一种洁净棚及更衣室的制作方法

本实用新型涉及触摸屏制造技术领域，尤其涉及一种应用于触摸屏生产制造的洁净棚及更衣室。

背景技术：

随着智能手机和显示屏幕技术的快速发展，触摸屏产品的应用越来越广泛普及，其市场的竞争也日益白热化，对触摸屏的技术要求也越来越高。其中，触摸屏薄膜上带有静电，在生产过程中，要求生产加工环境达到一定高级别的无尘洁净状态，才能得到具有高质量显示效果的触摸屏产品。这就需要为触摸屏薄膜建造相应的洁净室作为生产车间。为了保持洁净室的无尘洁净状态，生产员会穿上无尘服。不足之处是：生产员在更衣室更换无尘服，而无尘服一般放置在更衣室上的衣柜上储存，生产员打开衣柜拿放无尘衣时，都会有粉尘进入衣柜，长久之后，衣柜里存在大量粉尘，放置在衣柜上的无尘衣会吸附不少粉尘，无尘衣不能长久放置衣柜上，时间越久沾上的粉尘越多。

技术实现要素：

本实用新型目的为了解决上述问题而提出的一种洁净棚及更衣室。

通过以下技术方案实现上述目的：

本实用新型提供一种洁净棚，包括框架、防静电垂帘、通风机、离子发生器以及抽风机，所述框架的顶部和背部为密封的顶面，所述框架与所述防静电垂帘构成一个封闭空间，所述通风机设置在所述顶部，所述抽风机设置在所述背部，所述抽风机的进风口位于所述背部的内侧面，所述抽风机的出风口位于所述背部的外侧面，所述通风机的进风口位于所述顶部的外侧面，所述通风机的出风口位于所述顶部的内侧面，所述通风机内设置有中效过滤器，所述框架的框内设有用于放置洁净衣的晾衣架，所述离子发生器位于所述框架的框内。

进一步的，还包括粉尘浓度传感器、以及PLC系统，所述粉尘浓度传感器设置在所述框架的框内，所述粉尘浓度传感器与所述PLC系统电性连接，所述 PLC系统与所述通风机电性连接，所述PLC系统与所述抽风机电性连接。

进一步的，所述离子发生器安装在通风机的出风口处。

进一步的，所述框架的框内设有用于放置防静电鞋的鞋架。

本实用新型还提供一种更衣室，包括室体，所述室体的体内设置有所述一种洁净棚。

本实用新型的有益效果是：1.将无尘衣放置在晾衣架上，晾衣架放置在框架与防静电垂帘构成一个封闭空间，通风机产生风压将洁净棚内的粉尘吹到抽风机的进风口处，通过抽风机将粉尘排走，离子发生器产生负离子来消除无尘衣上的静电，这样降低粉尘吸附在无尘衣的吸附力。2.粉尘浓度传感器和PLC系统的作用，当检测到粉尘量大于设定值时，启动通风机和抽风机工作，起到节省电费的作用。3.将离子发生器安装在通风机的出风口处，有利于负离子的扩散，提高除静电效果。4.将洁净棚设置在更衣室，有利于工作员提取、储存、更换无尘衣。与现有技术的洁净更衣室相比，不需要将更衣室做成无尘洁净级别，节省成本。

附图说明

图1为本实用新型的洁净棚和更衣室配合的结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述：

图1所示，本实用新型提供一种洁净棚，包括框架1、防静电垂帘2、通风机3、离子发生器7以及抽风机4，所述框架1的顶部11和背部12为密封的顶面，所述框架1与所述防静电垂2帘构成一个封闭空间，所述通风机3设置在所述顶部11，所述抽风机4设置在所述背部12，所述抽风机4的进风口位于所述背部12的内侧面，所述抽风机4的出风口位于所述背部12的外侧面，所述通风机3的进风口位于所述顶部11的外侧面，所述通风机3的出风口位于所述顶部11的内侧面，所述通风机3内设置有中效过滤器，所述框架1的框内设有用于放置洁净衣的晾衣架5，所述离子发生器7位于所述框架1的框内。将无尘衣放置在晾衣架5上，晾衣架5放置在框架1与防静电垂帘构2成一个封闭空间，通风机3产生风压将洁净棚内的粉尘吹到抽风机5的进风口处，通过抽风机5将粉尘排走。离子发生器7产生负离子来消除无尘衣上的静电，这样降低粉尘吸附在无尘衣的吸附力。

还包括粉尘浓度传感器6、以及PLC系统，所述粉尘浓度传感器6设置在所述框架1的框内，所述粉尘浓度传感器6与所述PLC系统电性连接，所述PLC 系统与所述通风机3电性连接，所述PLC系统与所述抽风机4电性连接。通过上述方案，当检测到粉尘量大于设定值时，启动通风机3和抽风机4工作，起到节省电费的作用。

所述离子发生器7安装在通风机3的出风口处。通过上述方案，将离子发生器7安装在通风机3的出风口处，有利于负离子的扩散，提高除静电效果。

所述框架1的框内设有用于放置防静电鞋的鞋架8。

图1所示，本实用新型还提供一种更衣室，包括室体9，所述室体9的体内设置有所述一种洁净棚。将洁净棚设置在更衣室，有利于工作员提取、储存、更换无尘衣，且不需要将更衣室做成无尘洁净级别，节省成本。

以上仅是本实用新型的优选实施方式，本实用新型的保护范围并不仅局限于上述实施例，凡属于本实用新型思路下的技术方案均属于本实用新型的保护范围。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理前提下的若干改进和润饰，应视为本实用新型的保护范围。