保温静置;

11、s2、取8~11.5份乙二胺油酸酯和5~9份c13异丙醇酰胺加入反应釜内在70~80摄氏度下搅拌10~30分钟,得到混合溶剂a;

12、s3、依次加入4.5~7.5份太古油、8~10份烷基胺酯ote置于所述反应釜内,在70~80摄氏度下边加入边搅拌110~120分钟,得到混合溶剂b;

13、s4、等待混合溶剂b在所述反应釜内静置澄清后即可得到滚磨加工研磨光亮剂成品。

14、优选的,所述s3步骤中,在所述反应釜搅拌50~60分钟时,将0.5~1份助溶剂以及0.5~1份无机盐加入至反应釜内混合搅拌。

15、优选的,所述s2以及s3步骤中,所述反应釜均以50~70转每分钟转速进行搅拌。

16、(三)有益效果

17、本发明提供了一种滚磨加工研磨光亮剂。具备以下有益效果:

18、1、本发明通过取乙二胺油酸酯和c13异丙醇酰胺加入反应釜内搅拌,乙二胺油酸酯保护抛光工件表面持续光洁度,同时具备去污力迅速、皂化能力突出、除蜡溶解力优异,使光亮剂具有一定的侵蚀能力,促进研磨抛光效率;具有一定的浸润能力,清洗工件表面油污、磨粉、微切屑等杂质,使金属裸露基体,促进研磨抛光作用。

19、2、本发明通过增加c13异丙醇酰胺成分,c13异构醇酰胺易溶于水,优异的渗透性,乳化性与增稠性,对油脂中包裹的炭黑,烟尘等颗粒污垢具有良好的分散作用,使光亮剂具有足够的润滑能力,避免抛磨块边棱及缺陷对表面的微观损伤;具有一定的缓冲能力,通过一定的发泡量对抛磨块的冲击进行缓冲,形成稳定的压力工况。

20、3、本发明通过增加的太古油成分,依次加入太古油、烷基胺酯ote置于反应釜内搅拌,得到混合溶剂b,太古油易溶于水形成乳浊液,使研磨光亮剂具有一定的分散作用,使研磨光亮剂水溶液“溶解”研磨抛光杂物,增强使用寿命;烷基胺酯ote是一种优异的阴离子表面活性剂,乳化、渗透、防锈方便表现突出,以及与抛磨块具有良好的交互性能,保持抛磨块的清洁润滑,避免抛磨块堵塞不自锐和过于锋利;具有一定的防锈能力,保护研磨抛光后裸露的金属基体不被迅速氧化;此外,具有一定的耐硬水能力,使用更广泛的工况。



技术特征:

1.一种滚磨加工研磨光亮剂,其特征在于:包括以下质量份数的原料:太古油:4.5~7.5份、乙二胺油酸酯:8~11.5份、c13异丙醇酰胺:5~9份、烷基胺酯ote:8~10份、助溶剂:0.5~1份、无机盐:0.5~1份、水:50~60份。

2.根据权利要求1所述的一种滚磨加工研磨光亮剂,其特征在于:所述助溶剂为乙二醇、三乙醇胺与二乙醇胺的混合物。

3.根据权利要求1所述的一种滚磨加工研磨光亮剂,其特征在于:所述无机盐为硅酸钾、焦磷酸钠与偏磷酸钠的混合物。

4.根据权利要求1所述的一种滚磨加工研磨光亮剂,其特征在于:所述助溶剂包括以下制备步骤:将乙二醇、三乙醇胺与二乙醇胺置于搅拌炉a内,在30~35摄氏度以及50~80转每分钟转速下搅拌20~30分钟,得到所述助溶剂。

5.根据权利要求1所述的一种滚磨加工研磨光亮剂,其特征在于:所述无机盐包括以下制备步骤:将硅酸钾、焦磷酸钠与偏磷酸钠置于搅拌炉b内,在80~100摄氏度以及20~30转每分钟转速下熔化搅拌50~60分钟,完成搅拌后,待冷却至20~30摄氏度时,得到所述无机盐。

6.根据权利要求1所述的一种滚磨加工研磨光亮剂制备方法,其特征在于:包括以下制备步骤

7.根据权利要求6所述的一种滚磨加工研磨光亮剂制备方法,其特征在于:所述s3步骤中,在所述反应釜搅拌50~60分钟时,将0.5~1份助溶剂以及0.5~1份无机盐加入至反应釜内混合搅拌。

8.根据权利要求6所述的一种滚磨加工研磨光亮剂制备方法,其特征在于:所述s2以及s3步骤中,所述反应釜均以50~70转每分钟转速进行搅拌。


技术总结
本发明提供一种滚磨加工研磨光亮剂,涉及抛光试剂技术领域。该一种滚磨加工研磨光亮剂,包括以下质量份数的原料:太古油:4.5~7.5份、乙二胺油酸酯:8~11.5份、C13异丙醇酰胺:5~9份、烷基胺酯OTE:8~10份、助溶剂:0.5~1份、无机盐:0.5~1份、水:50~60份。通过烟尘等颗粒污垢具有良好的分散作用,使光亮剂具有足够的润滑能力,避免抛磨块边棱及缺陷对表面的微观损伤;以及与抛磨块具有良好的交互性能,保持抛磨块的清洁润滑,避免抛磨块堵塞不自锐和过于锋利;具有一定的防锈能力,保护研磨抛光后裸露的金属基体不被迅速氧化;此外,具有一定的耐硬水能力,使用更广泛的工况。

技术研发人员:高云松,李秀红,郝玉鹏,石慧婷,王兴富
受保护的技术使用者:唐山用九机械制造有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/3/27
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