一种具有自动纠偏功能的电晕处理机的制作方法

1.本技术涉及电晕处理的领域，尤其是涉及一种带有自动纠偏功能的电晕处理机。


背景技术：

2.电晕机是一种利用电晕处理，提高硅橡胶、塑胶和其他材料的表面的附着性的设备，其原理是通过在放电极与电晕处理辊之间施加高频、高压电源，当电压超过1
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2mm的空气间隙的电力电阻时，就会产生连续放电，于是使空气电离并形成大量臭氧。臭氧是一种强化剂，使塑料表层分子氧化，产生羰基化合物、过氧化合物等，同时产生细小密集的紫色火花。空气电离后产生的各种等离子在强电场的作用下加速而冲击薄膜表面，使其链状分子断裂，产生自由基与空气电晕产物发生氧化交链反应，使薄膜表面受到离子气体的强烈冲击而粗化，使塑料薄膜的表面张力得到进一步的提高。最终改善了表面的印刷、涂胶及复合的牢度。
3.相关的公告号为cn211222135u的中国实用新型专利，其公开了一种自张紧式电晕机，包括机架，机架上沿其宽度方向设有多个输送辊，机架的两端分别设有放料装置和收料装置，机架上沿机架的宽度方向设有多组辊座，多组辊座沿机架的长度方向相对设置，输送辊与辊座连接；辊座朝向远离物料的方向设有张紧装置，张紧装置包括楔形块、第一压缩弹簧和挡板，挡板安装于机架上，楔形块沿机架的宽度方向滑移连接于机架上，第一压缩弹簧的两端分别与楔形块和挡板连接，楔形块朝向辊座的一侧设有斜面，辊座与斜面抵接。
4.针对上述中的相关技术，发明人认为待电晕的薄膜物料在电晕处理机上的传输过程中，由于薄膜物料的内部张力以及自身厚度不均等因素的影响，使得薄膜物料的传输过程中出现偏移，容易使得薄膜物料出现褶皱，对电晕处理造成不良影响。


技术实现要素：

5.为了改善薄膜物料传输过程中出现偏移，影响电晕处理效果的问题，本技术提供一种具有自动纠偏功能的电晕处理机。
6.本技术提供的一种具有自动纠偏功能的电晕处理机采用如下的技术方案：
7.一种具有自动纠偏功能的电晕处理机，包括机架以及设置在机架上的电晕装置、收卷装置和放卷装置，所述收卷装置和放卷装置分别位于电晕装置的两侧，所述电晕装置包括相对平行设置的两个安装板、电极组件、电晕辊和导输辊，所述电晕辊和导输辊均转动安装于两个安装板之间，且所述导输辊位于电晕辊轴向的两侧，所述电极组件位于电晕辊的顶部，所述电极组件的两端与各安装板连接，所述电极组件用于薄膜物料进行电晕处理，所述电晕装置靠近放卷装置的一侧设置有检测装置，所述检测装置用于对薄膜物料的传输方向两侧的相对位置进行检测，所述检测装置电性连接有plc控制装置，所述放卷装置包括移动座、转动安装在移动座上的放卷辊以及驱动机构，所述移动座和机架之间滑动连接，所述驱动机构用于驱动移动座沿放卷辊轴向移动，所述驱动机构与plc控制装置电连接。
8.通过采用上述技术方案，在电晕处理时，待电晕的薄膜物料绕卷在放卷辊上，并依
次绕经靠近放卷辊的导输辊、电晕辊以及另一个导输辊，最后收卷在收卷装置上。薄膜物料在进行电晕过程中，检测装置对薄膜物料的传输方向两侧的相对位置进行检测，当薄膜物料在传输的过程中出现偏移时，检测装置将检测信号传递到plc控制装置，plc控制装置控制驱动机构启动，使得移动座和放卷辊朝向与薄膜物料偏移方向相反的方向移动，从而对薄膜物料进行自动纠偏，使薄膜物料传输更加平稳，提高电晕效果。
9.可选的，所述检测装置包括两个u型光电开关，所述u型光电开关包括相对设置的红外发射端和红外接收端，所述红外发生端和红外接收端之间形成有槽口，两个所述u型光电开关的槽口相对设置，所述薄膜物料传输方向的两侧边沿位于u型光电开关的红外发射端和红外接收端之间。
10.通过采用上述技术方案，当薄膜物料为发生偏移时，红外接收端不断接受红外发射端发射的红外光线；当薄膜物料出现偏移时，薄膜物料对某一侧的红外光线进行遮挡，使得红外接收端无法接收到红外信号，从而能够有效对薄膜物料的偏移状态进行监测。
11.可选的，所述检测装置还包括横向调整结构，所述横向调整结构包括滑杆和两个安装座，各所述u型光电开关固定在各安装座上，所述滑杆位于安装板靠近放卷装置的一侧，所述滑杆的两端与各安装板连接，所述安装座套设在滑杆上，所述安装座与滑杆滑动连接，所述安装座内穿设有锁紧栓，所述锁紧栓穿入安装座的一端与滑杆抵接。
12.通过采用上述技术方案，由于当薄膜物料的宽度发生改变时，工作人员通过横向调整结构，调整两个u型光电开关之间的距离和相对位置，使得检测装置可以对不同宽度的薄膜物料的偏移进行监测，提高了电晕处理机的适用性。
13.可选的，各所述安装板靠近滑杆的一侧均设置有竖向调整结构，各所述竖向调整结构包括相对设置的两个连接板、转动连接于两个连接板之间的丝杠以及与丝杠螺纹连接的螺母，所述丝杠竖直设置，所述丝杠的一端穿出连接板并固定连接有旋钮，所述滑杆的两端均与螺母固定连接。
14.通过采用上述技术方案，通过转动旋钮，使得丝杠带动螺母沿丝杠的轴向移动，螺母带动滑杆移动，从而使得u型光电开关在竖直方向上的位置可以进行调节，使得薄膜物料可以顺利的从u型光电开关的槽口通过，也进一步提高检测装置的适用性。
15.可选的，所述驱动机构包括气缸，所述气缸固定在机架上，所述气缸的活塞杆与移动座固定连接，所述机架靠近移动座的一面开设有滑槽，所述滑槽的长度方向与放卷辊轴向相平行，所述滑槽内滑动连接有滑块，所述滑块与移动座固定连接。
16.通过采用上述技术方案，当检测装置检测到薄膜物料出现偏移时，气缸启动，并推动移动座和放卷辊沿放卷辊的轴向移动进行自动纠偏。滑槽和滑块的设置对移动座的移动起到导向的作用，使得移动座和放卷辊移动更加平稳。
17.可选的，所述电极组件包括防护罩、电极安装座以及安装在电极安装座上若干电极管，所述防护罩长度方向的两端与安装板固定连接，所述电极安装座位于防护罩内，若干所述电极管安装在电极安装座靠近电晕辊的一端，所述电极安装座和防护罩之间设置有升降结构，所述电极安装座通过升降结构与防护罩连接，所述升降结构用于调整电极管至电晕辊之间的距离。
18.通过采用上述技术方案，电极管对绕经电晕辊的薄膜物料进行电晕处理，防护罩对电极组件起到保护的作用，并提高电晕处理的安全性。对不同材质和厚度的薄膜物料在
进行电晕处理时，通过升降结构对电极管至电晕辊之间的距离进行调节，保障电晕处理的效果。
19.可选的，所述升降结构包括螺杆和导向杆，所述螺杆和导向杆均竖直穿设在防护罩内，所述螺杆与防护罩之间螺纹连接，所述导向杆与防护罩之间滑动连接，所述螺杆靠近电极安装座的一端与电极安装座转动连接。
20.通过采用上述技术方案，在对电极管至电晕辊之间的距离进行调节时，工作人员只需转动螺杆，螺杆带动电极安装座沿螺杆的轴向移动，从而电极管沿螺杆的轴向移动，实现电极管至电晕辊之间距离的调节；导向杆对电极安装座的移动起到导向和限位作用，使得电极安装座在上下移动时，电极安装座不易转动，电极安装座的移动更加平稳。
21.可选的，所述电极安装座靠近电晕辊的一面设为电晕面，若干所述电极管安装在电晕面处，所述电晕面为弧形，所述电晕面与电晕辊的共圆心。
22.通过采用上述技术方案，使得电晕处理机在对薄膜物料进行电晕处理时，若干电极管至薄膜物料之间的距离相同，提高对薄膜物料的电晕处理效果。
23.综上所述，本技术包括以下至少一种有益技术效果：
24.1.通过设置检测装置和驱动机构，实现对薄膜物料进行自动纠偏，使薄膜物料传输更加平稳，提高电晕效果；
25.2.通过设置横向调整结构和竖向调整结构，便于对检测装置的相对位置进行调整，提高该电晕处理机的适用性；
26.3.通过设置升降结构，便于对电极管至电晕辊之间距离进行调节，提高电晕效果。
附图说明
27.图1是本技术实施例的一种具有自动纠偏功能的电晕处理机的整体结构示意图。
28.图2是本技术实施例中放卷装置和机架之间的局部爆炸图。
29.图3是本技术实施例中电晕装置的局部剖视图。
30.图4是图1中a部位的局部放大图
31.附图标记说明：1、机架；11、滑槽；2、放卷装置；21、放卷辊；22、移动座；221、滑块；23、气缸；3、检测装置；31、u型光电开关；311、红外发射端；312、红外接收端；313、槽口；32、横向调整结构；321、滑杆；322、安装座；323、锁紧栓；33、竖向调整结构；331、丝杠；332、连接板；333、螺母；334、旋钮；4、电晕装置；41、电极组件；411、防护罩；412、电极安装座；4121、电晕面；413、电极管；42、升降结构；421、螺杆；422、导向杆；423、旋转把手；43、电晕辊；44、导输辊；45、安装板；5、收卷装置。
具体实施方式
32.以下结合附图1
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4对本技术作进一步详细说明。
33.本技术实施例公开一种具有自动纠偏功能的电晕处理机。参照图1，一种具有自动纠偏功能的电晕处理机包括机架1、电晕装置4、收卷装置5和放卷装置2。电晕装置4、收卷装置5和放卷装置2均安装在机架1上，且收卷装置5和放卷装置2分别位于电晕装置4的两侧。放卷装置2用于供给待电晕的薄膜物料，电晕装置4用于对薄膜物料进行电晕处理，收卷装置5用于对电晕处理后的薄膜物料进行收卷。
34.参照图1和图2，放卷装置2包括移动座22、放卷辊21以及驱动机构。移动座22设置在机架1上，机架1靠近移动座22的表面开设有滑槽11，移动座22的底面一体成型有与滑槽11相适配的滑块221，滑块221位于滑槽11内，移动座22和机架1之间通过滑槽11和滑块221进行滑动连接。放卷辊21转动安装在移动座22上，驱动机构用于驱动移动座22沿放卷辊21的轴向移动。驱动机构包括气缸23，气缸23位于移动座22长度方向的一端，气缸23固定机架1上，气缸23的活塞杆与移动座22固定连接。
35.参照图1和图3，电晕装置4包括电极组件41、电晕辊43、两个导输辊44以及两个安装板45。两个安装板45相对平行设置且通过螺栓固定在机架1上。电晕辊43和两个导输辊44相互平行，电晕辊43和两个导输辊44均位于两个安装板45之间，且电晕辊43和两个导输辊44均与安装板45转动连接。导输辊44位于电晕辊43轴向的两侧，电晕辊43相对位于导输辊44的顶部。电极组件41安装在电晕辊43的顶部，电极组件41的两端与安装板45连接，电极组件41用于对薄膜物料进行电晕处理。
36.参照图1和图3，电极组件41包括防护罩411、电极安装座412以及升降结构42。防护罩411长度方向的两端与安装板45焊接固定。电极安装座412位于防护罩411内，电极安装座412靠近电晕辊43的一面设为电晕面4121，且电晕面4121为弧形，电晕面4121与电晕辊43之间共圆心。电晕面4121上安装有三个电极管413，电极管413用于对薄膜物料进行电晕处理。三个电极管413沿电晕面4121的周向均匀排布。升降结构42位于防护罩411和电极安装座412之间，电极安装座412通过升降结构42与防护罩411连接。升降结构42包括螺杆421以及两个导向杆422，螺杆421和两个导向杆422均竖直穿设在防护罩411内，且导向杆422对称分布在螺杆421轴向的两侧。螺杆421与防护罩411螺纹连接，而各导向杆422则与防护罩411滑动连接。螺杆421穿入防护罩411的一端与电极安装座412转动连接。螺杆421远离电极安装座412的一端一体成型有旋转把手423。通过转动旋转把手423，使螺杆421转动，进而螺杆421带动电极安装座412在竖直方向上移动，从而调整电极管413到电晕辊43之间的距离。
37.参照图1和图4，电晕装置4靠近放卷装置2的一侧设置有检测装置3，检测装置3包括两个u型光电开关31。u型光电开关31包括相对设置的红外发射端311和红外接收端312，红外发生端和红外接收端312之间形成有槽口313，红外接收端312接收红外发射端311发射的红外光线，两个u型光电开关31的槽口313相对设置，薄膜物料传输方向的两侧边沿位于红外发射端311和红外接收端312之间。u型光电开关31电连接有plc控制装置（图中未示出），且驱动机构与plc控制装置电连接。当薄膜物料出现偏移时，遮挡住红外发射端311和红外接收端312之间的光轴，u型光电开关31将信号传递到plc控制装置，plc控制装置控制驱动机构启动，驱动移动座22移动，对薄膜物料进行自动纠偏。
38.参照图1和图4，检测装置3还包括横向调整结构32和竖向调整结构33，使得u型光电开关31的相对位置可以进行一定的调整。横向调整结构32包括滑杆321和两个安装座322。各u型光电开关31均安装在各安装座322上，且各安装座322均套设在滑杆321上。安装座322上穿设有锁紧栓323，锁紧栓323与安装座322之间螺纹连接，且锁紧栓323穿入安装座322的一端与滑杆321抵接。滑杆321水平设置，且滑杆321长度方向的两端与竖向调整结构33连接。旋松锁紧栓323，即可将安装座322在滑杆321上进行滑动，从而u型光电开关31水平方向上的相对位置。
39.参照图1和图4，竖向调整结构33安装故在各安装板45靠近滑杆321的外壁上，各竖
向调整结构33均包括丝杠331、螺母333、旋钮334和两个连接板332。两个连接板332相对平行设置且两个连接板332均与安装板45焊接固定。丝杠331竖直设置且转动连接在两个连接板332之间，丝杆331的顶端穿出连接板332与旋钮334固定连接。螺母333套设在丝杠331上且与丝杠331相配合，滑杆321长度方向的两端均与螺母333焊接固定。通过转动旋钮334，使得丝杠331带动螺母333在竖直方向上移动，螺母333带动滑杆321移动，从而使得u型光电开关31在竖直方向上的位置可以进行调节。
40.本技术实施例一种具有自动纠偏功能的电晕处理机的实施原理为：工作人员根据待电晕的薄膜物料尺寸规格，通过横向调整结构32和竖向调整结构33对检测装置3的相对位置进行调整，以使得检测装置3可以对薄膜物料的偏移进行监测。同时，通过升降结构42对电极管413至电晕辊43之间的距离进行调整，以保障电晕效果。在电晕处理时，待电晕的薄膜物料绕卷在放卷辊21上，并依次绕经靠近放卷辊21的导输辊44、电晕辊43以及另一个导输辊44，最后收卷在收卷装置5上。薄膜物料在进行电晕过程中，检测装置3对薄膜物料的传输方向两侧的相对位置进行检测，当薄膜物料在传输的过程中出现偏移时，检测装置3将检测信号传递到plc控制装置，plc控制装置控制驱动机构启动，使得移动座22和放卷辊21朝向与薄膜物料偏移方向相反的方向移动，从而对薄膜物料进行自动纠偏，使薄膜物料传输更加平稳，提高电晕效果。
41.以上均为本技术的较佳实施例，并非依此限制本技术的保护范围，故：凡依本技术的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本技术的保护范围之内。