专利名称：自吸式均布无堵塞溶气释放器的制作方法
技术领域：
本实用新型是应用于水处理压力溶气气浮工艺中的一种溶气水释放设备，特别涉及对溶气释放器结构的改进。
进水盘上的进水孔及工作时的压力是控制整个释放器出水流量及溶气效率的关键因素。进水盘与自吸反射盘在自由状态下，两盘之间间隔可根据不同规格为0.5～50mm，进水盘上的进水孔可按不同流量为φ1～φ70mm。
本实用新型的最大特点是自吸反射盘在进水盘与连接架之间，在无工作压力的自由状态下，可以在导向柱上来回移动。这样，使两盘间隔尽量大一些，以利更大的堵塞物排出。当释放器开始运行工作时，进水口的压力溶气水初始压力为零，此时两盘间隙为最大状态，在压力逐步升高的溶气水冲击下将释放器安装管道内的杂物全部冲走。随着系统内工作压力的正常，两盘间的压力水流速加快，在高速水流的作用下，使两盘间逐步产生真空状态。由于真空作用的产生，将可移动的自吸反射盘自动吸向进水盘，此时压力溶气水非常均匀的在两盘之间360°全方位减压释放，两盘之间的间隙随着压力的上升而变小，反之，则间隙变大。所以，该释放器的发明产生，彻底告别了以往释放器的堵塞问题及安装时增设反冲管路设施，降低了成本及提高了工作效率，并且拥有优越的布水效果。
附
图1是本实用新型结构示意图.
附图2是图的俯视图。
权利要求1.一种自吸式均布无堵塞溶气释放器，带有进水盘(1)、自吸反射盘(2)，进水盘中部带有进水口；在进水盘底面和自吸反射盘上面的中部，沿圆周方向带有三角形的槽，进水盘与自吸反射盘上的齿对齿、槽对槽布置；其特征在于连接架(4)带有至少三根导向柱(3)，连接架位于进水盘和自吸反射盘的中心部位，导向柱穿过自吸反射盘，与进水盘固定连接；自由状态下自吸反射盘在连接架的导向柱上可来回移动。
2.按照权利要求1所述的自吸式均布无堵塞溶气释放器，其特征在于进水盘与自吸反射盘在自由状态下，两盘间隙为0.5～50mm。
3.按照权利要求1所述的自吸式均布无堵塞溶气释放器，其特征在于进水盘上的进水口孔径为φ1～φ70mm。
专利摘要本实用新型是应用于水处理压力溶气气浮工艺中的一种自吸式均布无堵塞溶气释放器,带有进水盘、自吸反射盘,进水盘中部带有进水口;在进水盘底面和自吸反射盘上面的中部,沿圆周方向带有三角形的槽,进水盘与自吸反射盘上的齿对齿、槽对槽布置;连接架带有至少三根导向柱,连接架位于进水盘和自吸反射盘的中心部位,导向柱穿过自吸反射盘,与进水盘固定连接;自由状态下自吸反射盘在连接架的导向柱上可来回移动。进水盘与自吸反射盘在自由状态下,两盘间隙为0.5～50mm。进水盘上的进水口孔径为φ1～φ70mm。本实用新型的最大特点是:自吸反射盘在进水盘与连接架之间,在无工作压力的自由状态下,可以在导向柱上来回移动。这样,使两盘间隔尽量大一些,以利更大的堵塞物排出。
文档编号C02F1/20GK2504254SQ01253798
公开日2002年8月7日 申请日期2001年9月20日 优先权日2001年9月20日
发明者王勇 申请人:王勇