一种便于清理的硫化设备的制作方法

1.本技术涉及硫化设备技术领域，尤其涉及一种便于清理的硫化设备。


背景技术：

2.橡胶行业是国民经济的重要基础产业之一，它不仅为人们提供日常生活不可或缺的日用、医用等轻工橡胶产品，而且向采掘、交通、建筑、机械、电子等重工业和新兴产业提供各种橡胶制生产设备或橡胶部件。可见，橡胶行业的产品种类繁多，后向产业十分广阔。在制造汽车、机车另件、各种工业用配件、美耐皿等另件成型时，都会用到硫化设备，而vc-300t-2rt热压成型机属于硫化设备的一种。
3.但是热压成型机在长时间工作后，其表面会附着很多灰尘，尤其是其各设备之间的连接夹缝处，由于各设备之间固定连接，难以进行清理。


技术实现要素：

4.本技术的目的是为了解决现有技术中各设备之间的连接夹缝处，由于各设备之间固定连接，难以进行清理的问题，而提出的一种便于清理的硫化设备。
5.为了实现上述目的，本技术采用了如下技术方案：
6.一种便于清理的硫化设备，包括底座，所述底座的上端连接有主机体，所述主机体的两侧对称设置有副机体，所述底座与两个副机体之间共同连接有移位机构；
7.所述移位机构包括双向螺纹杆，所述底座的下端开设有驱动槽，所述双向螺纹杆的两端均通过转动件与驱动槽的两端槽壁转动连接，所述双向螺纹杆设置在驱动槽内，所述底座的一侧竖直侧壁上连接有驱动电机，所述驱动电机的输出端通过联轴器与双向螺纹杆的一端相连接，所述双向螺纹杆上对称螺纹连接有螺母，所述螺母的上端外环壁上连接有移位块，所述驱动槽的槽底对应移位块的位置沿水平直线方向开设有长条状的移位孔，所述移位块远离螺母的一端穿过移位孔并连接有支撑板，所述移位块和移位孔之间共同连接有限位组件，两个所述个副机体连接在两块支撑板的上端，所述底座的上端两侧对称安装有滚动组件。
8.通过采用上述技术方案，当需要清理主机体和两个副机体之间的灰尘时，启动驱动电机，使得两个螺母带动两块支撑板做相背运动，从而带动两个副机体在底座上向远离主机体一侧的方向运动，使得两个副机体与主机体之间的缝隙暴露出，便于对该区域的灰尘进行清理。
9.优选的，所述驱动槽的槽底连接有气缸，气缸的输入端连接有外接气源，所述气缸的输出端穿过驱动槽的槽口并连接有顶板，所述底座的下端四角处均固定连接有支撑柱，所述支撑柱的另一端安装有滚轮。
10.通过采用上述技术方案，当需要移动底座时，对硫化设备施加推动力，通过滚轮带动硫化设备进行移动，当硫化设备移动到指定位置后，启动气缸，气缸的输出端推动顶板下降顶住地面，将滚轮从地面顶起，将硫化设备的位置进行固定。
11.优选的，所述顶板远离气缸的一端连接有防滑板。
12.通过采用上述技术方案，通过防滑板增大顶板与地面之间接触时的摩擦力。
13.优选的，所述转动件包括轴承，两个所述轴承对称镶嵌在驱动槽的两端槽壁上，所述双向螺纹杆的两端与两个轴承的内圈壁相连接。
14.通过采用上述技术方案，通过两个轴承对双向螺纹杆进行支撑，当双向螺纹杆受到转动力后在两个轴承内发生转动。
15.优选的，所述限位组件包括限位杆，所述限位杆沿水平直线方向固定连接在移位孔内，所述移位块上对应限位杆的位置开设有限位孔，所述限位杆穿过限位孔设置，所述移位块滑动连接在限位杆的杆壁上。
16.通过采用上述技术方案，由于移位块只能在限位杆上运动，使得移位块在移位孔内运动的更加稳定。
17.优选的，所述支撑板的正面沿水平直线方向设有刻度值。
18.通过采用上述技术方案，通过支撑板上刻度值伸出底座上的距离，便于得知支撑板以及副机体移动的距离。
19.优选的，所述滚动组件包括两个滚珠，所述底座的上端对应两个滚珠的位置开设有两个滚动槽，两个所述滚珠设置在两个滚动槽中，所述滚珠远离滚动槽槽底的一端穿过滚动槽的槽口并滚动连接在对应所述支撑板的下端。
20.通过采用上述技术方案，通过滚珠对支撑板进行支撑，当支撑板在底座上运动时带动滚珠滚动，提高了支撑板运动时的稳定性。
21.优选的，所述滚珠为钢球。
22.通过采用上述技术方案，提高了滚珠的使用寿命。
23.与现有技术相比，本技术提供了一种便于清理的硫化设备，具备以下有益效果：
24.该便于清理的硫化设备，设置移位机构，当需要清理主机体和两个副机体之间的灰尘时，启动驱动电机带动双向螺纹杆顺时针转动，使得两个副机体与主机体之间的缝隙暴露出，便于对该区域的灰尘进行清理，清理完毕后再启动驱动电机带动双向螺纹杆逆时针反转，使得两个副机体复位。
25.该便于清理的硫化设备，通过滚轮带动硫化设备进行移动，当硫化设备移动到指定位置后，启动气缸，将滚轮从地面顶起，将硫化设备的位置进行固定，便于移动硫化设备。
26.该装置中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现，本技术当需要清理主机体和两个副机体之间的灰尘时，使得两个副机体与主机体之间的缝隙暴露出，便于对该区域的灰尘进行清理，而且便于移动硫化设备。
附图说明
27.图1为本技术提出的一种便于清理的硫化设备的结构示意图；
28.图2为图1中a部分的放大图；
29.图3为图1中b部分的放大图。
30.图中：1、底座；2、主机体；3、副机体；4、双向螺纹杆；5、驱动槽；6、驱动电机；7、螺母；8、移位块；9、移位孔；10、支撑板；11、气缸；12、顶板；13、支撑柱；14、滚轮；15、防滑板；16、轴承；17、限位杆；18、限位孔；19、刻度值；20、滚珠；21、滚动槽。
具体实施方式
31.下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。
32.在本技术的描述中，需要理解的是，术语“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。
33.参照图1，一种便于清理的硫化设备，包括底座1，底座1的上端连接有主机体2，主机体2的两侧对称设置有副机体3，底座1与两个副机体3之间共同连接有移位机构，当需要清理主机体2和两个副机体3之间的灰尘时，使得两个副机体3与主机体2之间的缝隙暴露出，便于对该区域的灰尘进行清理。
34.参照图1-2，移位机构包括双向螺纹杆4，底座1的下端开设有驱动槽5，驱动槽5的槽底固定连接有气缸11，气缸11的输入端连接有外接气源，气缸11的输出端穿过驱动槽5的槽口并固定连接有顶板12，顶板12远离气缸11的一端固定连接有防滑板15，通过防滑板15增大顶板12与地面之间接触时的摩擦力，底座1的下端四角处均固定连接有支撑柱13，支撑柱13的另一端安装有滚轮14，当需要移动底座1时，对硫化设备施加推动力，通过滚轮14带动硫化设备进行移动，当硫化设备移动到指定位置后，启动气缸11，气缸11的输出端推动顶板12下降顶住地面，将滚轮14从地面顶起，将硫化设备的位置进行固定。
35.双向螺纹杆4的两端均通过转动件与驱动槽5的两端槽壁转动连接，转动件包括轴承16，两个轴承16对称镶嵌在驱动槽5的两端槽壁上，双向螺纹杆4的两端分别与两个轴承16的内圈壁固定连接，通过两个轴承16对双向螺纹杆4进行支撑，当双向螺纹杆4受到转动力后在两个轴承16内发生转动，双向螺纹杆4设置在驱动槽5内，底座1的一侧竖直侧壁上固定连接有驱动电机6，驱动电机6的输出端通过联轴器与双向螺纹杆4的一端固定连接，双向螺纹杆4上对称螺纹连接有螺母7，螺母7的上端外环壁上固定连接有移位块8，驱动槽5的槽底对应移位块8的位置沿水平直线方向开设有长条状的移位孔9，移位块8远离螺母7的一端穿过移位孔9并固定连接有支撑板10，支撑板10的正面沿水平直线方向设有刻度值19，通过支撑板10上刻度值19伸出底座1上的距离，便于得知支撑板10以及副机体3移动的距离。
36.参照图1-3，移位块8和移位孔9之间共同连接有限位组件，限位组件包括限位杆17，限位杆17沿水平直线方向固定连接在移位孔9内，移位块8上对应限位杆17的位置开设有限位孔18，限位杆17穿过限位孔18设置，移位块8滑动连接在限位杆17的杆壁上，由于移位块8只能在限位杆17上运动，使得移位块8在移位孔9内运动的更加稳定。
37.两个副机体3固定连接在两块支撑板10的上端，底座1的上端两侧对称安装有滚动组件，滚动组件包括两个滚珠20，底座1的上端对应两个滚珠20的位置开设有两个滚动槽21，两个滚珠20设置在两个滚动槽21中，滚珠20远离滚动槽21槽底的一端穿过滚动槽21的槽口并滚动连接在对应支撑板10的下端，通过滚珠20对支撑板10进行支撑，当支撑板10在底座1上运动时带动滚珠20滚动，提高了支撑板10运动时的稳定性，滚珠20为钢球，提高了滚珠20的使用寿命。
38.工作原理：当需要清理主机体2和两个副机体3之间的灰尘时，启动驱动电机6带动双向螺纹杆4顺时针转动，两个螺母7受到限位组件的作用，在双向螺纹杆4上做相背运动，
两个螺母7运动时通过两块移位块8带动两块支撑板10做同步相背运动，从而带动两个副机体3在底座1上向远离主机体2一侧的方向运动，使得两个副机体3与主机体2之间的缝隙暴露出，便于对该区域的灰尘进行清理，清理完毕后再启动驱动电机带动双向螺纹杆4逆时针反转，使得两个副机体3复位；当需要移动底座1时，对硫化设备施加推动力，通过滚轮14带动硫化设备进行移动，当硫化设备移动到指定位置后，启动气缸11，气缸11的输出端推动顶板12下降顶住地面，将滚轮14从地面顶起，将硫化设备的位置进行固定，便于移动硫化设备。
39.以上所述，仅为本技术较佳的具体实施方式，但本技术的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本技术揭露的技术范围内，根据本技术的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本技术的保护范围之内。