一种盖玻片表面处理有机硅收纳装置的制作方法

本实用新型涉及一种盖玻片表面处理有机硅收纳装置，其属于盖玻片表面处理有机硅收纳技术领域。

背景技术：

现有的盖玻片根据不同规格进行加工，加工后再进行表面处理，需要工人将盖玻片逐一进行处理，需要耗费大量的人力物力，导致工作效率较低，人工处理过程中容易毁坏盖玻片，产品质量无法得到保证，特此研发便于收纳并进行表面处理的一款盖玻片表面处理有机硅收纳装置。

技术实现要素：

本实用新型针对上述现有技术中存在的不足，提供一种盖玻片表面处理有机硅收纳装置。

本实用新型解决上述技术问题的技术方案如下：

一种盖玻片表面处理有机硅收纳装置，包括盒体，盒体内部设有横向贯通的取件槽，取件槽前后两侧均匀设有若干组对称的隔板，隔板与盒体内壁固定连接，相邻的隔板中心均设有通孔。

进一步，所述盒体、隔板和取件槽为一体成型。

进一步，所述盒体的顶面与隔板的顶面在同一平面上。

进一步，所述盒体的高度小于盖玻片的长度。

进一步，相邻所述的隔板之间的间距均大于盖玻片的厚度。

进一步，所述隔板的数量为十一个以上。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该收纳装置，结构简单，通过自主研发的有机硅收纳盒体收纳若干的盖玻片，确保盖玻片表面处理过程不容易毁坏，保证产品的质量，降低了工人的劳动强度，提高了工作效率。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型的结构俯视图。

图3为本实用新型的结构仰视图。

在图中，1、盒体；2、隔板；3、取件槽；4、通孔。

具体实施方式

以下结合附图对本实用新型的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本实用新型，并非用于限定本实用新型的范围。

如图1-3所示，一种盖玻片表面处理有机硅收纳装置，包括盒体1，盒体1内部设有横向贯通的取件槽3，取件槽3前后两侧均匀设有若干组对称的隔板2，隔板2与盒体1内壁固定连接，相邻的隔板2中心均设有通孔4。

所述盒体1、隔板2和取件槽3为一体成型。

所述盒体1的顶面与隔板2的顶面在同一平面上。

所述盒体1的高度小于盖玻片的长度。

相邻所述的隔板2之间的间距均大于盖玻片的厚度。

所述隔板2的数量为十一个以上。

工作原理：

盒体1采用有机硅材料一体成型，工人将盖玻片插入相邻的隔板2之间，一个盒体1内至少放入十片盖玻片，然后装有盖玻片的盒体1放入盖玻片表面处理装置内进行表面处理后取出，处理后残留的液体通过取件槽3和通孔流出控干后进行下一工序，该收纳装置，结构简单，通过自主研发的有机硅收纳盒体收纳若干的盖玻片，确保盖玻片表面处理过程不容易毁坏，保证产品的质量，降低了工人的劳动强度，提高了工作效率。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

技术特征：

1.一种盖玻片表面处理有机硅收纳装置，其特征在于：包括盒体(1)，盒体(1)内部设有横向贯通的取件槽(3)，取件槽(3)前后两侧均匀设有若干组对称的隔板(2)，隔板(2)与盒体(1)内壁固定连接，相邻的隔板(2)中心均设有通孔(4)。

2.根据权利要求1所述的盖玻片表面处理有机硅收纳装置，其特征在于：所述盒体(1)、隔板(2)和取件槽(3)为一体成型。

3.根据权利要求1所述的盖玻片表面处理有机硅收纳装置，其特征在于：所述盒体(1)的顶面与隔板(2)的顶面在同一平面上。

4.根据权利要求1所述的盖玻片表面处理有机硅收纳装置，其特征在于：所述盒体(1)的高度小于盖玻片的长度。

5.根据权利要求1所述的盖玻片表面处理有机硅收纳装置，其特征在于：相邻所述的隔板(2)之间的间距均大于盖玻片的厚度。

6.根据权利要求1所述的盖玻片表面处理有机硅收纳装置，其特征在于：所述隔板(2)的数量为十一个以上。

技术总结
本实用新型涉及一种盖玻片表面处理有机硅收纳装置，属于盖玻片表面处理有机硅收纳技术领域，包括盒体，盒体内部设有横向贯通的取件槽，取件槽前后两侧均匀设有若干组对称的隔板，隔板与盒体内壁固定连接，相邻的隔板中心均设有通孔，该收纳装置，结构简单，通过自主研发的有机硅收纳盒体收纳若干的盖玻片，确保盖玻片表面处理过程不容易毁坏，保证产品的质量，降低了工人的劳动强度，提高了工作效率。

技术研发人员：孙毓鑫;常宝琪
受保护的技术使用者：烟台三米电子科技有限公司
技术研发日：2020.12.02
技术公布日：2021.07.20