本发明涉及污水处理领域，尤其是公开了一种生物沥滤系统及采用该系统的污泥处理方法。
背景技术：
传统污泥在生物沥滤调理过程中，需要投加大量的还原性硫作为生物沥滤菌群的营养底物，经过处理后，大部分还原性硫被氧化为硫酸盐。其中一部分硫酸盐随上清液排出，其余的硫酸盐留在污泥内，同时还有未利用的还原性硫也残留在污泥内，造成污泥中的硫含量显著增加，一般可达到污泥干基的1%以上。另外污泥在生物沥滤调理后，其ph一般在5.0以下。较低的ph值和较高的硫含量会对污泥后续处理造成严重的影响，土地利用时会造成土壤盐碱化，焚烧会产生大量的so2排放，厌氧消化会产生大量的h2s气体，因此需要采取改进措施。
技术实现要素：
本发明克服现有技术存在的不足，提供一种可以降低污泥含硫量、含水量、增大污泥ph值的生物沥滤系统。
为了解决上述技术问题，本发明采用的技术方案为：一种生物沥滤系统，包括：
生物沥滤池，用于对污泥进行生物沥滤处理；处理时，将浓缩后的污泥，其含固率3~8%，进行生物沥滤处理，期间投加以还原性硫为主要成分的营养底物，经过生物沥滤处理后，部分污泥回流，其余在沉淀池中静置，然后排出上清液；
沉淀池，与所述生物沥滤池连接，用于对经过生物沥滤处理后的污泥在沉淀池中进行重力沉淀；
厌氧池，与所述沉淀池连接，用于对经过沉淀处理的污泥进行还原处理；厌氧池中对污泥进行搅拌，经过20~50h处理后，污泥的ph提高到6.0~8.0，污泥中的含硫量减少60~90%。
机械脱水机，与厌氧池连接，用于对污泥进行脱水处理。
根据实际需要,脱水机还可以采用叠螺脱水机、电渗析脱水机、离心脱水机。
采用一种生物沥滤系统的污泥处理方法，包括以下步骤：
步骤一、对污泥进行生物沥滤；首先将浓缩后的污泥进行生物沥滤处理，期间投加以还原性硫为主要成分的营养底物，经过生物沥滤处理；
步骤二、沉淀；将经过步骤一生物沥滤处理的污泥在沉淀池中静置，然后排出上清液；
步骤三、厌氧还原处理；利用硫酸盐还原菌对污泥进行处理，处理时，对污泥进行搅拌，同时在厌氧池中保持微负压状态；在厌氧池中保持微负压状态可以确保及时排除还原产生的h2s气体；
步骤四、利用隔膜板框脱水机对经过步骤三处理的污泥进行脱水；脱水后的含水率可达到55~80%。
进一步的，所述步骤一中经过生物沥滤处理的污泥部分进入沉淀池进行沉淀处理，部分污泥回流。
进一步的，所述步骤三中经过厌氧还原处理的污泥，一部分进入步骤四，一部分回流至厌氧池。
本发明与现有技术相比有以下有益效果：
1、污泥中的含硫量减少60~90%，对后续堆肥、焚烧、填埋或土地利用不利影响显著降低；
2、处理后的污泥ph由5.0以下提高到6.0~8.0；
3、处理后污泥的含水率可达到55~80%，然后可进行好氧堆肥或焚烧处置；
4、利用厌氧还原过程中产生的h2s作为生物沥滤曝气的气源，通过污泥生物沥滤吸收气体中的h2s作为营养底物，构成污泥处理中的硫循环，实现了物质的循环利用。
附图说明
图1是一种生物沥滤系统结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步详细描述，以下实施例用于说明本发明，但不用来限制本发明的范围。
如图1所示为一种生物沥滤系统，包括：
生物沥滤池1，用于对污泥进行生物沥滤处理；
沉淀池2，与生物沥滤池1连接，用于对经过生物沥滤处理后的污泥在沉淀池中进行重力沉淀；
厌氧池3，与沉淀池2连接，用于对经过沉淀处理的污泥进行还原处理；和机械脱水机4，与厌氧池3连接，用于对污泥进行脱水处理。
采用该生物沥滤系统的污泥处理方法，包括以下步骤：
步骤一、对污泥进行生物沥滤；首先将浓缩后的污泥进行生物沥滤处理，期间投加以还原性硫为主要成分的营养底物，经过生物沥滤处理；
步骤二、沉淀；将经过步骤一生物沥滤处理的污泥在沉淀池中静置，然后排出上清液；
步骤三、厌氧还原处理；利用硫酸盐还原菌对污泥进行处理，处理时，对污泥进行搅拌，同时在厌氧池中保持微负压状态；
步骤四、利用隔膜板框脱水机对经过步骤三处理的污泥进行脱水。
经检测，污泥中的含硫量减少80%，污泥ph由5.0以下提高到8.0，处理后污泥的含水率达到60%，然后可进行好氧堆肥或焚烧处置。
进一步的，作为优选的实施方式，污泥处理方法的步骤一中经过生物沥滤处理的污泥部分进入沉淀池进行沉淀处理，部分污泥回流。
进一步的，作为优选的实施方式，污泥处理方法的步骤三中经过厌氧还原处理的污泥，一部分进入步骤四，一部分回流至厌氧池。
进一步的，作为优选的实施方式，污泥处理方法的步骤三中产生的h2s气体用于步骤一中生物沥滤池曝气。
以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。