专利名称：足浴盆的制作方法
技术领域：
本实用新型涉及一种足浴盆，尤其是底部设置有振动按摩的足浴盆。
背景技术：
目前，足浴盆的市场发展很快，随着人们对足部健康要求的日益提高，足浴盆的功 能也是日益改进并向多样化发展，脚部的穴位最多，在结束了一天忙碌而疲倦的工作，用热 水泡脚并对足底按摩无疑能使整个人身心舒畅、放松，但是现有的足浴盆在足底按摩的功 能普遍需要人脚的动作在按摩凸点上移动才能实现，仅仅将脚放置在按摩凸点上得不到力 度始终的按摩，这样会增加人体动作影响使用效果。
实用新型内容为了克服上述缺陷，本实用新型的目的在于提供一种使用方便、能自动按摩的足 浴盆。为了达到上述目的，本实用新型的足浴盆，包括盆座和设置在所述盆座内的盆体， 还包括足底振动按摩装置，所述的振动按摩装置包括设置在所述盆座和盆体之间的振动电 机和设置在所述盆体底部的左、右两按摩区，所述按摩区上设置有若干向上突起的按摩柱。其中，所述按摩区中部设置有空腔，所述空腔底部设置有若干立柱，所述空腔顶部 对应所述立柱分别设置有若干孔，所述按摩柱分别对应设置在所述孔内，所述按摩柱底部 向上设置有凹陷，所述立柱对应设置在所述凹陷内，所述立柱顶部与凹陷之间设置有弹簧。特别是，还包括设置在盆座与盆体之间的臭氧制备装置，所述的按摩区中央部位 设置有条状开口，所述开口内设置有插板，所述插板上设置有进气孔，所述插板底部连接所 述臭氧制备装置的排气口与所述进气孔连通。进一步地，还包括设置在所述盆座与盆体之间的循环水泵和加热管，所述盆体侧 面及底面对应设置有进水口和排水口，所述进水口和排水口分别通过水管连接所述循环水 泵的出口和进口，所述水管至少部分管为加热管，所述盆体上端面设置有控制面板，所述控 制面板底部连接位于盆体与盆座之间的控制所述水泵及臭氧制备装置的控制电路板。其中，所述进水口为两个，分别间隔设置在所述盆体前端侧面，所述排水口相对设 在所述盆体后端，所述排水口上设置有过滤网。进一步地，所述两按摩区之间的盆体底面向上滚动按摩轮，所述按摩轮表面设置 有若干按摩突起。上述的结构，使用时，将两脚置于按摩区的按摩柱上，启动振动电机，通过振动电 机的振动向按摩区的按摩柱传递并对脚部起到自动按摩的作用，不需要脚部移动按压等动 作，使用更方便，按摩功效强。
图1为本实用新型的主视结构示意图。[0012]图2为图1中沿A-A向局部剖视结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图和实施例对本实用新型作进一步详细说明。如图1、图2所示，本实用新型的足浴盆，包括盆座1和设置在所述盆座内的盆体 2，所述盆体和盆座周边通过螺钉固定设置在一起，还包括足底振动按摩装置，所述的振动 按摩装置包括设置在所述盆座和盆体之间的振动电机和设置在所述盆体底部的左、右两按 摩区3，所述盆体底部相应向下设置有凹陷，所述按摩区对应设置在所述凹陷内，图示所述 按摩区呈脚丫状，当然还可设置呈其他形状，只要能适宜于大部分人的足底部位即可，所述 按摩区上设置有若干向上突起的按摩柱5。所述按摩柱顶部呈帽形光滑曲面，在与脚底振动 接触时更加顺畅，感觉更舒缓。其中，所述按摩区3中间部位设置有空腔，所述空腔底部向上设置有若干立柱4， 所述空腔顶部对应所述立柱分别设置有若干孔，所述按摩柱分别对应设置在所述孔内，所 述按摩柱底部向上设置有凹陷，所述立柱对应设置在所述凹陷内，所述立柱顶部与凹陷之 间设置有弹簧30。所述的弹簧为了适合不同的人以及人脚底不同的形状在自然放置在按摩 柱上后都能均衡的与按摩柱顶部接触，这样，在振动电机传递振动的过程中能量传递相对 均衡，脚底感受更加舒适，相对于现有的固定设置的按摩柱，避免了有些按摩柱与脚底接触 而有些却与脚底悬空根本起不到按摩作用，舒适度更佳，适用人群更广，所述振动电机的振 动频率及振幅可根据不同的需求进行调整。还包括设置在盆座与盆体之间的臭氧制备装置，所述的按摩区中央部位设置有条 状开口，所述开口内密封设置有插板7，所述插板7通过螺钉9将按摩区3与盆座1固定设 置在一起，所述插板上设置有进气孔6和按摩突起8，所述插板底部连接所述臭氧制备装置 的排气口与所述进气孔连通。所述的臭氧制备装置所制备的臭氧通过底部经进气孔对足部 及盆体内的水进行杀菌。进一步地，还包括设置在所述盆座与盆体之间的循环水泵和加热管，所述盆体侧 面及底面对应设置有进水口 10和排水口，所述进水口和排水口分别通过水管连接所述循 环水泵的出口和进口，所述水管至少部分管为加热管，所述盆体上端面设置有控制面板15， 所述控制面板底部连接位于盆体与盆座之间的控制所述水泵及臭氧制备装置的控制电路 板。在盆体内的水通过循环水泵在进水口和排水口之间循环流动，在循环流动的过程中通 过加热管对盆体内的水进行循环加热。还可在控制装置中增加脉冲信号控制对循环水泵的 水流量及流速进行控制，形成冲浪，加速盆体内水流循环、增加水流对脚部的按摩。其中，所述进水口 10为两个，分别间隔设置在所述盆体前端侧面，所述排水口相 对设在所述盆体后端，所述排水口上设置有过滤网12。对盆体内部的水进行过滤净化。进一步地，为了进一步增加脚底局部按摩功能，所述两按摩区之间的盆体底面向 上滚动按摩轮13，所述按摩轮表面设置有若干按摩突起14。可将脚底置于滚动按摩轮上对 脚心及脚掌进行局部按摩。本实用新型不局限于上述实施方式，不论在其形状或结构上做任何变化，凡是利 用上述的足浴盆都是本实用新型的一种变形，均应认为落在本实用新型保护范围之内。
权利要求一种足浴盆，包括盆座和设置在所述盆座内的盆体，其特征在于，还包括足底振动按摩装置，所述的振动按摩装置包括设置在所述盆座和盆体之间的振动电机和设置在所述盆体底部的左、右两按摩区，所述按摩区上设置有若干向上突起的按摩柱。
2.如权利要求1所述的足浴盆，其特征在于，所述按摩区中部设置有空腔，所述空腔底 部设置有若干立柱，所述空腔顶部对应所述立柱分别设置有若干孔，所述按摩柱分别对应 设置在所述孔内，所述按摩柱底部向上设置有凹陷，所述立柱对应设置在所述凹陷内，所述 立柱顶部与凹陷之间设置有弹簧。
3.如权利要求1或2所述的足浴盆，其特征在于，还包括设置在盆座与盆体之间的臭氧 制备装置，所述的按摩区中央部位设置有条状开口，所述开口内设置有插板，所述插板上设 置有进气孔，所述插板底部连接所述臭氧制备装置的排气口与所述进气孔连通。
4.如权利要求3所述的足浴盆，其特征在于，还包括设置在所述盆座与盆体之间的循 环水泵和加热管，所述盆体侧面及底面对应设置有进水口和排水口，所述进水口和排水口 分别通过水管连接所述循环水泵的出口和进口，所述水管至少部分管为加热管，所述盆体 上端面设置有控制面板，所述控制面板底部连接位于盆体与盆座之间的控制所述水泵及臭 氧制备装置的控制电路板。
5.如权利要求4所述的足浴盆，其特征在于，所述进水口为两个，分别间隔设置在所述 盆体前端侧面，所述排水口相对设在所述盆体后端，所述排水口上设置有过滤网。
6.如权利要求5所述的足浴盆，其特征在于，所述两按摩区之间的盆体底面向上滚动 按摩轮，所述按摩轮表面设置有若干按摩突起。
专利摘要本实用新型公开了一种足浴盆，为解决现有技术中使用不便等问题而发明。本实用新型包括盆座和设置在所述盆座内的盆体及足底振动按摩装置，所述的振动按摩装置包括设置在所述盆座和盆体之间的振动电机和设置在所述盆体底部的左、右两按摩区，所述按摩区上设置有若干向上突起的按摩柱。上述的结构，使用时，将两脚置于按摩区的按摩柱上，启动振动电机，通过振动电机的振动向按摩区的按摩柱传递并对脚部起到自动按摩的作用，不需要脚部移动按压等动作，使用更方便，按摩功效强。
文档编号F24H1/18GK201710239SQ20102025320
公开日2011年1月19日 申请日期2010年7月9日 优先权日2010年7月9日
发明者杨立明 申请人:杨立明