表面处理工件周转盘的制作方法

本技术涉及表面处理设备领域，特别是一种表面处理工件周转盘。

背景技术：

1、本表面处理是在基体材料表面上人工形成一层与基体的机械、物理和化学性能不同的表层的工艺方法，表面处理的目的是满足产品的耐蚀性、耐磨性、装饰或其他特种功能要求。

2、表面处理的方式包括，化学表面处理:发蓝发黑、磷化、酸洗、化学镀各种金属与合金、td处理、qpq处理、化学氧化等；电化学表面处理:阳极氧化、电化学抛光、电镀等；现代表面处理:化学气相沉积cvd、物理气相沉积pvd、离子注入、离子镀、激光表面处理等。

3、现有技术中，授权公告号为“cn208556311u”的实用新型专利公开了一种镭射激光用自动上下料平台，对于需要进行镭射处理的工件，通常将工件放置在周转盘内，然后操作者将周转盘内的工件取出，或设备采用吸盘的方式将周转盘内的工件取出，周转盘起到放置工件的作用，为了更好地固定零件，周转盘内通常具有与工件相配合的凹槽，但是工件与凹槽卡嵌过深，将会导致工件难以从凹槽内取出。

技术实现思路

1、本实用新型的目的是为了解决上述问题，提出一种表面处理工件周转盘，具有取出工件方便的优点。

2、实现上述目的本实用新型的技术方案为，一种表面处理工件周转盘，包括固定盘和支撑盘，所述固定盘内设置有用于容纳工件的凹槽，所述凹槽在固定盘内均匀分布，所述凹槽的底部设置有通孔，每一所述通孔内滑移连接有活动柱，所述活动柱沿通孔的高度方向移动，所述活动柱的侧面设置有限位环，所述限位环的直径大于通孔的直径，所述活动柱包括顶部的顶出端和底部的凸缘端，所述支撑盘内滑移连接有活动杆，所述活动杆沿支撑盘的宽度方向延伸，所述活动杆沿支撑盘的长度方向滑移，所述支撑盘宽度方向的两侧设置有滑移槽，所述滑移槽沿支撑盘的长度方向延伸，所述活动杆长度方向的两端延伸出滑移槽形成施力端；所述活动杆移动时与凸缘端接触，并将活动柱向上顶起；所述活动柱脱离与凸缘端接触后，活动柱在重力作用下向下移动。

3、作为优选，所述固定盘的上表面向下凹陷形成上容纳槽，所述上容纳槽的上表面高于工件的上表面，所述凹槽位于上容纳槽内。

4、通过采用上述技术方案，避免工件与放置在其上的固定盘或支撑盘发生干涉。

5、作为优选，所述凹槽的侧面设置有半圆槽，所述半圆槽延伸至凹槽内。

6、通过采用上述技术方案，半圆槽供操作者拿取工件。

7、作为优选，所述固定盘的底部向上凹陷形成下容纳槽，所述通孔位于下容纳槽的上表面。

8、作为优选，所述固定盘与支撑盘之间设置有固定凸块与固定槽，所述固定凸块设置在固定盘或支撑盘上，所述固定槽与固定凸块配合。

9、通过采用上述技术方案，起到连接固定盘和支撑盘的作用。

10、作为优选，所述固定凸块设置在固定盘的边角位置。

11、通过采用上述技术方案，避免固定盘与支撑盘安装位置发生错误。

12、作为优选，所述凸缘端呈半球形。

13、通过采用上述技术方案，与活动杆更好地配合，推动活动柱在高度方向移动。

14、作为优选，所述活动柱的横截面形状呈圆形。

15、通过采用上述技术方案，与半球形的凸缘端更好地配合，当活动柱离开凸缘端后，活动柱向下移动。

16、综上所述，在加工过程中，工件被整齐的放置在固定盘的凹槽内，当需要对凹槽内的工件取出进行镭射加工时，操作者通过移动两侧的施力端，控制活动杆移动，活动杆与凸缘端的底部接触，将凸缘端向上顶起，活动柱顶部的顶出端与工件位于凹槽内的底部接触，进而在活动杆向前移动的过程中，将工件从凹槽内顶出，同时当活动杆经过活动柱后，活动柱下落复位，活动杆对下一活动柱进行顶出，在此过程中，一次完成一整排工件的顶出，使得工件的取出更加方便。

技术特征：

1.一种表面处理工件周转盘，其特征在于：包括固定盘(1)和支撑盘(2)，所述固定盘(1)内设置有用于容纳工件(18)的凹槽(11)，所述凹槽(11)在固定盘(1)内均匀分布，所述凹槽(11)的底部设置有通孔(12)，每一所述通孔(12)内滑移连接有活动柱(3)，所述活动柱(3)沿通孔(12)的高度方向移动，所述活动柱(3)的侧面设置有限位环(31)，所述限位环(31)的直径大于通孔(12)的直径，所述活动柱(3)包括顶部的顶出端(32)和底部的凸缘端(33)，所述支撑盘(2)内滑移连接有活动杆(22)，所述活动杆(22)沿支撑盘(2)的宽度方向延伸，所述活动杆(22)沿支撑盘(2)的长度方向滑移，所述支撑盘(2)宽度方向的两侧设置有滑移槽(21)，所述滑移槽(21)沿支撑盘(2)的长度方向延伸，所述活动杆(22)长度方向的两端延伸出滑移槽(21)形成施力端(23)；所述活动杆(22)移动时与凸缘端(33)接触，并将活动柱(3)向上顶起；所述活动柱(3)脱离与凸缘端(33)接触后，活动柱(3)在重力作用下向下移动。

2.根据权利要求1所述的表面处理工件周转盘，其特征在于：所述固定盘(1)的上表面向下凹陷形成上容纳槽(13)，所述上容纳槽(13)的上表面高于工件(18)的上表面，所述凹槽(11)位于上容纳槽(13)内。

3.根据权利要求2所述的表面处理工件周转盘，其特征在于：所述凹槽(11)的侧面设置有半圆槽(14)，所述半圆槽(14)延伸至凹槽(11)内。

4.根据权利要求1所述的表面处理工件周转盘，其特征在于：所述固定盘(1)的底部向上凹陷形成下容纳槽(15)，所述通孔(12)位于下容纳槽(15)的上表面。

5.根据权利要求1所述的表面处理工件周转盘，其特征在于：所述固定盘(1)与支撑盘(2)之间设置有固定凸块(16)与固定槽(17)，所述固定凸块(16)设置在固定盘(1)或支撑盘(2)上，所述固定槽(17)与固定凸块(16)配合。

6.根据权利要求5所述的表面处理工件周转盘，其特征在于：所述固定凸块(16)设置在固定盘(1)的边角位置。

7.根据权利要求1所述的表面处理工件周转盘，其特征在于：所述凸缘端(33)呈半球形。

8.根据权利要求1所述的表面处理工件周转盘，其特征在于：所述活动柱(3)的横截面形状呈圆形。

技术总结
本技术公开了一种表面处理工件周转盘，所述支撑盘宽度方向的两侧设置有滑移槽，所述滑移槽沿支撑盘的长度方向延伸，所述活动杆长度方向的两端延伸出滑移槽形成施力端；所述活动杆移动时与凸缘端接触，并将活动柱向上顶起；所述活动柱脱离与凸缘端接触后，活动柱在重力作用下向下移动。当活动杆经过活动柱后，活动柱下落复位，活动杆对下一活动柱进行顶出，在此过程中，一次完成一整排工件的顶出，使得工件的取出更加方便。

技术研发人员：戴顺忠
受保护的技术使用者：太仓市雅卓智能科技有限公司
技术研发日：20230312
技术公布日：2024/1/14