一种自清洁抗菌涂料的制备方法以及光学视窗玻璃与流程

文档序号:37817930发布日期:2024-04-30 17:27阅读:8来源:国知局
一种自清洁抗菌涂料的制备方法以及光学视窗玻璃与流程

本申请涉及摄像机成像,特别是涉及一种自清洁抗菌涂料的制备方法以及光学视窗玻璃。


背景技术:

1、透明光学视窗作为摄像机镜头的防护和采光的重要组成部件,对光学成像的清晰度,亮度,色彩饱和度等都有着关键性的影响,具有重要的研究意义。

2、然而,目前的光学视窗璃容易粘上灰尘等污物,并且容易留下指纹,如此不但使得产品外观不美观,并且会直接影响到产品的使用性能,给使用者使用带来不便。


技术实现思路

1、为解决上述技术问题,本申请提出了一种自清洁抗菌涂料的制备方法以及光学视窗玻璃。

2、为解决上述技术问题,本申请提出了一种自清洁抗菌涂料的制备方法,所述制备方法包括:

3、制备镍铁合金纳米粒子;

4、将所述镍铁合金纳米粒子加入银氨溶液,制备以银包覆镍铁合金纳米粒子的核壳结构;

5、利用树状大分子修饰所述核壳结构;

6、将修饰后的镍铁银纳米核壳结构加入甲氧基硅烷溶液,制备得到所述自清洁抗菌涂料。

7、其中,所述利用树状大分子修饰所述核壳结构,包括:

8、采用烷氧基硅烷和有机溶剂对所述核壳结构进行修饰。

9、其中,所述利用树状大分子修饰所述核壳结构,包括:

10、采用烷氧基硅烷和有机溶剂对所述核壳结构进行修饰。

11、其中,所述采用烷氧基硅烷和有机溶剂对所述核壳结构进行修饰,包括:

12、采用多种烷氧基硅烷和有机溶剂对所述核壳结构进行修饰,和/或采用烷氧基硅烷和有机溶剂对所述核壳结构进行多次修饰。

13、其中,所述采用烷氧基硅烷和有机溶剂对所述核壳结构进行修饰,包括:

14、将所述核壳结构溶于无水乙醇溶液,并加入n-甲基-3-氨丙基三甲氧基硅烷,干燥制得初次修饰的核壳结构;

15、将所述初次修饰的核壳结构溶于甲醇溶液,并加入丙烯酸乙酸脂和乙二胺,制得树状大分子修饰的核壳结构。

16、其中,所述将所述镍铁合金纳米粒子加入银氨溶液之前,所述制备方法还包括:

17、将所述镍铁合金纳米粒子加入无水乙醇,得到镍铁合金分散液;

18、在所述镍铁合金分散液加入3-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷,进行回流处理。

19、其中,所述制备镍铁合金纳米粒子,包括:

20、将硫酸亚铁、氯化镍,聚乙二醇和环己烷加入去离子水,得到预分散溶液;

21、在所述预分散溶液加入水合肼和氢氧化钠的混合液,经过干燥制得镍铁合金纳米粒子。

22、为解决上述技术问题,本申请还提出一种光学视窗玻璃,所述光学视窗玻璃包括上述的制备方法制备得到的自清洁抗菌涂料。

23、其中,所述光学视窗玻璃的自清洁抗菌涂料上还设置有微纳线圈,所述微纳线圈用于在所述光学视窗玻璃表面形成交变磁场,以使所述自清洁抗菌涂料上的核壳结构在所述交变磁场作用下来回摆动。

24、其中,所述微纳线圈包括交替涂覆的银浆层和绝缘层,其中,所述绝缘层的预设空间涂覆导电银浆;首层银浆层设有底部焊盘,尾层绝缘层设有上部焊盘,所述底部焊盘和所述上部焊盘焊接导线。

25、与现有技术相比,本申请的有益效果是:本申请制备镍铁合金纳米粒子;将镍铁合金纳米粒子加入银氨溶液,制备以银包覆镍铁合金纳米粒子的核壳结构;利用树状大分子修饰核壳结构;将修饰后的镍铁银纳米核壳结构加入甲氧基硅烷溶液,制备得到自清洁抗菌涂料。通过自清洁抗菌涂料的制备方法制备的自清洁抗菌涂料通过本身材料特性,可以释放视窗表面静电,实现防尘,通过ag离子,可以实现抗菌。



技术特征:

1.一种自清洁抗菌涂料的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括:

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,

3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于,

4.根据权利要求2或3所述的制备方法,其特征在于,

5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,

6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,

7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,

8.一种光学视窗玻璃,其特征在于,所述光学视窗玻璃包括权利要求1至权利要求7任一项所述的制备方法制备得到的自清洁抗菌涂料。

9.根据权利要求8所述的光学视窗玻璃,其特征在于,

10.根据权利要求9所述的光学视窗玻璃,其特征在于,


技术总结
本申请提出一种自清洁抗菌涂料的制备方法以及光学视窗玻璃。所述自清洁抗菌涂料的制备方法包括:制备镍铁合金纳米粒子;将镍铁合金纳米粒子加入银氨溶液,制备以银包覆镍铁合金纳米粒子的核壳结构;利用树状大分子修饰核壳结构;将修饰后的镍铁银纳米核壳结构加入甲氧基硅烷溶液,制备得到自清洁抗菌涂料。通过自清洁抗菌涂料的制备方法制备的自清洁抗菌涂料通过本身材料特性,可以释放视窗表面静电,实现防尘,通过Ag离子,可以实现抗菌。

技术研发人员:陈洁,汪聪,刘丁熙,郑博达,郜春山,徐琼华,苏传明,王雅莉
受保护的技术使用者:浙江大华技术股份有限公司
技术研发日:
技术公布日:2024/4/29
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