专利名称：真空罩的底置式构造的制作方法
技术领域：
本实用新型与高分子成型加工机械有关，特别是关于一种真空罩的底置式构造。
背景技术：
为适应高分子制造程序所需求的真空环境条件，习用技术提供以真空罩罩设于 成型模具周侧，形成气密环境再将环境内的气体予以抽离，而达到真空的效果，其具体例有如TW第081217608号与第093219334号新型专利前案所揭露者。惟，习知技术中，其真空罩罩体的设置均采顶置式的技术设计，就真空功效而 言固无妨碍，惟就真空罩所附的挟模装置整体而言则非属适当，其原因是，就适当 的操作平面而言，在人体工学的考量下必需距离地面相当的高度，是以挟模装置所 提供的最低操作平面亦非可无限度的降低，如此一来，顶置式的真空罩技术将会造 成挟模装置的整体高度陡增，并非理想的技术内容。发明内容因此，本实用新型的主要目的在于，提供一种真空罩的底置式构造，其可有效 利用挟模装置位于低处的空间，以避免真空罩造成挟模装置的整体高度过高。 为达成上述目的，本实用新型提供一种真空罩的底置式构造，其特征在于，包含有一模架，具有一底部；底模流体压力缸件，其具有一缸体，缸轴的一端立设于该底部上， 一出力轴，自该缸体的缸轴另端同轴向上延伸；一可沿该出力轴的轴向于一封闭及一开启位置间上下往复移动的真空罩，具有 一开口朝上的筒形罩体，该罩体的底侧体壁上贯设有可气密地与该出力轴同轴滑接 的滑孔。其中，该底模具有数个流体压力缸件，该真空罩具有与各该底模流体压力缸件 各出力轴同轴对应的数滑孔。其中，更包含有一板状端件，垂直固接于底模流体压力缸件的出力轴端末上， 该端件的周侧板端与位于该开启位置上的该罩体开口端对应相接。
其中，该端件具有两并列端板，分设于不同的底模流体压力缸件的出力轴端端 末上。其中，该端件的周侧板端与位于该开启位置上的该罩体开口端间对应切接。 本实用新型有益效果通过上述结构，本实用新型有效地利用了挟模装置 位于低处的空间，避免了真空罩造成挟模装置的整体高度过高。 以下，兹举本实用新型一较佳实施例并配合图式作进一步说明。
图l:是本实用新型一较佳实施例的顶视图。图2:是本实用新型一较佳实施例的剖视图，其中图3:是本实用新型一较佳实施例的剖视图，其中 且两对底模流体压力缸件的出力轴往程行程为相同。图4:是本实用新型一较佳实施例的剖视图，其中 且两对底模流体压力缸件的出力轴往程行程为不同。
具体实施方式
请参阅各图所示，在本实用新型一较佳实施例中所提供真空罩的底置式构造 10由一模架20、 一对第一底模流体压力缸件30、 一对第二底模流体压力缸件40、 一真空罩50以及一端件60所组成。该模架20的构成系属习知技术的范畴，大体而言，其具有一底部21，四导柱 22直立地分别以杆轴一端固接于该底部上， 一板状上部23滑设于各该导杆22上。该两对底模流体压力缸件30、 40彼此并列设置，分别具有一缸体31、 41以缸 轴底端设于该底部21上， 一适当外径的出力轴32、 42分别自对应缸体31、 41的 缸轴顶端同轴往外延伸，轴向并与各该导柱22的柱轴平行对应。该真空罩50具有一开口朝上的筒状罩体51，四具适当内径的滑孔52分别贯 设于该罩体51的底侧体壁511上，并分别与对应的出力轴32、42同轴气密地滑接， 从而使该罩体51得受各该出力轴32、 42的定位导引而可沿其轴向于一封闭及一开 启位置间上下往复线性位移，两流体压力缸体53分别固设于该底部21上而以出力 轴端与该罩体51的两相背端侧相接，用以提供动力带动该罩体51于各该封闭及开 启位置间位移作动。该端件60呈板状，并固设于各该出力轴32、 42的轴端端末上，且得以周侧板 端与位于该开启位置上的该罩体51开口端内侧突缘512对应切接，进一步来说， 该端件60具有并列的第一及第二端板61、 62，并使该第一端板61固接于该对第 一底模流体压力缸件30的出力轴端末上，及使该该第二端板62固接于该对第二底
模流体压力缸件40的出力轴端末上，而以各该第一、第二端板61、 62未相向对应 的三侧板端环绕形成用以与该罩体51内侧突缘512切接的板端。藉由上述构件的组成，在使用时以该两对底模流体压力缸件30、 40的出力轴 32、 42端末供设高分子成型模具的底模座与底模片，并在习知挟模技术的作用下 对成型模具施以适当的开、合模加工成型作业程序，而该真空罩的底置式构造10 在配合模具开启的制造程序下，使该两对底模流体压力缸件30、 40的出力轴32、 42向下行复位行程而轴移至复位位置上，使设置于其上的底模片同步下移以遂行 模具的开模程序，同时使该两端板61、 62位于同一水平面上；并同时藉由各该流体压力缸体53对该罩体51施以支撑并许其自合模状态下的 封闭位置，沿各该出力轴32、 42的轴向往下移动至该开启位置上，并使位于该开 启位置上的该罩体51开口端的内周侧突缘512内侧环面、切接于位于该开模状态 下的该端件60的周侧板端，以于该罩体51的内部空间513与各该底模片所在空间 两者间形成适当的阻隔，从而当对各该底模片施以清理程序时，避免杂物落入该罩 体51的内部空间513中。而就该真空罩的底置式构造10配合习知挟模技术进行模具合模程序，以供成 型高分子物的制造程序而言，则可藉由该两对第一、第二流体压力缸件30、 40的 区别、以及该两端板61、 62的彼此独立，而允许该两对第一、第二流体压力缸件 30、 40各自可进行往程行程距离可受调整，据此，即可根据实际所设置成型模具 的厚度是否一致，而决定两者的往程是否相同，换言之如图3所示，当所设置的模具厚度均相同时，则各该第一、第二流体压力缸件 30、 40以相同行程自该复位轴移至该往位而使各该底模片位置位移至相同的第一 合模位置上，并使该罩体51受驱动而向上位移至该封闭位置上，据以于该底模片 的周侧形成气密的封闭空间，以供高分子成型加工作业的进行；如图4所示，当所设置的模具厚度不同时，亦即该两对第一、第二流体压力缸 件30、 40的往位位置彼此具有对应的高度差，而使该两对第一、第二流体压力缸 件30、 40自该复位轴移至其对应的往位位置系具有不等的行程，惟，均可受到该 真空罩50所提供的气密封闭效果，而可提供灵活适应制造条件的变化。
权利要求1、 一种真空罩的底置式构造，其特征在于，包含有 一模架，具有一底部；底模流体压力缸件，其具有一缸体，缸轴的一端立设于该底部上， 一出力轴， 自该缸体的缸轴另端同轴向上延伸；一可沿该出力轴的轴向于一封闭及一开启位置间上下往复移动的真空罩，具有 一开口朝上的筒形罩体，该罩体的底侧体壁上贯设有可气密地与该出力轴同轴滑接 的滑孔。
2、 依据权利要求1所述的真空罩的底置式构造，其特征在于，该底模具有数 个流体压力缸件，该真空罩具有与各该底模流体压力缸件各出力轴同轴对应的数滑 孔。
3、 依据权利要求1或2所述真空罩的底置式构造，其特征在于，更包含有一 板状端件，垂直固接于底模流体压力缸件的出力轴端末上，该端件的周侧板端与位 于该开启位置上的该罩体开口端对应相接。
4、 依据权利要求3所述真空罩的底置式构造，其特征在于，该端件具有两并 列端板，分设于不同的底模流体压力缸件的出力轴端端末上。
5、 依据权利要求3所述真空罩的底置式构造，其特征在于，该端件的周侧板 端与位于该开启位置上的该罩体开口端间对应切接。
专利摘要一种真空罩的底置式构造，包含有一模架，具有一底部；至少一底模流体压力缸件，具有一缸体，以缸轴的一端立设于该底部上，一预定外径的出力轴，自该缸体的缸轴另端同轴往上延伸；一真空罩，具有一开口朝上的筒形罩体，至少一预定内径的滑孔，贯设于该罩体的底侧体壁上，并气密地与该出力轴同轴滑接，用以使该罩体得沿该出力轴的轴向于一封闭及一开启位置间上下往复移动。据此，可有效利用挟模装置位于低处的空间，以避免真空罩造成挟模装置的整体高度过高。
文档编号B29C33/00GK201020825SQ200720141240
公开日2008年2月13日 申请日期2007年3月30日 优先权日2007年3月30日
发明者陈法胜 申请人:陈法胜