一种用于二极管自动清洗系统的冲洗装置的制作方法

文档序号:17115562发布日期:2019-03-15 20:34阅读:196来源:国知局
一种用于二极管自动清洗系统的冲洗装置的制作方法

本实用新型涉及二极管清洗设备领域,具体涉及一种用于二极管自动清洗系统的冲洗装置。



背景技术:

二极管(英语:Diode),电子元件当中,一种具有两个电极的装置,只允许电流由单一方向流过,许多的使用是应用其整流的功能。目前发光二极管广泛应用于各种电子产品的指示灯、光纤通信用光源、各种仪表的指示器以及照明。在生产二极管的过程中,清洗工序是在制作部件时必须要经过制作工序,特别是像二极管这样的电子部件,在前面部分的制作工序中,难免会使得二极管沾上许多灰尘,如果不将二极管清洗干净,在使用过程中,由灰尘产生的静电将会损坏二极管或者其他更加紧密的部件。然而,现有技术中采用人工将放置有二极管的清洗板放入清洗槽内清洗,这种清洗方式清洗不全面,不充分,由此,本实用新型推出了一种用于二极管自动清洗系统的冲洗装置。



技术实现要素:

本实用新型所要解决的技术问题在于提供一种结构简单,清洗充分的一种用于二极管自动清洗系统的冲洗装置。

本实用新型所要解决的技术问题采用以下的技术方案来实现:一种用于二极管自动清洗系统的冲洗装置,包括浸泡池以及设置在浸泡池一端的推料装置、设置在浸泡池内的滑轨、设置在所述浸泡池中部的清洗装置,所述浸泡池通过支架固定在所述推料装置的出料端,所述滑轨相对设置且滑轨上滑动连接清洗板,所述清洗装置包括水箱、连接水箱的水管、侧板,所述侧板设置在所述浸泡池的上部,所述水箱设置在所述侧板的顶部,所述侧板的内壁对应所述滑轨的上端设有侧滑轨,所述水管平行设置在所述滑轨的上方,所述水管的末端均匀设有喷头,所述侧滑轨的两端分别倾斜设置导向轨,所述导向轨分别对接所述滑轨,所述滑轨的顶端对应所述侧滑轨的一侧设有限位槽,所述浸泡池的外侧上端焊接有下槽钢,所述下槽钢的上端对应设有上槽钢,所述上槽钢与所述下槽钢之间滑动设有玻璃门。

进一步的,所述侧板内壁对应所述侧滑轨的上方水平设有限位挡板。

进一步的,所述浸泡池的底部设有循环水箱,所述循环水箱的底部设有循环泵,所述循环泵通过管道与所述水箱连通。

进一步的,所述水管靠近水箱的一段设有阀门。

本实用新型的有益效果是:本实用新型结构简单,工作效率高,通过侧滑轨、喷头以及导向轨的配合连接,解决了现有的二极管清洗装置清洗不干净,不全面的问题,通过设置浸泡池,预先对二极管进行浸泡处理,便于后续的冲洗,通过设置导向轨以及侧滑轨,便于对清洗板的倾斜处理,在倾斜时冲洗更加充分、彻底。

附图说明:

图1为本实用新型的正视图;

图2为本实用新型的断面图;

图3为图2中A部的放大图;

图4为本实用新型在实施例中的结构示意图;

其中:1-推料装置;2-浸泡池;3-清洗板;4-滑轨;401-限位槽;5-清洗装置; 501-水箱;502-侧板;503-水管;504-阀门;505-喷头;506-限位挡板;507- 支架;508-侧滑轨;509-导向轨;510-循环水箱;511-循环泵;512-门体; 513-下槽钢;514-上槽钢。

具体实施方式:

为了使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体图示,进一步阐述本实用新型。

实施例1

如图1,图2,图3所示,本实用新型提供一种用于二极管自动清洗系统的冲洗装置,其结构包括浸泡池2以及设置在浸泡池2一端的推料装置1、设置在浸泡池2内的滑轨4、设置在浸泡池2中部的清洗装置5,浸泡池2通过支架507 固定在推料装置1的出料端,滑轨4相对设置且滑轨4上滑动连接清洗板3,清洗装置5包括水箱501、连接水箱501的水管503、侧板502,侧板502设置在浸泡池2的上部,水箱501设置在侧板502的顶部,侧板502的内壁对应滑轨4的上端设有侧滑轨508,水管503平行设置在滑轨4的上方,水管503的末端均匀设有喷头505,侧滑轨508的两端分别倾斜设置导向轨509,导向轨509分别对接滑轨4,滑轨4的顶端对应侧滑轨508的一侧设有限位槽401,浸泡池2的外侧上端焊接有下槽钢513,下槽钢513的上端对应设有上槽钢514,上槽钢514与下槽钢513之间滑动设有玻璃门512,侧板502内壁对应侧滑轨508的上方水平设有限位挡板506。

首先清洗板3滑动设置在滑轨4上,先浸泡一段时间,再经导向轨509滑入侧滑轨508,此时清洗板3处于倾斜状态,同时设置在水管503上的喷头505对其冲洗。

实施例2

如图1,图2,图3所示,本实用新型提供一种用于二极管自动清洗系统的冲洗装置,其结构包括浸泡池2以及设置在浸泡池2一端的推料装置1、设置在浸泡池2内的滑轨4、设置在浸泡池2中部的清洗装置5,浸泡池2通过支架507 固定在推料装置1的出料端,滑轨4相对设置且滑轨4上滑动连接清洗板3,清洗装置5包括水箱501、连接水箱501的水管503、侧板502,侧板502设置在浸泡池2的上部,水箱501设置在侧板502的顶部,侧板502的内壁对应滑轨4的上端设有侧滑轨508,水管503平行设置在滑轨4的上方,水管503的末端均匀设有喷头505,侧滑轨508的两端分别倾斜设置导向轨509,导向轨509分别对接滑轨4,滑轨4的顶端对应侧滑轨508的一侧设有限位槽401,浸泡池2的外侧上端焊接有下槽钢513,下槽钢513的上端对应设有上槽钢514,上槽钢514与下槽钢513之间滑动设有玻璃门512,侧板502内壁对应侧滑轨508的上方水平设有限位挡板506。

如图4所示,浸泡池2的底部设有循环水箱510,循环水箱510的底部设有循环泵511,循环泵511通过管道与水箱501连通,水管503靠近水箱的一段设有阀门504。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解,本实用新型不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理,在不脱离本实用新型精神和范围的前提下,本实用新型还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

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