一种PI膜表面处理用电晕装置的制作方法

本实用新型涉及薄膜生产设备，尤其涉及一种pi膜表面处理用电晕装置。

背景技术：

在pi薄膜生产时通过电晕装置进行薄膜电晕，从而提高薄膜的达因值，薄膜在电晕过程中会产生有害气体，传统的电晕装置没有废气收集装置，有害气体会排放到设备周围，操作人员工作环境差。

技术实现要素：

本技术：
人针对以上缺点，进行了研究改进，提供一种pi膜表面处理用电晕装置。

本实用新型所采用的技术方案如下：

一种pi膜表面处理用电晕装置，包括门形支架，所述门形支架之间连接前导辊、后导辊、正面电晕机构和背面电晕机构，所述正面电晕机构包括上电晕辊和上电晕电极，所述背面电晕机构包括下电晕辊和下电晕电极，所述前导辊、后导辊、上电晕辊和下电晕辊均与门形支架上的电机连接，所述门形支架之间还连接上吸气罩和下吸气罩，所述上吸气罩包括上c形支架，所述上c形支架下侧铰接上活动门，所述下吸气罩包括下c形支架，所述下c形支架上侧铰接下活动门，所述上活动门和下活动门分别连接上吸气管和下吸气管，所述上活动门和下活动门通过转座连接驱动气缸。

作为上述技术方案的进一步改进：

所述上电晕电极和下电晕电极均开设卡槽，所述上电晕电极和下电晕电极通过卡槽与电极安装座的卡座连接，所述门形支架内侧位于电极安装座上方的位置连接安装座连接板，安装座连接板上连接调节螺栓，所述调节螺栓尾端转动连接电极安装座，所述调节螺栓上连接锁紧螺母。

所述上活动门下侧和下活动门上侧均连接橡胶片。

所述上活动门下侧和下活动门与门形支架之间通过密封条密封。

本实用新型的有益效果如下：所述pi膜表面处理用电晕装置，通过上吸气罩和下吸气罩将电晕装置完全罩在内部，收集有害气体，防止有害气体排到设备外，改善操作人员的工作环境。

附图说明

图1为本实用新型提供的pi膜表面处理用电晕装置的剖视图。

图2为本实用新型提供的pi膜表面处理用电晕装置的正视图。

图3为本实用新型提供的pi膜表面处理用电晕装置的部分正视图。

图4为本实用新型提供的pi膜表面处理用电晕装置的上、下吸气罩的侧视图。

图中：1、门形支架；2、前导辊；3、后导辊；4、正面电晕机构；41、上电晕辊；42、上电晕电极；5、背面电晕机构；51、下电晕辊；52、下电晕电极；6、电机；7、上吸气罩；71、上c形支架；72、上活动门；73、上吸气管；8、下吸气罩；81、下c形支架；82、下活动门；83、下吸气管；9、驱动气缸；10、电极安装座；101、卡座；11、安装座连接板；111、调节螺栓；112、锁紧螺母；12、橡胶片；13、密封条。

具体实施方式

下面结合附图，说明本实施例的具体实施方式。

如图1至图4所示，本实施例的pi膜表面处理用电晕装置，包括门形支架1，门形支架1之间连接前导辊2、后导辊3、正面电晕机构4和背面电晕机构5，正面电晕机构4包括上电晕辊41和上电晕电极42，背面电晕机构5包括下电晕辊51和下电晕电极52，前导辊2、后导辊3、上电晕辊41和下电晕辊51均与门形支架1上的电机6连接，上电晕电极42和下电晕电极52均开设卡槽，上电晕电极42和下电晕电极52通过卡槽与电极安装座10的卡座101连接，门形支架1内侧位于电极安装座10上方的位置连接安装座连接板11，安装座连接板11上连接调节螺栓111，调节螺栓111尾端转动连接电极安装座10，调节螺栓111上连接锁紧螺母112，通过调节螺栓111可调节上电晕电极42和下电晕电极52的位置，可加工不同规格的薄膜，门形支架1之间还连接上吸气罩7和下吸气罩8，上吸气罩7包括上c形支架71，上c形支架71下侧铰接上活动门72，下吸气罩8包括下c形支架81，下c形支架81上侧铰接下活动门82，上活动门72下侧和下活动门82上侧均连接橡胶片12，上活动门72下侧和下活动门82与门形支架1之间通过密封条13密封，上活动门72和下活动门82分别连接上吸气管73和下吸气管83，上吸气管73和下吸气管83连接排风扇，上活动门72和下活动门82通过转座连接驱动气缸9。

本实施例的pi膜表面处理用电晕装置使用时，驱动气缸9先驱动上活动门72和下活动门82打开，然后将上电晕电极42和下电晕电极52卡接电极安装座10，再根据pi薄膜的厚度，进行上电晕电极42和下电晕电极52调节，通过转动调节螺栓111，即可上、下调节电极安装座10位置，从而调节上电晕电极42和下电晕电极52的位置，调节完成后，通过锁紧螺母112固定上电晕电极42和下电晕电极52的位置，调节完成后将pi膜依次绕过前导辊2、下电晕电极52、上电晕电极42和后导辊3，完成装配，然后驱动气缸9再次驱动上活动门72和下活动门82关闭，且此时上活动门72和下活动门82的橡胶片12与pi膜上、下接触，最后电机6驱动前导辊2、下电晕电极52、上电晕电极42和后导辊3转动输送pi膜，同时上电晕电极42和下电晕电极52启动，分别对pi膜正面和背面进行电晕操作，电晕产生有害气体通过上吸气管73和下吸气管83排出收集即可。

以上描述是对本实用新型的解释，不是对实用新型的限定，本实用新型所限定的范围参见权利要求，在不违背本实用新型的基本结构的情况下，本实用新型可以作任何形式的修改。

技术特征：

1.一种pi膜表面处理用电晕装置，其特征在于：包括门形支架(1)，所述门形支架(1)之间连接前导辊(2)、后导辊(3)、正面电晕机构(4)和背面电晕机构(5)，所述正面电晕机构(4)包括上电晕辊(41)和上电晕电极(42)，所述背面电晕机构(5)包括下电晕辊(51)和下电晕电极(52)，所述前导辊(2)、后导辊(3)、上电晕辊(41)和下电晕辊(51)均与门形支架(1)上的电机(6)连接，所述门形支架(1)之间还连接上吸气罩(7)和下吸气罩(8)，所述上吸气罩(7)包括上c形支架(71)，所述上c形支架(71)下侧铰接上活动门(72)，所述下吸气罩(8)包括下c形支架(81)，所述下c形支架(81)上侧铰接下活动门(82)，所述上活动门(72)和下活动门(82)分别连接上吸气管(73)和下吸气管(83)，所述上活动门(72)和下活动门(82)通过转座连接驱动气缸(9)。

2.根据权利要求1所述的pi膜表面处理用电晕装置，其特征在于：所述上电晕电极(42)和下电晕电极(52)均开设卡槽，所述上电晕电极(42)和下电晕电极(52)通过卡槽与电极安装座(10)的卡座连接(101)，所述门形支架(1)内侧位于电极安装座(10)上方的位置连接安装座连接板(11)，安装座连接板(11)上连接调节螺栓(111)，所述调节螺栓(111)尾端转动连接电极安装座(10)，所述调节螺栓(111)上连接锁紧螺母(112)。

3.根据权利要求1所述的pi膜表面处理用电晕装置，其特征在于：所述上活动门(72)下侧和下活动门(82)上侧均连接橡胶片(12)。

4.根据权利要求1或3所述的pi膜表面处理用电晕装置，其特征在于：所述上活动门(72)下侧和下活动门(82)与门形支架(1)之间通过密封条(13)密封。

技术总结
本实用新型涉及一种PI膜表面处理用电晕装置，包括门形支架，所述门形支架之间连接前导辊、后导辊、正面电晕机构和背面电晕机构，所述正面电晕机构包括上电晕辊和上电晕电极，所述背面电晕机构包括下电晕辊和下电晕电极，所述前导辊、后导辊、上电晕辊和下电晕辊均与门形支架上的电机连接，所述门形支架之间还连接上吸气罩和下吸气罩，所述上吸气罩包括上C形支架，所述上C形支架下侧铰接上活动门，所述下吸气罩包括下C形支架，所述下C形支架上侧铰接下活动门，所述上活动门和下活动门分别连接上吸气管和下吸气管，所述上活动门和下活动门通过转座连接驱动气缸，所述PI膜表面处理用电晕装置，防止有害气体外泄，改善操作者工作环境。

技术研发人员：沈国强
受保护的技术使用者：无锡高拓新材料股份有限公司
技术研发日：2019.12.25
技术公布日：2020.08.28