一种匣钵的制作方法

文档序号:26728887发布日期:2021-09-22 21:28阅读:120来源:国知局
一种匣钵的制作方法

1.本实用新型涉及一种匣钵。


背景技术:

2.在前驱体焙烧为成品过程中,窑炉内的烧结气氛对最终成品性能有着重要的影响。匣钵是焙烧正极材料的重要辅助设备之一,目前为了提升产能,窑炉设计是多层多列,多层多列的匣钵进窑炉焙烧,或者增加匣钵高度以加大半成品的装填量。但是多层多列匣钵排列整齐进入窑炉煅烧或者增加匣钵的装填量均会导致窑炉内的气氛控制不好,气氛不均导致中间匣钵传热慢,热量传播不均,从而导致材料受热不均,排胶不畅,造成产品质量不稳定,最终导致成品性能的劣化。当减少匣钵堆叠数量或者减少单个匣钵的装填量,窑炉内气氛得到改善,但带来的问题是生产效率大大降低,导致生产成本提高。为此,需要开发一种新型匣钵,在提高半成品装填量的同时,改善窑炉内的气体流通通道,从而保证窑炉内的烧结气氛,最终保证产品质量,大大降低生产成本。


技术实现要素:

3.为解决上述技术问题,本实用新型的目的在于提供一种匣钵。
4.本实用新型解决其技术问题是采用以下的技术方案来实现的。
5.本实用新型提供一种匣钵,包括一顶部开口的匣体,匣体侧围的外表面设置有隔离结构,隔离结构使相邻两个匣体间隔开,相邻两个匣钵的隔离结构形成供气体流过的通道。
6.在本实用新型中“相邻两个匣钵”不限制方向,可以是任何方向的相邻;通常匣钵为四方体,此时指前后、左右、上下六个面相邻的匣钵。
7.本实用新型提供一种匣钵,包括一顶部开口的匣体,匣体外表面设置有隔离结构,隔离结构使相邻两个匣体间隔开,相邻两个匣钵的隔离结构形成供气体流过的通道。
8.在本实用新型的一个实施例中,隔离结构包括条形板和/或隔离块。
9.在本实用新型的一个实施例中,匣体包括一底板和多个侧板,底板和多个侧板围合形成顶部开口的匣体。
10.在本实用新型的一个实施例中,隔离结构设置于侧板和/或底板的外表面上。
11.在本实用新型的一个实施例中,隔离结构使相邻两个匣体间隔开的距离大于0且小于侧板的最长边长。
12.在本实用新型的一个实施例中,隔离结构使相邻两个匣体间隔开的距离大于0且小于侧板的最短边长。
13.在本实用新型的一个实施例中,隔离结构使相邻两个匣体间隔开的距离与侧板的厚度相同。
14.在本实用新型的一个实施例中,隔离结构设置于匣体侧围的外表面。
15.在本实用新型的一个实施例中,匣体的侧板的顶部均向下凹陷形成凹面,隔离结
构位于凹面的上方或下方。
16.在本实用新型的一个实施例中,隔离结构的顶面与匣体的顶面共面或者相平行。
17.在本实用新型的一个实施例中,隔离结构包括条形板;条形板位于凹面的上方。
18.在本实用新型的一个实施例中,条形板的表面镂空且内部为中空结构。
19.在本实用新型的一个实施例中,匣体包括一底板和四个侧板;四个侧板与底板围合形成顶部开口的匣体;隔离结构包括四个条形板且四个条形板分别对应设置于四个侧板的外表面,四个条形板首尾连接围合形成框体,框体套设在匣体的外表面。
20.在本实用新型的一个实施例中,隔离结构包括隔离块;每个侧板的外表面至少设置有一个隔离块。
21.在本实用新型的一个实施例中,每个侧板上均设置有两个隔离块。
22.在本实用新型的一个实施例中,每个侧板上的两个隔离块在一条直线上。在本实用新型的一个实施例中,匣体与隔离结构一体成型。
23.本实用新型提供的匣钵,其包括一顶部开口的匣体,匣体侧围的外表面设置有隔离结构,隔离结构使相邻两个匣体间隔开,相邻两个匣钵的隔离结构形成供气体流过的通道。该匣钵使得在多层多列辊道窑炉内焙烧时,气氛通过上述通道在每个匣钵四周均匀形成气流,可明显提高炉内温度均匀性,同时在需要排胶时由于均匀气流可以均匀快速排出焙烧材料所产生的废弃胶体,从而也可以提高产品质量和批次稳定性。
附图说明
24.此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分,示出了符合本技术的实施例,并与说明书一起用于解释本技术的原理。为了更清楚地说明本技术实施例的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,对于本领域普通技术人员而言,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
25.图1为本实用新型第一实施例中匣钵的结构示意图。
26.图2为图1中的隔离结构的示意图。
27.图3为图1中的侧视图。
28.图4为本实用新型第二实施例中条形板的局部结构示意图。
29.图5为本实用新型第三实施例中匣钵的结构示意图。
30.图6为图5中的侧视图。
31.图7为本实用新型第四实施例中匣钵的结构示意图。
32.图8为本实用新型第五实施例中匣钵的结构示意图。
33.图9为本实用新型第六实施例中匣钵的结构示意图。
34.图10为本实用新型第七实施例中匣钵的结构示意图。
35.图11为本实用新型实施例中匣钵多层多列排布的其中一种结构示意图。
36.图12为本实用新型实施例中匣钵多层多列排布的另一种结构示意图。
37.本技术目的的实现、功能特点及优点将结合实施例,参照附图做进一步说明。通过上述附图,已示出本技术明确的实施例,后文中将有更详细的描述。这些附图和文字描述并不是为了通过任何方式限制本技术构思的范围,而是通过参考特定实施例为本领域技术人员说明本技术的概念。
具体实施方式
38.以下由特定的具体实施例说明本技术的实施方式,熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本技术的其他优点及功效。
39.在下述描述中,参考附图,附图描述了本技术的若干实施例。应当理解,还可使用其他实施例,并且可以在不背离本实用新型的精神和范围的情况下进行机械组成、结构以及操作上的改变。下面的详细描述不应该被认为是限制性的,并且本实用新型的各个实施例的范围仅由公布的专利的权利要求书所限定。这里使用的术语仅是为了描述特定实施例,而并非旨在限制本技术。
40.第一实施例
41.图1为本实用新型第一实施例中匣钵的结构示意图,图2为图1中的隔离结构的示意图,图3为图1中的侧视图。请结合图1至图3,本实用新型的实施例提供一种匣钵,包括一顶部开口的匣体10,匣体10侧围的外表面设置有隔离结构20,隔离结构20使相邻两个匣体10间隔开,相邻两个匣钵的隔离结构20形成供气体流过的通道。本实施例中,匣体10与隔离结构20一体成型。在其他实施例中,匣体10与隔离结构20可通过黏接或者焊接进行连接。
42.请结合图1和图2,匣体10包括一底板11和四个侧板12,隔离结构20设置在侧板12的外表面。隔离结构20包括四个条形板21,四个条形板21首尾连接围合形成框体,框体套设在匣体10的外表面。条形板21的中部为镂空结构,镂空结构的侧壁为曲面或者平面,也就是说,镂空结构整体可以呈棱柱状,也可以呈圆柱状,在此,不对镂空结构做限制,只要能保证气体可以通过即可。
43.请结合图3,匣体10的四个侧板12的顶部均向下凹陷形成凹面121,形成隔离结构20的条形板21位于凹面121的上方。也就是说,条形板21的高度h要小于凹面121的深度,以便于气体流通。在本实用新型的一个实施例中,隔离结构20的顶面与匣体10的顶面共面。在其他实施例中,隔离结构20的顶面与匣体10的顶面可以相平行。
44.具体地,条形板21的厚度d可以与侧板12的厚度相同,或者条形板21的厚度d小于匣体10的四个侧板12中最长侧板12的边长。
45.在本实用新型的一个实施例中,侧板12的凹面121的深度为3cm,匣体的侧板12的厚度为1cm,条形板21的厚度d可以选为大于等于1cm且小于3cm。在另一个实施例中,条形板21的厚度d和高度h可以均为2cm。
46.请结合图1至图3,因为隔离结构20的存在,当相邻两个匣钵设置在同一平面且相互抵靠时,相邻两个匣钵的隔离结构20的侧面相互接触,使得相邻两个隔离结构20的镂空结构邻向形成供气体流过的通道;当相邻两个匣钵层叠设置时,上方匣钵的隔离结构20的镂空结构与下方匣钵的隔离结构20的镂空结构相对设置形成供气体流过的通道。因此,在多层多列辊道窑炉内焙烧时,气氛通过上述通道在每个匣钵四周均匀形成气流,可明显提高炉内温度均匀性,同时在需要排胶时由于均匀气流可以均匀快速排出焙烧材料所产生的废弃胶体,从而也可以提高产品质量和批次稳定性。
47.第二实施例
48.图4为本实用新型第二实施例中条形板的局部结构示意图。请结合图4,本实施例与第一实施例的区别在于,条形板21的结构设置有一定区别。
49.请结合图1至图4,本实施例中,条形板21的镂空结构内还设置有多个空心柱体
213,多个空心柱体213沿镂空结构的长度方向依次排列。也就是说,气体不仅可以经空心柱体213流过,也可以经空心柱体213与镂空结构之间的空隙流过。
50.具体地,空心柱体213可以为空心的圆柱体,在其他实施例中,空心柱体213也可以为棱柱结构或者圆台结构,在此,不对空心柱体213的结构进行限制。
51.本实施例还包括的其他部件及结构,具体请参考第一实施例,在此不再赘述。
52.第三实施例
53.图5为本实用新型第三实施例中匣钵的结构示意图,图6为图5中的侧视图。请结合图5至图6,本实施例与第一实施例的区别在于,隔离结构20不同。
54.请继续参考图5至图6,本实用新型的实施例提供一种匣钵,包括一顶部开口的匣体10,匣体10侧围的外表面设置有隔离结构20,隔离结构20使相邻两个匣体10间隔开,相邻两个匣钵的隔离结构20形成供气体流过的通道。该隔离块23可以为正方体也可以为长方体,本实施例中,该隔离块23为正方体,此时,隔离块23的高度h与其厚度d相等,例如,均为2cm。
55.请结合图5至图6,匣体10包括一底板11和四个侧板12,隔离结构20设置在侧板12的外表面,隔离结构20包括多个隔离块23,每个侧板12的外表面至少设置有一个隔离块23。其中,每个侧板12上的隔离块23在侧板12上的正投影位于侧板12内。也就是说,隔离块23在垂直方向上的高度h小于侧板12在垂直方向上的高度。
56.具体地,隔离块23的厚度小于匣体10的四个侧板12中最长侧板12的最长边长,或者隔离块23的厚度与侧板12的厚度相同。
57.在本实用新型的一个实施例中,隔离结构20的顶面与匣体10的顶面共面。在其他实施例中,隔离结构20的顶面与匣体10的顶面可以相平行。
58.在本实用新型的一个实施例中,每个侧板12上均设置有两个隔离块23,该两个隔离块23在一条直线上,两个隔离块23分别与对应的侧板12的两侧相平齐,且隔离块23的厚度与侧板12的厚度相同。
59.在本实用新型的一个实施例中,侧板12的凹面121的深度为3cm,匣体的侧板12的厚度为1cm,隔离块23的厚度d大于等于1cm且小于等于3cm。
60.第四实施例
61.图7为本实用新型第四实施例中匣钵的结构示意图。请结合图7,本实施例中,隔离结构20包括隔离块23(图5),本实施例与第一实施例的区别在于,隔离结构20位于匣体10的上表面未形成有凹面的位置。也就是说,通过在匣体10的上表面设置隔离结构20,当两个匣钵堆叠时,可以使上下相邻两个匣体10之间形成供气体流过的通道。
62.请继续参考图7,本实施例中,隔离结构20的厚度大于匣体10的侧板12(图1)的厚度,隔离块靠近凹面的一侧与侧板12或匣钵的内表面对齐,其另外一侧超出侧板12的厚度。因此,当两个匣钵位于同一平面且相互抵接时,相邻两个匣体10之间也可以形成供气体流过的通道。
63.第五实施例
64.图8为本实用新型第五实施例中匣钵的结构示意图。请结合图8,本实施例中,隔离结构20可以包括隔离块23(图5),本实施例与第四实施例的区别在于,隔离结构20的厚度等于匣体10的侧板12(图1)的厚度。
65.请继续参考图8,隔离结构20位于匣体10的上表面。也就是说,通过在匣体10的上表面设置隔离结构20,当两个匣钵堆叠时,可以使上下相邻两个匣体10之间形成供气体流过的通道。
66.第六实施例
67.图9为本实用新型第六实施例中匣钵的结构示意图。本实施例中,隔离结构20包括多个大小不同的隔离块23(图5),多个隔离块23中,有的隔离块23的厚度小于匣体10的侧板12(图1)的厚度,有的隔离块23的大于匣体10的侧板12(图1)的厚度。
68.请继续参考图9,隔离结构20位于匣体10的下表面,且隔离结构20可以设置在匣体10的下表面的任意位置。也就是说,通过在匣体10的上表面设置隔离结构20,当两个匣钵堆叠时,可以使上下相邻两个匣体10之间形成供气体流过的通道。当多个隔离块23中有至少一个从匣体10的外表面露出,设置在同一个平面的相邻两个匣钵之间可以形成供气体流通的通道。
69.第七实施例
70.图10为本实用新型第七实施例中匣钵的结构示意图。本实施例中,隔离结构20包括多个大小不同的隔离块23(图5),多个隔离块23均设置在匣体10的侧围,也就是侧板12(图1)的侧围,该多个隔离块23设置可以位于同一平面,也可以位于不同的平面,只要保证当两个匣钵位于同一平面且相互抵靠时,相邻两个匣体10之间可以形成供气体流过的通道即可。
71.图11为本实用新型实施例中匣钵多层多列排布的其中一种结构示意图,请结合图11,该实施例种,匣钵的隔离结构20包括多个条形板21时,该多个条形板21套设在匣体10的外表面,相邻两个匣钵之间均可以形成供气体流过的通道。
72.图12为本实用新型实施例中匣钵多层多列排布的另一种结构示意图。请结合图12,匣钵的隔离结构20包括多个隔离块23时,该多个隔离块23均设置在匣体10的外表面,相邻两个匣钵之间均可以形成供气体流过的通道。
73.请结合图1至图12,因为隔离结构20的存在,当相邻两个匣钵设置在同一平面且相互抵靠时,相邻两个匣钵的隔离结构20的侧面相互接触,使得相邻两个隔离结构20的邻向形成供气体流过的通道;或者,当相邻两个匣钵层叠设置时,上方匣钵的隔离结构20与下方匣钵的隔离结构20相对设置形成供气体流过的通道。因此,在多层多列辊道窑炉内焙烧时,气氛通过上述通道在每个匣钵四周均匀形成气流,可明显提高炉内温度均匀性,同时在需要排胶时由于均匀气流可以均匀快速排出焙烧材料所产生的废弃胶体,从而也可以提高产品质量和批次稳定性。
74.在本文中,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,除了包含所列的那些要素,而且还可包含没有明确列出的其他要素。
75.在本文中,所涉及的前、后、上、下等方位词是以附图中零部件位于图中以及零部件相互之间的位置来定义的,只是为了表达技术方案的清楚及方便。应当理解,方位词的使用不应限制本技术请求保护的范围。
76.以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
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