一种衬底分散机构的制作方法

1.本实用新型涉及片体输送技术领域，尤其涉及一种衬底分散机构。


背景技术：

2.现有的衬底分散机构是依靠底输送件和侧输送件来带动衬底分散输出，且侧输送件长度短，不作用于输出段的末端，使得位于输出段末端的衬底解除被侧输送件夹持的限制，使得该片衬底瞬间具有向前倾倒的可能，基于这种向前倾倒的可能使得该片衬底和后一片衬底可以分散开来。
3.但是这种使衬底倾倒的方式过渡不够流畅，依赖输出段末端的吹扫组件对衬底的运动轨迹进行限定。
4.所以，现有技术的技术问题在于：衬底在分散机构上的输出过程不够流畅。


技术实现要素：

5.本技术实施例提供一种衬底分散机构，解决了现有技术中衬底在分散机构上的输出过程不够流畅的技术问题；达到衬底在分散机构上输出流畅的技术效果。
6.本技术实施例提供一种衬底分散机构，作用于一由衬底组成的衬底组上，所述衬底分散机构包括：输送组件，所述输送组件的上方为一可容置衬底组的容置空间，且所述输送组件可承托一衬底组向第一方向运动；限位组件，所述限位组件分为两组，两组限位组件对称设置在容置空间的对立两侧；且每组限位组件包括一限位件；其中，两个限位件中的至少一个限位件沿第一方向从后向前向外倾斜设置，以使得限位组件具有第一状态；在第一状态下，两个限位件的后部夹持限定一衬底组，且两个限位件的前部间距大于该衬底组的宽度。
7.作为优选，所述限位件相对于衬底组的接触面为一平面，通过限位件使得一衬底组随所述输送组件运动的过程中逐步脱离限定。
8.作为优选，所述限位组件静止或运动速度小于所述输送组件的运动速度，使得所述衬底组相对于限位件沿第一方向向前运动。
9.作为优选，所述限位件为一固定件或一活动件。
10.作为优选，所述限位件具体为一长条状的块体，且所述块体的长度方向沿第一方向设置。
11.作为优选，所述限位组件还包括：底座，所述底座为固定状态，且底座位于所述容置空间的外侧；限位件座，所述限位件座和所述限位件连接；以及动作件，所述动作件分别连接底座和限位件座，通过动作件使得限位件座靠近容置空间。
12.作为优选，所述底座上还设置由一沿第一方向设置的滑轨，通过滑轨使得所述底座可带动带动限位件沿第一方向运动。
13.作为优选，两个所述限位件分设在所述容置空间的左右两侧。
14.作为优选，所述衬底分散机构还包括：吹扫组件，所述吹扫组件设置在限位组件沿
第一方向的前侧，且所述吹扫组件对应所述限位件的前部。
15.作为优选，所述限位组件沿第一方为固定设置，且所述吹扫组件固定设置在限位组件上。
16.作为优选，所述吹扫组件包括第一吹嘴和第二吹嘴，所述第一吹嘴和第二吹嘴沿衬底的高度上下设置。
17.本技术实施例中的上述一个或多个技术方案，至少具有如下一种或多种技术效果：
18.1、本技术实施例中，通过将两组限位组件中的至少一个限位件进行向外倾斜设置，推动硅片整体向前运动，以使得位于前侧的衬底在向前输送过程中逐渐摆脱来自限位组件限制，使得衬底可以逐渐进行倾倒、翻转动作，解决了现有技术中衬底在分散机构上的输出过程不够流畅的技术问题；达到衬底在分散机构上输出流畅的技术效果。
19.2、本技术实施例中，两组限位组件分设在容置空间的左右两侧，以防止衬底在向第一方向运动过程中左右向移位。此外，限位件相对于衬底的接触面为一平面，以便于限位件限位不同规格的衬底组时都可以稳定限位和顺畅解除限位。
20.3、本技术实施例中，吹扫组件对衬底进行吹扫，以便于促使衬底之间分散；具体分为上下设置的第一吹嘴和第二吹嘴，以便于通过控制第一吹嘴和第二吹嘴的工作时间来更好的促进衬底向前倾倒。
附图说明
21.图1为本实用新型一种衬底分散机构的前轴测向结构示意图；
22.图2为本实用新型一种衬底分散机构的后轴测向结构示意图；
23.图3为本实用新型中一种衬底分散机构的俯视向结构示意图；
24.图4为图3中a-a向的对称省略剖视图。
25.图中的附图标记为：1、输送组件；11、底板；12、挡板；2、限位组件；21、滑轨；22、底座；23、动作件；24、导柱；25、限位件座；251、连接板；252、限位件基座；26、限位件；3、吹扫组件；31、吹扫座；32、第一吹嘴；33、第二吹嘴；4、衬底组。
具体实施方式
26.本文中为部件所编序号本身，例如“第一”、“第二”等，仅用于区分所描述的对象，不具有任何顺序或技术含义。而本技术所说“连接”、“联接”，如无特别说明，均包括直接和间接连接(联接)。在本技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
27.在本技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第
一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
28.本技术实施例提供一种衬底分散机构，通过将两组限位组件中的至少一个限位件进行向外倾斜设置，推动硅片整体向前运动，以使得位于前侧的衬底在向前输送过程中逐渐摆脱来自限位组件限制，使得衬底可以逐渐进行倾倒、翻转动作，解决了现有技术中衬底在分散机构上的输出过程不够流畅的技术问题；达到衬底在分散机构上输出流畅的技术效果。
29.为了更好的理解上述技术方案，下面将结合说明书附图以及具体的实施方式对上述技术方案进行详细的说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅用以解释本技术，并不用于限定本技术。
30.一种衬底分散机构，参考说明书附图1，作用于一由衬底组成的衬底组上，衬底分散机构包括：输送组件、限位组件以及吹扫组件；其中，输送组件带动衬底组运动，限位组件限制衬底的位置，且吹扫组件配合限位组件使得衬底组分散输出衬底。
31.输送组件，参考说明书1-2，用于带动衬底组运动。输送组件的上方为一可容置衬底组的容置空间，且输送组件可承托一衬底组向第一方向运动(第一方向为输送组件运动的方向)。在一个实施例中，输送组件包括底板、挡板以及输送动力源，底板为承托衬底组的部件，挡板设置在底板的后端，用于保证整个衬底组都可以前进，具体限位推动源可以是丝杆、推缸等。在另一个实施例中，输送组件具体为一输送带组件。
32.限位组件，参考说明书附图1和3，用于限制硅片在运动状态时的轨迹。限位组件分为两组，两组限位组件对称设置在容置空间的对立两侧；且每组限位组件包括一限位件；其中，两个限位件中的至少一个限位件沿第一方向从后向前向外倾斜设置，以构成一个a角，以使得限位组件具有第一状态；在第一状态下，两个限位件的后部夹持限定一衬底组，且两个限位件的前部间距大于该衬底组的宽度。
33.关于限位组件的具体结构，限位组件包括：底座、限位件座、动作件、限位件以及导柱；其中，两组限位组件分设在容置空间的左右两侧，从左右两侧限制衬底组；底座位于容置空间的外侧，底座为固定状态和活动状态两种，在底座为固定状态时，限位组件仅具备限定衬底组运动轨迹的能力；在底座为活动状态时，底座下可设置一沿第一方向的滑轨和限位推动源，具体限位推动源可以是丝杆、推缸等驱动结构，以驱动底座在滑轨上运动。动作件分别连接底座和限位件座，通过动作件使得限位件座靠近容置空间，动作件可以是丝杠，也可以是推杆。限位件座和限位件连接；具体来说，限位件座包括连接板和限位件基座，连接板用于连接动作件和导柱，限位件基座用于连接限位件，且限位件相对于限位件基座外凸。
34.关于限位件的具体结构，限位件为一固定件或一活动件，限位组件静止或运动速度小于输送组件的运动速度，使得衬底组相对于限位件沿第一方向向前运动。参考说明书附图2，如限位件具体为一长条状的块体，优选为软质体，以保护衬底，且块体的长度方向沿第一方向设置。此外，限位件相对于衬底组的接触面为一平面，通过限位件使得一衬底组随输送组件运动的过程中逐步脱离限定。
35.吹扫组件，参考说明书附图3和4，吹扫组件设置在限位组件沿第一方向的前侧，且吹扫组件对应限位件的前部。吹扫组件包括吹扫座、第一吹嘴以及第二吹嘴，第一吹嘴和第二吹嘴设置在吹扫座上，第一吹嘴和第二吹嘴沿衬底的高度上下设置，可吹气或吹水。在一
个实施例中，限位件沿第一方为固定设置，且吹扫座固定设置在限位组件上。在另一个实施例中，限位件沿第一方向可活动，且吹扫组件和限位件之间分别独立设置。
36.工作原理：
37.输送机构带动衬底组沿第一方向向前运动，带动衬底相对于限位组件向前运动(限位组件可以是静止，也可以以一个慢于衬底组的运动速度运动)，以使得衬底逐渐脱离限位组件的限定，以使得不断对外输出的衬底组的前侧衬底始终保持在限位件的前段区域，以便于分散；并配合吹扫组件的吹扫动作使得位于衬底组前侧的衬底分散并对外输出。
38.技术效果：
39.1、本技术实施例中，通过将两组限位组件中的至少一个限位件进行向外倾斜设置，推动硅片整体向前运动，以使得位于前侧的衬底在向前输送过程中逐渐摆脱来自限位组件限制，使得衬底可以逐渐进行倾倒、翻转动作，解决了现有技术中衬底在分散机构上的输出过程不够流畅的技术问题；达到衬底在分散机构上输出流畅的技术效果。
40.2、本技术实施例中，两组限位组件分设在容置空间的左右两侧，以防止衬底在向第一方向运动过程中左右向移位。此外，限位件相对于衬底的接触面为一平面，以便于限位件限位不同规格的衬底组时都可以稳定限位和顺畅解除限位。
41.3、本技术实施例中，吹扫组件对衬底进行吹扫，以便于促使衬底之间分散；具体分为上下设置的第一吹嘴和第二吹嘴，以便于通过控制第一吹嘴和第二吹嘴的工作时间来更好的促进衬底向前倾倒。
42.尽管已描述了本实用新型的优选实施例，但本领域内的技术人员一旦得知了基本创造性概念，则可对这些实施例作出另外的变更和修改。所以，所附权利要求意欲解释为包括优选实施例以及落入本实用新型范围的所有变更和修改。
43.显然，本领域的技术人员可以对本实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样，倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内，则本实用新型也意图包含这些改动和变型在内。