一种光学保护膜用胶黏剂、制备方法及光学保护膜与流程

本发明属于光学保护膜领域，涉及一种光学保护膜用胶黏剂、制备方法及光学保护膜。

背景技术：

1、显示用光学玻璃在制程与出货过程中，需要一层保护膜用于玻璃表面防护，在使用后会剥离表面保护膜。在撕膜过程中保护膜和玻璃之间会产生撕膜电压，若撕膜电压过高，将击穿触控传感器，并伴有出货测试时触摸屏电性能闪屏等异常问题，造成一定的损失。因此，要求保护膜撕膜电压低。

2、光学保护膜也朝着不含氟材料的方向发展；光学玻璃用的保护膜一般是聚氨酯型保护膜，而聚氨酯保护膜采用的抗静电剂常规使用的都是含氟材料的抗静电剂。

3、中国专利202310043588.8公开了一种用于静电保护膜的胶黏剂以及基于其制备的超低撕膜电压的静电保护膜，该胶黏剂的抗静电剂是n-甲基,丁基吡咯烷双三氟甲磺酰亚胺盐，所述的抗静电剂含有氟；中国专利202011104867.3提供了一种聚氨酯胶黏剂、pu保护膜及其制备方法和用途，所述的聚氨酯胶黏剂含有氟材料。

4、因此，光学薄膜发展过程中，急需解决胶黏剂不含氟材料同时满足应用的性能问题。

技术实现思路

1、本发明目的在于提供一种光学保护膜用胶黏剂、制备方法及光学保护膜，使得保护膜材料不含有氟材料，并具备低撕膜电压和耐湿热特性；撕膜电压小于300v，在温度为85℃和湿度是85％rh条件下，放置72小时后，玻璃表面无析出和残留。

2、为了达成上述技术目的，本申请提出如下技术方案，一种光学保护膜用胶黏剂，所述胶黏剂包括如下重量份的各物质：

3、聚醚多元醇8-22份；

4、二异氰酸酯15-30份；

5、扩链剂2-4份；

6、溶剂25-50份；

7、抗静电剂1-2份；

8、催化剂10.2-0.5份；

9、催化剂20.1-0.3份；

10、长链炔醇5-10份；

11、其中，所述催化剂1为二月桂酸二丁基锡、辛酸亚锡中的一种或任意重量比的两种；

12、所述催化剂2为过氧化二苯甲酰、偶氮二异丁腈中的一种或任意重量比的两种；

13、所述长链炔醇为十二烷基-11-炔-1-醇、9-十六炔-1-醇中的一种或任意重量比的两种。

14、作为本申请改进的技术方案，所述聚醚多元醇为聚四氢呋喃、聚丙二醇中一种或任意重量比的两种。

15、作为本申请改进的技术方案，所述二异氰酸酯为异氟尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯中的一种或任意重量比的两种。

16、作为本申请改进的技术方案，所述扩链剂为丙二醇、1，4环己二醇中的一种或任意重量比的两种。

17、作为本申请改进的技术方案，所述溶剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯、丁酮中的一种或任意重量比的多种。

18、作为本申请改进的技术方案，所述抗静电剂为1-乙基-3-甲基咪唑硫酸乙酯、硬脂酰二甲基戊基氯化铵、三羟乙基甲基季铵硫酸甲酯盐的一种或任意重量比的两种。

19、本申请另一目的是提供一种光学保护膜用胶黏剂的制备方法，所述胶黏剂采用如下步骤制备而成：

20、在装有搅拌器、温度计和回流冷凝管的四口烧瓶中，分别加入配比量的聚醚多元醇、二异氰酸酯、扩链剂、溶剂、催化剂1，开启搅拌升温至80-90℃反应，反应2-3小时，得到聚氨酯预聚体；

21、而后降温至45-60℃，加入配比量的长链炔醇，反应1-2小时，加入配比量的抗静电剂后，继续保持搅拌20-30分钟后降至室温，加入配比量的催化剂2后得到保护膜用胶黏剂。

22、本申请的再一目的是提供一种光学保护膜，所述光学保护膜是在pet基材的一面涂布有前述的胶黏剂，并在胶黏层再贴合一层离型膜。

23、有益效果

24、1.本发明制备的光学保护膜用胶黏剂中，通过长链炔醇的羟基和二异氰酸酯的异氰酸根反应，将含有炔键的长链引入高分子结构中，形成长侧链的高分子结构，长侧链的和抗静电剂的有机物的烷基链之间的相容性好，避免抗静电剂的析出。

25、2.本发明选用聚醚多元醇，增加了高分子的结构柔性，制成的保护膜也呈现柔性，剥离时产生的静电电压小。

26、3.本发明选用带有三键的长链炔醇，将三键引入到高分子链段中，制备的胶黏剂经过高温固化时，三键再催化剂2的作用下形成自由基反应，形成交联网状结构，提高胶黏剂的表面致密性，有利于对抗静电剂形成包裹，防止抗静电剂析出。

27、4.该保护膜胶层电阻在1*1010ω以下，保护膜的胶黏层贴合在玻璃表面后撕膜电压小于300v，并且贴合在玻璃表面后经高温高湿试验72h后，保护膜与玻璃表面贴合紧密，无气泡鼓起，撕除保护膜后无残胶、析出等弊病。

28、应当理解，前述构思以及在下面更加详细地描述的额外构思的所有组合只要在这样的构思不相互矛盾的情况下都可以被视为本公开的发明主题的一部分。

技术特征：

1.一种光学保护膜用胶黏剂，其特征在于，所述胶黏剂包括如下重量份的各物质：

2.根据权利要求1所述的一种光学保护膜用胶黏剂，其特征在于，所述聚醚多元醇为聚四氢呋喃、聚丙二醇中一种或任意重量比的两种。

3.根据权利要求1所述的一种光学保护膜用胶黏剂，其特征在于，所述二异氰酸酯为异氟尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯中的一种或任意重量比的两种。

4.根据权利要求1所述的一种光学保护膜用胶黏剂，其特征在于，所述扩链剂为丙二醇、1，4环己二醇中的一种或任意重量比的两种。

5.根据权利要求1所述的一种光学保护膜用胶黏剂，其特征在于，所述溶剂为乙酸乙酯、乙酸丁酯、丁酮中的一种或任意重量比的多种。

6.根据权利要求1所述的一种光学保护膜用胶黏剂，其特征在于，所述抗静电剂为1-乙基-3-甲基咪唑硫酸乙酯、硬脂酰二甲基戊基氯化铵、三羟乙基甲基季铵硫酸甲酯盐的一种或任意重量比的两种。

7.一种权利要求1-6任一所述的光学保护膜用胶黏剂的制备方法，其特征在于，所述胶黏剂采用如下步骤制备而成：

8.一种光学保护膜，其特征在于，所述光学保护膜是在pet基材的一面涂布有权利要求1-7任一所述的胶黏剂，并在胶黏层再贴合一层离型膜。

技术总结
本发明属于光学保护膜领域，涉及一种光学保护膜用胶黏剂、制备方法及光学保护膜，所述胶黏剂包括如下重量份的各物质：聚醚多元醇8‑22份；二异氰酸酯15‑30份；扩链剂2‑4份；溶剂25‑50份；抗静电剂1‑2份；催化剂10.2‑0.5份；催化剂20.1‑0.3份；长链炔醇5‑10份；其中，所述催化剂1为二月桂酸二丁基锡、辛酸亚锡中的一种或任意重量比的两种；所述催化剂2为过氧化二苯甲酰、偶氮二异丁腈中的一种或任意重量比的两种；所述长链炔醇为十二烷基‑11‑炔‑1‑醇、9‑十六炔‑1‑醇中的一种或任意重量比的两种。本申请获得的胶黏剂使得保护膜材料不含有氟材料，并具备低撕膜电压和耐湿热特性；撕膜电压小于300V，在温度为85℃和湿度是85％RH条件下，放置72小时后，玻璃表面无析出和残留。

技术研发人员：周守发,牛学红,安佳丽,胡万云,郑宇翔,朱业建,王林林
受保护的技术使用者：合肥乐凯科技产业有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/3/27