一种真空室抗弯转结构的制作方法

本技术属于真空烧结炉设备领域，具体涉及一种真空室抗弯转结构。

背景技术：

1、真空烧结炉主要用于高性能精密合金、磁性材料、电力电子器件等的精密烧结等工艺，通过将材料放入至烧结炉所具有的真空室内，并通过对真空室进行加热达到烧结效果。

2、目前行业内生产的同类产品中，真空室多是通过支撑架体固定在加热室的一侧，通过将真空室置入加热室内，通过加热室完成对真空室的加热，该过程被称为炉体加热工艺，而现有炉体加热工艺过程中，由于真空室是固定不动的，长期的加热下，会导致烧结炉所具有的真空室受热不均并产生轻微的形变，长时间积累下，真空室前端会明显出现向下弯曲的现象，造成真空腔及炉腔的损坏，降低设备使用寿命，因此，提出一种真空室抗弯转结构解决上述问题。

技术实现思路

1、针对现有技术的以上缺陷或改进需求中的一种或者多种，本实用新型提供了一种真空室抗弯转结构，具有真空室支撑时可旋转，增加加热表面积，提高抗弯性能的优点。

2、为实现上述目的，本实用新型提供一种真空室抗弯转结构，包括一个真空室本体；以及

3、所述真空室本体的一侧设有一个加热室，所述加热室可将所述真空室本体套设在内；

4、所述真空室本体的下方设有一组支撑架机构；

5、所述支撑架机构包括一个u型底座，所述u型底座上方承载设有一个安装箱，所述安装箱具有一个矩形空腔，所述u型底座内固定设有一个推杆电机且所述推杆电机输出端径向延伸，所述推杆电机输出端连接设有一个调节条，所述调节条呈矩形且其上部两侧分别一体具有一个梯形座，所述安装箱内固定设有两个定位轴且两个所述定位轴上均转动设有一个调节曲柄。

6、作为本实用新型的进一步改进，所述推杆电机输出端连接设有一个电机推杆，所述电机推杆贯穿安装箱底部与所述调节条相连接。

7、作为本实用新型的进一步改进，所述安装箱内通过螺栓件固定设有两个限位块以及两个限位座，两个所述限位块与两个所述限位座之间均具有间距，所述调节条滑动于两个限位块与两个限位座之间，所述限位块与所述限位座呈直线设置。

8、作为本实用新型的进一步改进，两个所述调节曲柄的下端部均固定设有一个定位柱，两个所述定位柱外圆周面均转动设有一个下部滚轮，所述下部滚轮转动于调节曲柄的下端部，两个所述下部滚轮均位于梯形座上方且与梯形座所具有的坡面相贴合。

9、作为本实用新型的进一步改进，两个所述调节曲柄的上端部均固定设有一个定柱，两个所述定柱外圆周面均转动设有一个上部滚轮，所述上部滚轮转动于调节曲柄的上端部。

10、作为本实用新型的进一步改进，所述调节条的顶端固定设有一个滚轴且通过滚轴转动连接有一个中心滚轮，所述中心滚轮位于两个上部滚轮中间。

11、总体而言，通过本实用新型所构思的以上技术方案与现有技术相比，具有的有益效果包括：

12、本实用新型的真空室抗弯转结构，通过将待烧结的材料放入至真空室本体内，并将设置的真空室本体推入至加热室内，通过设置的加热室完成对真空室本体的加热烧结，通过设置的两个上部滚轮与中心滚轮之间的滚动配合，以及设置的调节条对两个上部滚轮的间距调节，最终实现了对真空室本体进行的旋转夹持，进而使得真空室本体可在支撑架机构上进行旋转式夹持定位，使用者可通过外力驱动真空室本体进行旋转，通过设置的真空室本体的旋转式加热，相较于传统的固定支架式加热，旋转加热的方式使得真空室本体的整体受热面积更为均匀，有效的减少了真空室本体在加热时产生的高温形变，延长了设备的使用寿命。

技术特征：

1.一种真空室抗弯转结构，其特征在于，包括一个真空室本体（1）；以及

2.根据权利要求1所述的真空室抗弯转结构，其特征在于，所述推杆电机（33）输出端连接设有一个电机推杆（34），所述电机推杆（34）贯穿安装箱（32）底部与所述调节条（36）相连接。

3.根据权利要求1所述的真空室抗弯转结构，其特征在于，所述安装箱（32）内通过螺栓件固定设有两个限位块（35）以及两个限位座（38），两个所述限位块（35）与两个所述限位座（38）之间均具有间距，所述调节条（36）滑动于两个限位块（35）与两个限位座（38）之间，所述限位块（35）与所述限位座（38）呈直线设置。

4.根据权利要求1所述的真空室抗弯转结构，其特征在于，两个所述调节曲柄（310）的下端部均固定设有一个定位柱（311），两个所述定位柱（311）外圆周面均转动设有一个下部滚轮（312），所述下部滚轮（312）转动于调节曲柄（310）的下端部，两个所述下部滚轮（312）均位于梯形座（37）上方且与梯形座（37）所具有的坡面相贴合。

5.根据权利要求1所述的真空室抗弯转结构，其特征在于，两个所述调节曲柄（310）的上端部均固定设有一个定柱（313），两个所述定柱（313）外圆周面均转动设有一个上部滚轮（314），所述上部滚轮（314）转动于调节曲柄（310）的上端部。

6.根据权利要求1所述的真空室抗弯转结构，其特征在于，所述调节条（36）的顶端固定设有一个滚轴且通过滚轴转动连接有一个中心滚轮（315），所述中心滚轮（315）位于两个上部滚轮（314）中间。

技术总结
本技术公开了一种真空室抗弯转结构，属于真空烧结炉设备领域，包括一个真空室本体；以及真空室本体的一侧设有一个加热室，加热室可将真空室本体套设在内；真空室本体的下方设有一组支撑架机构。本技术的真空室抗弯转结构，具有真空室支撑时可旋转，增加加热表面积，提高抗弯性能的优点通过设置的两个上部滚轮与中心滚轮之间的滚动配合，以及设置的调节条对两个上部滚轮的间距调节，最终实现了对真空室本体进行的旋转夹持，通过设置的真空室本体的旋转式加热，相较于传统的固定支架式加热，旋转加热的方式使得真空室本体的整体受热面积更为均匀，有效的减少了真空室本体在加热时产生的高温形变，延长了设备的使用寿命。

技术研发人员：刘洋,杨昆宁,李娜
受保护的技术使用者：青岛精诚华旗微电子设备有限公司
技术研发日：20231010
技术公布日：2024/4/29