1.本实用新型涉及等静压石墨生产制造技术领域,尤其涉及一种等静压石墨测试前用鼓风烘干设备。
背景技术:2.在等静压石墨的检测环节中,等静压石墨的耐压强度也是其中之一,根据《gb/t 1427炭素材料取样》:13.1等静压石墨取样批量:检测项目在石墨化出炉后检测。每炉石墨化后产品为一批次,取样量为4块。《根据gb/t1431
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2009炭素材料耐压强度测定方法》:6.1试样须在(105
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110)℃鼓风干燥箱内烘干两小时,然后贮存在干燥器内冷却至室温备用。所以在等静压石墨抗压测试前需要一个与待测样品想配套的鼓风烘干设备。
技术实现要素:3.本实用新型的目的是解决目前没有在等静压石墨检测时配套使用的鼓风烘干设备的问题。
4.本实用新型采用如下技术方案:
5.一种等静压石墨测试前用鼓风烘干设备,包括箱体、铰链、门、高温玻璃、把手、控制面板、通气道、第一加热管、第二加热管、第一鼓风机、第一出气口、第二鼓风机、第二出气口、隔热层、烘焙箱、温度传感器、灯、石墨支架和支架凹槽,箱体上设有铰链一端,铰链另一端连接门,门上设有高温玻璃和把手,门下方设有控制面板,箱体内测设有通气道,通气道靠近箱体一侧设有第一加热管,通气道另一侧设有第二加热管,第二加热管一端设有第一鼓风机,第一鼓风机连接第一出气口,第二加热管另一端设有第二鼓风机,第二鼓风机连接第二出气口,第二加热管另一侧设有隔热层,隔热层另一侧设有烘焙箱,烘焙箱内部设有温度传感器、灯和石墨支架,石墨支架上设有支架凹槽。
6.进一步的,第二鼓风机内设有活性炭。
7.进一步的,门与高温玻璃之间采用密封圈密封,门与箱体连接处设有密封圈,密封圈为耐高温绝缘隔热材料密封。
8.进一步的,灯为cob光源,灯外侧采用隔热材料作为灯罩。
9.进一步的,支架凹槽尺寸为42mmx42mmx5mm。
10.本实用新型的优点在于:可以一次性完成一批次等静压石墨采样的烘干准备,操作简单,方便快捷。
附图说明
11.图1为本实用新型的正视图;
12.图2为本实用新型的俯视结构图;
13.图3为本实用新型的a
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a剖视图。
14.图中,1
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箱体、2
‑
铰链、3
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门、4
‑
高温玻璃、5
‑
把手、6
‑
控制面板、7
‑ꢀ
通气道、8
‑
第一
加热管、9
‑
第二加热管、10
‑
第一鼓风机、11
‑
第一出气口、 12
‑
第二鼓风机、13
‑
第二出气口、14
‑
隔热层、15
‑
烘焙箱、16
‑
温度传感器、 17
‑
灯、18
‑
石墨支架、19
‑
支架凹槽。
具体实施方式
15.为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案,下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分的实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都应当属于本实用新型保护的范围。
16.在本实用新型的描述中,需要理解的是,术语“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用新型和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。
17.结合图1至图3所示的一种等静压石墨测试前用鼓风烘干设备,包括箱体1、铰链2、门3、高温玻璃4、把手5、控制面板6、通气道7、第一加热管8、第二加热管9、第一鼓风机10、第一出气口11、第二鼓风机12、第二出气口13、隔热层14、烘焙箱15、温度传感器16、灯17、石墨支架18和支架凹槽19,箱体1上设有铰链2一端,铰链2另一端连接门3,门3上设有高温玻璃4和把手5,门3下方设有控制面板6,箱体1内测设有通气道7,通气道7靠近箱体1一侧设有第一加热管8,通气道7另一侧设有第二加热管 9,第二加热管9一端设有第一鼓风机10,第一鼓风机10连接第一出气口11,第二加热管9另一端设有第二鼓风机12,第二鼓风机12连接第二出气口13,第二加热管9另一侧设有隔热层14,隔热层14另一侧设有烘焙箱15,烘焙箱15内部设有温度传感器16、灯17和石墨支架18,石墨支架18上设有支架凹槽19。
18.其中,第二鼓风机12内设有活性炭;门3与高温玻璃4之间采用密封圈密封,门3与箱体1连接处设有密封圈,密封圈为耐高温绝缘隔热材料密封;灯17为cob光源,灯17外侧采用隔热材料作为灯罩;支架凹槽19尺寸为 42mmx42mmx5mm。
19.工作原理:控制面板控制鼓风机、发热管和灯,温度传感器测量烘培箱温度并传递至控制面板,第一出气口喷出热气,第二出气口吸收热气,第二鼓风机内设有活性炭,等静压石墨内蒸发出的水分跟随热气流动,被活性炭吸收,等静压石墨表面残余颗粒也可以被活性炭吸收,支架凹槽为 42mmx42mmx5mm,因为待测等静压石墨块大小应为40mm
±
0.1mmx40mm
±ꢀ
0.1mmx40mm
±
0.1mm,所以支架凹槽可以完全收纳四块待测样品,灯为cod光源,发热低不影响烘焙箱整体温度,灯与高温玻璃可以更直接观察等静压石墨在烘干时的状态。
20.显然,以上所描述的实施方式仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施方式。基于本实用新型中的实施方式,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式,都属于本实用新型保护的范围。