剥离层形成用组合物及剥离层的制作方法

本发明涉及剥离层形成用组合物及剥离层。

背景技术：

1、近年来，对于电子器件，除了薄型化和轻质化这样的特性以外，要求赋予能够弯曲的功能。由此，要求代替以往重、脆弱、不能弯曲的玻璃基板而使用轻质的柔性塑料基板。

2、特别地，作为新一代显示器，需要开发使用了轻质的柔性塑料基板(以下也称为树脂基板)的有源矩阵型全色tft显示器面板。另外，就触摸面板式显示器而言，开发了与显示器面板组合而使用的触摸面板的透明电极、树脂基板等与柔性化对应的材料。作为透明电极，提出了从以往使用的ito到pedot等可弯曲加工的透明导电性聚合物、金属纳米线及其混合系等另外的透明电极材料(专利文献1～4)。

3、另一方面，触摸面板膜的基材也从玻璃成为由聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、聚酰亚胺、环烯烃、丙烯酸系等塑料构成的片材等，开发出了具有柔性的透明柔性触摸屏面板(专利文献5～7)。

4、一般地，就柔性触摸屏面板而言，由于稳定地生产，因此通过在玻璃基板等支承基板上制作剥离(粘着)层，在其上制作器件后剥离，从而生产(专利文献8)。该柔性触摸面板屏在工序中不能从支承基板剥离，另一方面，在剥离时需要低剥离力。特别地，如果在柔性触摸屏面板的制作工序中从支承基板剥离，有可能招致制造线的污染等收率的大幅的下降。另外，为了提高生产率，在将剥离层制膜后，需要在被制膜的状态下长期保管。因此，对于剥离层，需要制膜后的稳定性。

5、现有技术文献

6、专利文献

7、专利文献1：国际公开第2012/147235号

8、专利文献2：日本特开2009-283410号公报

9、专利文献3：日本特表2010-507199号公报

10、专利文献4：日本特开2009-205924号公报

11、专利文献5：国际公开第2017/002664号

12、专利文献6：国际公开第2016/160338号

13、专利文献7：日本特开2015-166145号公报

14、专利文献8：日本特开2016-531358号公报

技术实现思路

1、发明要解决的课题

2、本发明鉴于上述实际情况而完成，目的在于提供具有高耐热性和适度的剥离性、能够抑制工序中的不必要的剥离、给予制膜后的稳定性优异的剥离层的剥离层形成用组合物。

3、用于解决课题的手段

4、本发明人为了实现上述目的，反复深入研究，结果，发现：通过使用包含(a)具有羟基或羧基的树脂、(b)光致产酸剂、(c)选自具有用羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂、(d)包含规定的重复单元的高分子添加剂、以及(e)溶剂的树脂组合物，通过曝光和显影工序能够在规定的区域形成剥离层，该剥离层具有与基体的优异的密合性和与树脂基板的适度的密合性和适度的剥离性，上述树脂组合物可再现性良好地给予上述剥离层，完成了本发明。

5、即，本发明提供下述剥离层形成用组合物及剥离层。

6、1.剥离层形成用组合物，其包含：(a)具有羟基或羧基的树脂、(b)光致产酸剂、(c)选自具有用羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂、(d)包含由下述式(a)表示的重复单元、由下述式(b)表示的重复单元和由下述式(c)表示的重复单元的高分子添加剂、和(e)溶剂，相对于(a)具有羟基或羧基的树脂100质量份，包含5～100质量份的(d)高分子添加剂，

7、[化1]

8、

9、(式中，ra各自独立地为氢原子或甲基；

10、rb为至少一个氢原子被氟原子取代的碳数3或4的分支状的烷基；

11、rc为碳数2～10的羟基烷基，羟基结合的碳原子为仲或叔碳原子；

12、rd为碳数6～20的多环式烷基或碳数6～12的芳基。)

13、2.根据1所述的剥离层形成用组合物，其中，(a)具有羟基或羧基的树脂为具有羟基的聚脲、具有羟基或羧基的丙烯酸系聚合物、具有羟基的聚酯、或具有羟基烷基的纤维素或其衍生物。

14、3.根据1或2所述的剥离层形成用组合物，其中，(b)光致产酸剂产生的酸为盐酸或有机磺酸。

15、4.剥离层，其由1～3中任一项所述的剥离层形成用组合物得到。

16、5.层叠体，其在4所述的剥离层将波长400nm的光的透射率为80％以上的树脂层层叠而成。

17、6.剥离层的制造方法，其包括：

18、使用1～3中任一项所述的剥离层形成用组合物在基体上形成树脂膜的工序；

19、用放射线将上述树脂膜的规定的区域曝光的工序；和

20、使上述曝光的树脂膜显影、将未曝光部除去的工序。

21、7.树脂基板的制造方法，其包括：

22、使用根据1～3中任一项所述的剥离层形成用组合物在基体上形成树脂膜的工序；

23、用放射线将上述树脂膜的规定的区域曝光的工序；

24、用显影液将照射了上述放射线的树脂膜显影、将未曝光部除去、在规定的区域形成剥离层的工序；

25、在规定的区域形成了上述剥离层的基体的面，以将上述剥离层全部覆盖的方式形成波长400nm的光的透射率为80％以上的树脂基板的工序；和

26、用1.0n/25mm以下的剥离力将在上述剥离层上形成的树脂基板剥离的工序。

27、发明的效果

28、通过使用本发明的剥离层形成用组合物，能够再现性良好地得到具有与基体的优异的密合性和与树脂基板的适度的剥离性、能够采用曝光和显影工序在规定的区域形成的剥离层。另外，在柔性电子器件的制造工艺中，不会对在基体上形成的树脂基板、进而在其上设置的电路等造成损伤，能够抑制在制造中途不必要的剥离，必要时能够与该电路等一起将该树脂基板从该基体分离。因此，本发明的剥离层形成用组合物可有助于具备树脂基板的柔性电子器件的制造工艺的高速化、其收率提高等。

技术特征：

1.一种剥离层形成用组合物，其包含：

2.根据权利要求1所述的剥离层形成用组合物，其中，(a)具有羟基或羧基的树脂为具有羟基的聚脲、具有羟基或羧基的丙烯酸系聚合物、具有羟基的聚酯、或具有羟基烷基的纤维素或其衍生物。

3.根据权利要求1或2所述的剥离层形成用组合物，其中，(b)光致产酸剂产生的酸为盐酸或有机磺酸。

4.一种剥离层，其由权利要求1～3中任一项所述的剥离层形成用组合物得到。

5.一种层叠体，其在权利要求4所述的剥离层将波长400nm的光的透射率为80％以上的树脂层层叠而成。

6.一种剥离层的制造方法，其包括：

7.一种树脂基板的制造方法，其包括：

技术总结
提供剥离层形成用组合物，其包含：(A)具有羟基或羧基的树脂、(B)光致产酸剂、(C)选自具有用羟基烷基和/或烷氧基甲基取代的氮原子的化合物中的交联剂、(D)包含由下述式(a)表示的重复单元、由下述式(b)表示的重复单元和由下述式(c)表示的重复单元的高分子添加剂、和(E)溶剂，相对于(A)具有羟基或羧基的树脂100质量份，包含5～100质量份的(D)高分子添加剂。

技术研发人员：古川优树,伊藤润,松山元信
受保护的技术使用者：日产化学株式会社
技术研发日：
技术公布日：2024/1/16