一种SiC托盘烘干及颗粒去除一体机的制作方法

本技术涉及半导体硅片背面加工领域化学气相沉积氧化膜工艺，具体的说是一种sic托盘烘干及颗粒去除一体机。

背景技术：

1、apcvd工艺是在大气压下进行的，由于反应速率快，cvd系统简单，适于较厚的介质淀积。多用于硅片sio2薄膜的低温合成，其反应方程式为：

2、sih4+o2→sio2+2h2 450℃

3、amax800vapcvd是amaya公司的设备，它采用sic托盘作为硅片的载体，在硅片进行工艺生产过程中减少金属污染，可使硅片获得更加稳定的工艺性能。但是，sic托盘在工艺生产过程中会跟随生长sio2膜，在表面产生硬质颗粒，会对后面硅片的生产过程造成影响。所以，工艺要求sic托盘表面sio2膜厚为50微米时，进行清洗，去除表面sio2膜。

4、由于清洗过后的sic托盘表面残留有液体，需将这些残留的液体快速干燥，干燥后的托盘表面依然会有少量sio2颗粒残留，这些残留的sio2颗粒会对后续托盘的利用造成影响，未经去除将会影响产品品质。

技术实现思路

1、本实用新型旨在提供一种sic托盘烘干及颗粒去除一体机，以快速烘干sic托盘表面的残留液体并将托盘表面残留的sio2颗粒去除。

2、为了解决以上技术问题，本实用新型采用的具体方案为：一种sic托盘烘干及颗粒去除一体机，包括烘干箱和设置在烘干箱上方的电气柜，烘干箱具有烘干腔和烘箱门，烘干腔内设置有托盘承载架和位于托盘承载架上方的压空吹扫机构，烘干腔的侧壁开设有排风口，排风口内设置有排风风机；压空吹扫机构包括压空主管和并联在压空主管排气端的多根压空支管，压空主管穿过电气柜并与外部的压空气源连通，位于电气柜内的压空主管上连接有能够驱动其转动的动力组件。

3、作为上述技术方案的进一步优化：动力组件包括驱动电机、设置在驱动电机上的主动轮以及设置在压空主管上的从动轮，主动轮和从动轮通过传动带连接。

4、作为上述技术方案的进一步优化：主动轮和从动轮均为齿轮，传动带为齿形带；或者主动轮和从动轮均为链轮，传动带为链条。

5、作为上述技术方案的进一步优化：压空主管的排气端连接有分配板，压空支管设置在分配板的下板面，且分配板内设置有连通压空主管和压空支管的容气腔。

6、作为上述技术方案的进一步优化：排风口位于压空吹扫机构和托盘承载架之间。

7、作为上述技术方案的进一步优化：托盘承载架包括多根支腿和支撑在支腿上端的承载盘，承载盘上开设有散热孔。

8、作为上述技术方案的进一步优化：烘箱门上开设有观察窗，观察窗内嵌设有耐高温玻璃。

9、作为上述技术方案的进一步优化：烘干箱的内壁覆盖有隔热板。

10、作为上述技术方案的进一步优化：烘干箱的箱体与烘箱门之间设置有配合使用的磁性组件。

11、作为上述技术方案的进一步优化：烘干腔内设置有腔体加热温度探头和腔体超温温度探头。

12、与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：本实用新型通过烘干箱与压空吹扫机构结合，能够将清洗后托盘表面残留的液体快速烘干，提高了托盘的烘干效率，同时压空空气还能够将托盘表面残留的sio2颗粒吹扫去除，保证sic托盘在工艺生产中的循环使用和产品质量的提高。

技术特征：

1.一种sic托盘烘干及颗粒去除一体机，包括烘干箱(2)和设置在烘干箱(2)上方的电气柜(1)，烘干箱(2)具有烘干腔(5)和烘箱门(6)，其特征在于：烘干腔(5)内设置有托盘承载架(13)和位于托盘承载架(13)上方的压空吹扫机构(3)，烘干腔(5)的侧壁开设有排风口(4)，排风口(4)内设置有排风风机(9)；

2.根据权利要求1所述的一种sic托盘烘干及颗粒去除一体机，其特征在于：动力组件(8)包括驱动电机(801)、设置在驱动电机(801)上的主动轮(802)以及设置在压空主管(301)上的从动轮(804)，主动轮(802)和从动轮(804)通过传动带(803)连接。

3.根据权利要求2所述的一种sic托盘烘干及颗粒去除一体机，其特征在于：主动轮(802)和从动轮(804)均为齿轮，传动带(803)为齿形带；或者主动轮(802)和从动轮(804)均为链轮，传动带(803)为链条。

4.根据权利要求1所述的一种sic托盘烘干及颗粒去除一体机，其特征在于：压空主管(301)的排气端连接有分配板(304)，压空支管(302)设置在分配板(304)的下板面，且分配板(304)内设置有连通压空主管(301)和压空支管(302)的容气腔。

5.根据权利要求1所述的一种sic托盘烘干及颗粒去除一体机，其特征在于：排风口(4)位于压空吹扫机构(3)和托盘承载架(13)之间。

6.根据权利要求1所述的一种sic托盘烘干及颗粒去除一体机，其特征在于：托盘承载架(13)包括多根支腿(1302)和支撑在支腿(1302)上端的承载盘(1301)，承载盘(1301)上开设有散热孔。

7.根据权利要求1所述的一种sic托盘烘干及颗粒去除一体机，其特征在于：烘箱门(6)上开设有观察窗(16)，观察窗(16)内嵌设有耐高温玻璃。

8.根据权利要求1所述的一种sic托盘烘干及颗粒去除一体机，其特征在于：烘干箱(2)的内壁覆盖有隔热板(12)。

9.根据权利要求1所述的一种sic托盘烘干及颗粒去除一体机，其特征在于：烘干箱(2)的箱体与烘箱门(6)之间设置有配合使用的磁性组件。

10.根据权利要求1所述的一种sic托盘烘干及颗粒去除一体机，其特征在于：烘干腔(5)内设置有腔体加热温度探头(10)和腔体超温温度探头(11)。

技术总结
一种SiC托盘烘干及颗粒去除一体机，包括烘干箱和设置在烘干箱上方的电气柜，烘干箱具有烘干腔和烘箱门，烘干腔内设置有托盘承载架和位于托盘承载架上方的压空吹扫机构，烘干腔的侧壁开设有排风口，排风口内设置有排风风机；压空吹扫机构包括压空主管和并联在压空主管排气端的多根压空支管，压空主管穿过电气柜并与外部的压空气源连通，位于电气柜内的压空主管上连接有能够驱动其转动的动力组件，本技术用于快速烘干SiC托盘表面的残留液体并将托盘表面残留的SiO<subgt;2</subgt;颗粒去除。

技术研发人员：乔光辉,王晓飞,刘建锋,张天鹏,王海君,董开纪,王军,韩天浩
受保护的技术使用者：麦斯克电子材料股份有限公司
技术研发日：20230802
技术公布日：2024/2/19