一种晶体整列摆盘设备的制作方法

1.本实用新型属于摆盘设备技术领域，具体涉及一种晶体整列摆盘设备。


背景技术：

2.在电子元器件生产加工领域，摆盘机能够实现自动上料、摆盘等一系列操作，能够提高生产加工效率。在对若干微小晶体进行摆盘时，现有技术中的摆盘机通过输送带将治具盘输送到摆盘位置，然后摆盘机械手将微小晶体一个一个的放置在治具盘的凹槽内。需要说明的是，微小晶体的尺寸在1mm以下，即，长、宽、高的尺寸均在1mm以下。但是，上述摆盘过程中，摆盘机械手需要频繁的吸取和摆放微小晶体，在治具盘上的凹槽数量较多时，上述摆盘过程生产效率低。


技术实现要素：

3.本实用新型实施例提供一种晶体整列摆盘设备，旨在解决对凹槽数量较多的治具盘进行摆盘时、现有技术中通过摆盘机械手一个一个放置晶体的方式生产效率低的技术问题。
4.为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：
5.提供一种晶体整列摆盘设备，包括工作台以及输送机构，所述工作台上具有摆放位置，所述输送机构适于输送治具盘至所述摆放位置；其特征在于，所述工作台于摆放位置具有避让孔，晶体整列摆盘设备还包括：
6.接料盒，位于所述输送机构的上方，并通过第一支撑架固定在所述工作台的摆放位置；所述接料盒的底壁具有若干呈矩阵排列的落料孔，所述落料孔与摆放位置的治具盘上的凹槽一一对应；
7.晶体上料机构，包括位于所述接料盒上方的料仓和料道，所述料仓通过第二支撑架固定在所述工作台上；所述料道的高端与所述料仓连通，所述料道的低端斜向所述接料盒的落料孔；
8.振动机构，连接在所述接料盒上，适于振动所述接料盒内的晶体、以使晶体落入所述落料孔；以及
9.顶升机构，连接在所述工作台底部；所述顶升机构具有适于穿过所述避让孔的顶升端；所述顶升端适于顶升治具盘，以使治具盘的上表面与所述接料盒的下表面接触。
10.在一种可能的实现方式中，所述接料盒的底部具有挡片，所述挡片具有适于沿水平方向滑动的自由度，用于封堵部分所述落料孔。
11.在一种可能的实现方式中，所述接料盒的外侧壁连接有伸缩件，所述伸缩件具有与所述挡片连接的伸缩端。
12.在一种可能的实现方式中，所述接料盒底壁的中间位置高于所述接料盒底壁的两端位置，所述落料孔位于所述接料盒底壁的中间位置；所述接料盒的一端具有排料口，所述接料盒于所述排料口处设有适于吸取所述接料盒内晶体、并输送至所述料仓内的晶体回收
结构。
13.在一种可能的实现方式中，晶体整列摆盘设备还包括位于所述输送机构和所述接料盒之间的定心机构，所述定心机构包括：
14.第三支撑架，横跨所述输送机构，并连接在所述工作台上；所述第三支撑架的顶部为支撑台；所述支撑台上具有与所述避让孔对齐的第一通孔；以及
15.若干定心部，设在所述支撑台于第一通孔边缘的位置，且沿所述第一通孔的周向间隔设置；若干所述定心部具有适于沿第一通孔径向滑动的自由度；若干所述定心部适于同时靠近或远离所述第一通孔；
16.其中，在治具盘位于所述支撑台的第一通孔时，若干所述定心部均适于与治具盘的外周壁接触、以中心定位治具盘。
17.在一种可能的实现方式中，所述定心机构还包括：
18.定位部，设在所述支撑台的上表面；所述定位部具有与所述第一通孔对齐的第二通孔；所述定位部的顶部具有若干沿所述第二通孔径向设置的滑道，所述滑道与所述定心部一一对应；所述定位部的底部具有容置槽，所述容置槽与所述支撑台的上表面形成容置腔；
19.转环，转动设于所述容置腔内；所述转环上沿其周向间隔具有若干倾斜设置的引导槽，所述引导槽与所述定位部一一对应；所述引导槽的一端靠近所述第二通孔，另一端靠近所述转环的外周壁；以及
20.导向部，一端固定在所述定心部的底部，另一端与所述滑道和所述引导槽插接配合；
21.其中，在所述转环转动时，所述导向部在所述引导槽和所述滑道的配合下适于沿所述第一通孔的径向滑动。
22.在一种可能的实现方式中，晶体整列摆盘设备还包括设在所述输送机构进料端的治具盘上料机构，所述治具盘上料机构包括：
23.第四支撑架，连接在所述工作台上；
24.上料盘，转动设于所述第四支撑架的上表面；所述上料盘上沿其周向间隔设有若干第三通孔，第三通孔的直径小于治具盘的直径；
25.若干上料架，与所述第三通孔一一对应，且每一个上料架均设在第三通孔的边缘位置；每一个所述上料架均适于沿高度方向叠放若干治具盘；
26.顶升结构，设在所述第四支撑架的底部；所述顶升结构包括适于穿过所述第三通孔的顶升端，所述顶升端适于顶升所述上料架上的治具盘；以及
27.上料机械手，设在所述输送机构的进料端；所述上料机械手具有适于抓取所述上料架的治具盘的抓取状态，以及具有适于将治具盘放置在所述输送机构上的放置状态。
28.在一种可能的实现方式中，所述顶升机构包括：
29.顶升部，设在所述避让孔处，所述顶升部具有适于沿高度方向滑动的自由度；以及
30.顶升动力件，连接在所述工作台的底部；所述顶升动力件具有适于与所述顶升部连接的顶升端；
31.其中，所述顶升部适于顶升所述输送机构上的治具盘。
32.在一种可能的实现方式中，所述振动机构包括振动电机，所述振动电机连接在所
述接料盒上。
33.在一种可能的实现方式中，晶体整列摆盘设备还包括补料机构，所述补料机构设在所述输送机构的出料端；所述补料机构包括：
34.补料台；
35.输送结构，设在所述补料台顶部，且所述输送结构与所述输送机构的输送方向相同；所述输送结构的进料端与所述输送机构的出料端连接；
36.检测机构，设在所述补料台上，适于检测所述输送结构上的治具盘；以及
37.摆盘机械手，设在所述补料台上；所述摆盘机械手具有适于沿所述输送结构输送方向滑动的第一状态，以及具有适于沿垂直于所述输送结构输送方向滑动的第二状态；所述摆盘机械手具有适于沿高度方向滑动的抓取端；
38.其中，所述摆盘机械手适于补放治具盘上的晶体。
39.本技术实施例中，在对治具盘进行摆盘时，输送机构将治具盘输送到摆放位置；顶升机构的顶升端顶升治具盘，使得治具盘的上表面与接料盒的下表面接触；此时，治具盘上的凹槽与接料盒上的落料孔一一对应。料仓内的晶体经料道流入到接料盒内，通过振动机构的振动作用，能够使接料盒内的晶体进入到落料孔内，并最终落入到治具盘上的凹槽中，完成治具盘的摆盘操作。
40.本实用新型提供的一种晶体整列摆盘设备，与现有技术相比，通过振动机构使接料盒振动，能够使接料盒内的晶体经落料孔进入到治具盘的凹槽内。通过上述设置，能够提高治具盘的摆盘效率。
附图说明
41.图1为本实用新型实施例提供的一种晶体整列摆盘设备的示意图；
42.图2为图1中a部的放大示意图；
43.图3为图1中b部的放大示意图；
44.图4为图1中c部的放大示意图；
45.图5为本实用新型实施例提供的一种晶体整列摆盘设备的上料架部分的示意图；
46.图6为本实用新型实施例提供的一种晶体整列摆盘设备的上料盘部分的示意图；
47.图7为本实用新型实施例提供的一种晶体整列摆盘设备的第一支撑架部分的示意图；
48.图8为图7中d部的放大示意图；
49.图9为本实用新型实施例提供的一种晶体整列摆盘设备的定心机构部分的示意图；
50.图10为本实用新型实施例提供的一种晶体整列摆盘设备的工作台部分的示意图；
51.图11为图10中e部的放大示意图；
52.图12为本实用新型实施例提供的一种晶体整列摆盘设备的齿条部分的示意图；
53.图13为本实用新型实施例提供的一种晶体整列摆盘设备的定位部的示意图；
54.图14为本实用新型实施例提供的一种晶体整列摆盘设备的定位框部分的示意图；
55.图15为图14中f部的放大示意图。
56.附图标记说明：1、工作台；11、避让孔；2、输送机构；21、皮带输送机； 3、治具盘；
31、凹槽；4、接料盒；41、落料孔；42、第一支撑架；43、挡片； 44、定位框；441、滑槽；45、伸缩件；46、真空发生器；5、晶体上料机构； 51、料仓；52、料道；53、第二支撑架；6、振动机构；61、振动电机；7、顶升机构；71、顶升部；72、顶升动力件；721、第二导轨；722、第二滑块；723、第二输送皮带；8、定心机构；81、第三支撑架；811、支撑台；812、第一通孔； 813、条形槽；82、定心部；83、定位部；831、第二通孔；832、滑道；84、转环；841、引导槽；842、第一齿；85、导向部；851、导向杆；86、齿条；861、连接块；87、滑轨；9、治具盘上料机构；91、第四支撑架；911、顶升孔；92、上料盘；921、第三通孔；93、上料架；94、顶升结构；941、顶杆；942、驱动件；9421、第一导轨；9422、第一滑块；9423、第一输送皮带；9424、驱动电机；95、上料机械手；96、旋转电机；10、补料机构；1001、补料台；1002、输送结构；1003、摆盘机械手；1004、接料盘。
具体实施方式
57.为了使本实用新型所要解决的技术问题、技术方案及有益效果更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。
58.请一并参阅图1至图15，现对本实用新型提供的一种晶体整列摆盘设备进行说明。所述一种晶体整列摆盘设备，包括工作台1以及输送机构2，工作台1 上具有摆放位置，输送机构2适于输送治具盘3至摆放位置；工作台1于摆放位置具有避让孔11，晶体整列摆盘设备还包括接料盒4、晶体上料机构5、振动机构6以及顶升机构7；接料盒4位于输送机构2的上方，并通过第一支撑架42固定在工作台1的摆放位置；接料盒4的底壁具有若干呈矩阵排列的落料孔41，落料孔41与摆放位置的治具盘3上的凹槽31一一对应；晶体上料机构 5包括位于接料盒4上方的料仓51和料道52，料仓51通过第二支撑架53固定在工作台1上；料仓51为圆振料仓，圆振料仓为现有技术，在此不在赘述。料道52的高端与料仓51连通，料道52的低端斜向接料盒4的落料孔41；振动机构6连接在接料盒4上，适于振动接料盒4内的晶体、以使晶体落入落料孔 41；顶升机构7连接在工作台1底部；顶升机构7具有适于穿过避让孔11的顶升端；顶升端适于顶升治具盘3，以使治具盘3的上表面与接料盒4的下表面接触。
59.本技术实施例中，在对治具盘3进行摆盘时，输送机构2将治具盘3输送到摆放位置；顶升机构7的顶升端顶升治具盘3，使得治具盘3的上表面与接料盒4的下表面接触；此时，治具盘3上的凹槽31与接料盒4上的落料孔41 一一对应。料仓51内的晶体经料道52流入到接料盒4内，通过振动机构6的振动作用，能够使接料盒4内的晶体进入到落料孔41内，并最终落入到治具盘 3上的凹槽31中，完成治具盘3的摆盘操作。
60.本实用新型提供的一种晶体整列摆盘设备，与现有技术相比，通过振动机构6使接料盒4振动，能够使接料盒4内的晶体经落料孔41进入到治具盘3 的凹槽31内。通过上述设置，能够提高治具盘3的摆盘效率。
61.示例性的，输送机构2包括两个皮带输送机21，两个皮带输送机21设在工作台1的上表面，皮带输送机21为现有技术，在此不再赘述。两个皮带输送机21的输送方向相同，治具盘3放置在两个皮带输送机21的输送带上；在两个皮带输送机21的输送作用下，能够将治具盘3输送至摆放位置。在将治具盘 3输送至摆放位置时，顶升机构7的顶升端能够从两个皮带输送机21之间向上顶推治具盘3，能够将治具盘3顶推至接料盒4的底部。
62.在一些实施例中，如图1至图15所示，接料盒4的底部具有挡片43，挡片43具有适于
沿水平方向滑动的自由度，用于封堵部分落料孔41。
63.需要说明的是，在治具盘3上的凹槽31需要放置两种晶体时，例如，治具盘3上一半的凹槽31放置p极晶体，治具盘3上另一半的凹槽31放置n极晶体时，工作台1上的接料盒4可以为两组，两组接料盒4底部的挡片43分别遮挡接料盒4一半的落料孔41，且两组接料盒4被遮挡的落料孔41互补。治具盘3在通过其中一个接料盒4进行摆盘时，治具盘3上一半的凹槽31可以放置 p极晶体；然后治具盘3通过另一个接料盒4进行摆盘，能够对治具盘3另一半的凹槽31放置n极晶体。晶体上料机构5、振动机构6以及顶升机构7也为两组，分别与两组接料盒4对应设置，以在治具盘3上分别放置两种晶体。
64.示例性的，两组接料盒4上的落料孔41均可以分为第一区域和第二区域，在其中一个接料盒4的挡片43遮挡该接料盒4的第一区域时，另一个接料盒4 的挡片43遮挡另一个接料盒4的第二区域。通过上述设置，能够在治具盘3 上放置两种晶体。
65.示例性的，接料盒4底部固定设有定位框44，定位框44的顶部与接料盒4 的底部之间形成适于挡片43滑动的滑槽441；滑槽441的两端分别连通接料盒 4相对的两侧。其中一个接料盒4的挡片43从滑槽441的一端插入，另一个接料盒4的挡片43从滑槽441的另一端插入，因此两个挡片43能够分别遮挡两个接料盒4上对应的第一区域和第二区域。通过在接料盒4底部设置定位框44，能够使治具盘3插入到定位框44内，便于对治具盘3的位置进行定位。
66.示例性的，两个挡片43也可以在两个接料盒4的同侧端插入到滑槽441 内；在两个挡片43从接料盒4同侧端插入滑槽441时，挡片43上与第二区域对应的位置设置通孔。在其中一个挡片43遮挡其中一个接料盒4的第一区域时，另一个挡片43遮挡另一个接线盒的第二区域，且另一个挡片43的通孔与另一个接线盒的第一区域对齐。通过上述设置，两个挡片43可以设在接料盒4的同侧，且能够分别遮挡第一区域和第二区域。
67.在一些实施例中，如图1至图15所示，接料盒4的外侧壁连接有伸缩件 45，伸缩件45具有与挡片43连接的伸缩端。伸缩件45可以为气缸，气缸固定在第一支撑架42上，气缸的活塞杆与挡片43连接。通过气缸活塞杆的伸缩，能够驱动挡片43沿滑槽441滑动。
68.在一些实施例中，如图1至图15所示，接料盒4底壁的中间位置高于接料盒4底壁的两端位置，落料孔41位于接料盒4底壁的中间位置；接料盒4的一端具有排料口，接料盒4于排料口处设有适于吸取接料盒4内的晶体、并输送至料仓51内的晶体回收结构。
69.示例性的，排料口位于接料盒4一端的侧壁上，晶体回收结构包括真空发生器46和硅胶软管；真空发生器46固定在接料盒4的外侧壁，真空发生器46 的进料口与排料口连通，真空发生器46的出料口通过硅胶软管与料仓51连通。真空发生器46为现有技术，在此不再赘述。真空发生器46能够对接料盒4内剩余的晶体进行吸取，并从硅胶软管输送到料仓51内，实现晶体的自动回收功能。
70.在一些实施例中，如图1至图15所示，晶体整列摆盘设备还包括位于输送机构2和接料盒4之间的定心机构8，定心机构8包括第三支撑架81以及若干定心部82；第三支撑架81横跨输送机构2，并连接在工作台1上；第三支撑架 81的顶部为支撑台811；支撑台811上具有与避让孔11对齐的第一通孔812；若干定心部82设在支撑台811于第一通孔812边缘的位置，且沿第一通孔812 的周向间隔设置；若干定心部82具有适于沿第一通孔812径向滑动的自由度；若干定心部82适于同时靠近或远离第一通孔812；其中，在治具盘3位于支撑台811
的第一通孔812时，若干定心部82均适于与治具盘3的外周壁接触、以中心定位治具盘3。
71.应当理解的是，在顶升机构7向上顶升治具盘3时，先将治具盘3顶升至支撑台811的第一通孔812，此时通过若干定心部82沿第一通孔812的径向滑动，能够使若干定心部82同时靠近第一通孔812，并使若干定心部82与治具盘3的外周壁接触，因此能够对治具盘3进行中心定位。在对治具盘3进行中心定位后，顶升机构7继续向上顶升治具盘3，以使治具盘3的上表面与接料盒4的下表面接触，此时治具盘3上的凹槽31与接料盒4上的落料孔41一一对应。接料盒4内的晶体落入到落料孔41后，能够进入到治具盘3的凹槽31 内，从而完成对治具盘3的摆盘操作。
72.在一些实施例中，如图1至图15所示，定心机构8还包括定位部83、转环84以及导向部85；定位部83设在支撑台811的上表面；定位部83具有与第一通孔812对齐的第二通孔831；定位部83的顶部具有若干沿第二通孔831 径向设置的滑道832，滑道832与定心部82一一对应；定位部83的底部具有容置槽，容置槽与支撑台811的上表面形成容置腔；转环84转动设于容置腔内；转环84上沿其周向间隔具有若干倾斜设置的引导槽841，引导槽841与定位部83一一对应，滑道832上设有与引导槽841连通的条形槽，条形槽的方向沿第二通孔831的径向。引导槽841的一端靠近第二通孔831，另一端靠近转环84 的外周壁；导向部85一端固定在定心部82的底部，另一端与滑道832和引导槽841插接配合；其中，在转环84转动时，导向部85在引导槽841和滑道832 的配合下适于沿第一通孔812的径向滑动。
73.示例性的，转环84的外周壁固定设有若干第一齿842，支撑台811上沿转环84切向滑动设有齿条86，齿条86与转环84的第一齿842啮合。支撑台811 底部固定设有滑轨87，齿条86通过连接块861与滑轨87滑动配合。支撑台811 上开设有用于齿条86滑动的条形槽813，支撑台811底部固定设有电动推杆，电动推杆的推顶端与连接块861连接。电动推杆的轴线方向与齿条86的滑动方向平行。
74.通过推顶端驱动连接块861沿条型槽往复滑动，能够带动齿条86往复滑动，进而使转环84正转或反转，因此能够使若干定心部82同时靠近或远离治具盘 3，便于对治具盘3进行中心定位。
75.示例性的，滑道832和引导槽841内还设有导向杆851，导向杆851沿高度方向设置，且导向杆851与滑道832和引导槽841插接配合，并能够沿滑道 832和引导槽841滑动。导向部85可以为筒状结构，导向部85与导向杆851 插接配合。在导向部85插入到滑道832和引导槽841后，导向部85的外周壁与滑道832和引导槽841的外周壁接触。通过上述设置，在转环84转动过程中，导向部85和导向杆851能够沿引导槽841滑动；通过滑道832的导向作用，使得导向部85和导向杆851沿滑道832滑动。因此能够使若干定心部82同时靠近或远离第一通孔812。
76.在一些实施例中，如图1至图15所示，晶体整列摆盘设备还包括设在输送机构2进料端的治具盘上料机构9，治具盘上料机构9包括第四支撑架91、上料盘92、若干上料架93、顶升结构94以及上料机械手95；第四支撑架91连接在工作台1上；上料盘92转动设于第四支撑架91的上表面；上料盘92上沿其周向间隔设有若干第三通孔921，第三通孔921的直径小于治具盘3的直径；若干上料架93与第三通孔921一一对应，且每一个上料架93均设在第三通孔921的边缘位置；每一个上料架93均适于沿高度方向叠放若干治具盘3；顶升结构94设在第四支撑架91的底部；顶升结构94包括适于穿过第三通孔921 的顶升端，顶升端适于顶
升上料架93上的治具盘3；上料机械手95设在输送机构2的进料端；上料机械手95具有适于抓取上料架93的治具盘3的抓取状态，以及具有适于将治具盘3放置在输送机构2上的放置状态。
77.需要说明的是，上料机械手95为现有技术，在此不再赘述。上料架93包括沿第三通孔921周向设置的若干挡杆，每一个挡杆均固定在上料盘92上。治具盘3沿高度方向叠放在若干挡杆之间；由于第三通孔921的直径小于治具盘 3的直径，因此在将治具盘3放置在上料盘92的第三通孔921的位置时，治具盘3并不会从第三通孔921中落下，因此便于对治具盘3进行放置。
78.示例性的，第四支撑架91靠近输送机构2的位置设有适于与其中一个第三通孔921对齐的顶升孔911；顶升结构94包括顶杆941和驱动件942，顶杆941 和驱动件942均位于第四支撑架91上，且位于上料盘92的下方；顶杆941与顶升孔911对应设置。驱动件942包括第一导轨9421、第一滑块9422、第一输送皮带9423和驱动电机9424；第一导轨9421和驱动电机9424均固定在上料架93上，第一输送皮带9423转动设在第一导轨9421上，且第一输送皮带9423 的转动方向沿上下方向。第一滑块9422与第一输送皮带9423的一侧固定连接，因此在第一输送皮带9423转动过程中能够带动第一滑块9422沿第一导轨9421 滑动，进而使顶杆941穿过顶升孔911和第三通孔921后，将支撑架上的若干治具盘3向上顶升一个治具盘3厚度的距离。
79.示例性的，第四支撑架91的底部固定设有旋转电机96，旋转电机96的输出轴穿过第四支撑架91并与上料盘92连接，通过旋转电机96输出轴的转动能够带动上料盘92转动预设角度，进而使下一个上料架93转动至顶升孔911的位置。
80.在一些实施例中，如图1至图15所示，顶升机构7包括顶升部71以及顶升动力件72；顶升部71设在避让孔11处，顶升部71具有适于沿高度方向滑动的自由度；顶升动力件72连接在工作台1的底部；顶升动力件72具有适于与顶升部71连接的顶升端；其中，顶升部71适于顶升输送机构2上的治具盘 3。
81.示例性的，顶升动力件72包括第二导轨721、第二滑块722、第二输送皮带723和驱动电机9424；第二导轨721和驱动电机9424固定在工作台1的下表面，第二输送皮带723转动设在第二导轨721上，驱动电机9424的输出轴适于驱动第二输送皮带723转动；第二输送皮带723的转动方向沿上下方向。第二滑块722与第二输送皮带723的其中一侧固定连接；在第二输送皮带723转动时，能够带动第二滑块722沿上下方向滑动；第二滑块722与顶升部71固定连接，在第二滑块722沿上下方向滑动时，能够带动顶升部71沿上下方向滑动，进而便于顶升部71对输送机构2上的治具盘3进行顶升。
82.在一些实施例中，如图1至图15所示，振动机构6包括振动电机61，振动电机61连接在接料盒4上。振动电机61为两个，其中一个振动电机61的轴线竖直设置，另一个振动电机61的轴线水平设置。通过在接料盒4上设置两个上述振动电机61，能够在水平方向和竖直方向对晶体的方向进行校正，进而便于晶体落入到落料孔41中。
83.在一些实施例中，如图1至图15所示，晶体整列摆盘设备还包括补料机构 10，补料机构10设在输送机构2的出料端；补料机构10包括补料台1001、输送结构1002、检测机构以及摆盘机械手1003；输送结构1002设在补料台1001 顶部，且输送结构1002与输送机构2的输送方向相同；输送结构1002的进料端与输送机构2的出料端连接；检测机构设在补料台
1001上，适于检测输送结构1002上的治具盘3；摆盘机械手1003设在补料台1001上；摆盘机械手1003 具有适于沿输送结构1002输送方向滑动的第一状态，以及具有适于沿垂直于输送结构1002输送方向滑动的第二状态；摆盘机械手1003具有适于沿高度方向滑动的抓取端；其中，摆盘机械手1003适于补放治具盘3上的晶体。
84.需要说明的是，摆盘机械手1003为现有技术，在此不再赘述。补料台1001 上的输送结构1002与输送机构2的结构相同，在此不再赘述。检测机构也可以固定在摆盘机械手1003上。检测机构包括检测相机，检测相机能够对摆盘完毕的治具盘3进行拍照，并对治具盘3上的晶体的状态进行检测。在治具盘3上的晶体歪斜或者治具盘3上有部分凹槽31没有晶体时，通过摆料机械手对治具盘3进行补料。摆料机械手的补料过程与现有技术中的摆盘过程相同，在此不再赘述。通过上述设置，能够保证治具盘3上的晶体的摆放质量。
85.示例性的，补料台1001上也设有料仓51和料道52，料仓51和料道52的设置方式可以与晶体上料机构5的料仓51和料道52的设置方式相同。补料台 1001上设有适于接料的接料盘1004，接料盘1004位于滑道832的低端。通过设置料仓51和料道52，能够让晶体进入到接料盘1004上，进而便于摆盘机械手1003吸取接料盘1004上的晶体。需要说明的是，料仓51上固定设有振动电机，通过振动电机的振动，能够使料仓51内的晶体进入到料道52上，进而使晶体滑落到接料盘1004上。
86.以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。