超声波清洗仪的制作方法

本实用新型涉及清洗设备技术领域，特别是涉及一种超声波清洗仪。

背景技术：

现有的超声波清洗设备应用非常广泛，如LED芯片清洗，一般的超声波清洗设备包括超声波发生器、超声波清洗箱体及设在超声波清洗箱体上的超声波清洗槽，所述超声波发生器设在所述超声波清洗箱体内。由于清洗的LED芯片产品大小不一，对于体积较小LED芯片来说，清洗槽体积相对较大，造成清洗液的浪费。此外，由于有的产品在清洗过程中对于温度有一定的要求，一般的清洗设备中没有设置温度控制装置，无法满足此项要求。因此，如何提供一种功能多样化的超声波清洗设备是目前亟需解决的技术问题。

技术实现要素：

本实用新型的主要目的在于克服现有技术的以上缺点和不足，提供一种多功能的超声波清洗仪。

一种超声波清洗仪包括超声波清洗箱体和超声波发生器，所述超声波发生器设在超声波清洗箱体内，所述超声波清洗箱体包括箱本体、设置在箱本体上的至少一个清洗槽、盖设在所述清洗槽上的盖体及设在箱本体内的温度控制装置，所述清洗槽的底面为斜面，所述清洗槽底端靠近清洗槽后侧面处开设有出口。

在其中一个实施例中，所述箱本体上设有第一清洗槽和第二清洗槽，所述第一清洗槽和第二清洗槽相邻，所述第二清洗槽内可活动地设有不锈钢滤网。

在其中一个实施例中，还包括干燥箱，所述干燥箱包括干燥槽和上盖，所述上盖盖设在所述干燥槽上，所述干燥箱位于所述超声波清洗箱体的一侧，所述干燥箱与所述温度控制装置连接。

在其中一个实施例中，所述箱本体前面板上设有启动键和温度控制键。

在其中一个实施例中，所述盖体上设有拉手。

在其中一个实施例中，所述清洗槽的开口形状为圆形、方形、长方形或椭圆形中的一种。

在其中一个实施例中，还包括若干量杯，所述量杯放置再所述清洗槽内，所述量杯的大小不同。

本实用新型超声波清洗仪包括超声波清洗箱体和超声波发生器，所述超声波发生器设在超声波清洗箱体内，所述超声波清洗箱体包括箱本体、设置在箱本体上的至少一个清洗槽、盖设在所述清洗槽上的盖体及设在箱本体内的温度控制装置，所述清洗槽的底面为斜面，所述清洗槽底端靠近清洗槽后侧面处开设有出口；本实用新型通过设置温度控制装置可以满足不同待清洗产品的需要，此外根据产品大小的不同，增加了体积不等的量杯，可以根据产品大小的不同而选择添加清洗液，本实用新型功能多样，可以满足不同产品的需要。

附图说明

图1为本实用新型超声波清洗仪第一实施例的示意图；

图2为本实用新型超声波清洗仪第二实施例的示意图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施方式。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本实用新型的公开内容理解的更加透彻全面。

需要说明的是，当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“和／或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

实施例一

请参阅图1，本实用新型提供的一种超声波清洗仪，包括超声波清洗箱体1和超声波发生器2，所述超声波发生器2设在超声波清洗箱体1内，所述超声波清洗箱体1包括箱本体11、设置在箱本体11上的第一清洗槽12和第二清洗槽13，盖设在所述第一清洗槽12上的盖体14，盖设在所述第二清洗槽13上的盖体15，设在箱本体11内的温度控制装置16，所述第一清洗槽12和第二清洗槽13的底面为斜面，所述第一清洗槽12和第二清洗槽13的底端靠近槽后侧面处分别开设有出口17、18。所述第一清洗槽12和第二清洗槽13的底面为斜面并设置由出口，方便清洗液使用之后流出。

其中，所述第一清洗槽12和第二清洗槽13相邻，所述第二清洗槽13内可活动地设有不锈钢滤网19。

其中，所述箱本体11前面板上设有启动键和温度控制键。

其中，所述盖体（14，15）上设有拉手（141，151）。

其中，所述第一清洗槽12和第二清洗槽13的开口形状为方形。此为本实施例的一种形状，也可以未圆形、长方形或椭圆形等。

其中，本实用新型超声波清洗仪还包括若干量杯4，所述量杯4放置再所述第一清洗槽12和第二清洗槽13内，所述量杯4的大小不同。

实施例二

请参阅图2，本实用新型提供的一种超声波清洗仪，包括超声波清洗箱体1和超声波发生器2，所述超声波发生器2设在超声波清洗箱体1内，所述超声波清洗箱体1包括箱本体11和设置在箱本体11上的第一清洗槽，盖设在所述第一清洗槽12上的盖体14，设在箱本体11内的温度控制装置16，所述第一清洗槽12的底面为斜面，所述第一清洗槽12的底端靠近槽后侧面处分别开设有出口17。

其中，还包括干燥箱3，所述干燥箱3包括干燥槽31和上盖32，所述上盖32盖设在所述干燥槽31上，所述干燥箱3位于所述超声波清洗箱体11的一侧，所述干燥箱3与所述温度控制装置16连接。所述第一清洗槽12和干燥槽31相邻，所述干燥槽31内可活动地设有不锈钢滤网19。

其中，所述箱本体11前面板上设有启动键和温度控制键。

其中，所述盖体14上设有拉手141，所述上盖32上设有拉手321。

其中，所述第一清洗槽12和干燥槽31的开口形状为方形。

其中，本实用新型超声波清洗仪还包括若干量杯4，所述量杯4放置再所述第一清洗槽12，所述量杯4的大小不同。

本实用新型超声波清洗仪包括超声波清洗箱体和超声波发生器，所述超声波发生器设在超声波清洗箱体内，所述超声波清洗箱体包括箱本体、设置在箱本体上的至少一个清洗槽、盖设在所述清洗槽上的盖体及设在箱本体内的温度控制装置，所述清洗槽的底面为斜面，所述清洗槽底端靠近清洗槽后侧面处开设有出口；本实用新型通过设置温度控制装置可以满足不同待清洗产品的需要，此外根据产品大小的不同，增加了体积不等的量杯，可以根据产品大小的不同而选择添加清洗液，本实用新型功能多样，可以满足不同产品的需要。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。