一种CdTe薄膜电池基板清洗设备的制作方法

本实用新型涉及电池生产设备领域，特别涉及一种cdte薄膜电池基板清洗设备。

背景技术：

现有工艺制程，cdte薄膜电池的生产制造，先在导电玻璃基板上镀cds,然后镀cdte。由于基板镀膜完成后处于高温状态，在冷却过程中容易受到环境湿度、粉尘颗粒等因素影响，导致表面洁净度变差，特别是镀膜后放置时间久的芯片，受环境影响使得基板表面洁净度变差，且表面亲水性不好。在后面工序中添加氯化镉溶液，由于亲水性差的原因导致氯化镉溶液在基板表面分布不均匀，而氯化镉分布的均匀性影响电池的转换效率。因此如何克服现有技术中的问题，是获得cdte太阳能电池大面积高转换效率的关键。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种cdte薄膜电池基板清洗设备。

为解决上述技术问题所采用的技术方案：一种cdte薄膜电池基板清洗设备，包括：药液冲洗区，所述药液冲洗区设置有药液冲洗装置；纯水冲洗区，所述纯水冲洗区设置有纯水冲洗装置；干燥区，所述干燥区设置有干燥装置；传送装置，所述传送装置用以驱动基板依次经过药液冲洗区、纯水冲洗区以及干燥区。

优选的，所述药液冲洗区的底部设置有第一储液槽，所述第一储液槽与所述药液冲洗装置之间设置有可将第一储液槽内的液体输送至药液冲洗装置的第一输送装置。

优选的，所述第一输送装置包括第一管道,所述第一管道上设置有循环泵、过滤装置、调节流量阀以及压力检测装置。

优选的，所述清洗设备还包括第二储液槽以及可将第二储液槽内的液体输送至第一储液槽的第二输送装置，且所述第一储液槽内设置有浓度检测装置。

优选的，所述第一储液槽上设置有加热装置和温度检测装置。

进一步优选的，所述药液冲洗装置和所述纯水冲洗装置均包括喷淋头。

进一步优选的，还包括第三输送装置、第四输送装置以及位于所述纯水冲洗区底部的第三储液槽和第四储液槽，所述纯水冲洗装置的数量为两组，分别为第一纯水冲洗装置和第二纯水冲洗装置，所述第三输送装置可将第三储液槽内的液体输送至第一纯水冲洗装置，所述第四输送装置可将第四储液槽内的液体输送至第二纯水冲洗装置，所述第三储液槽与第四储液槽之间设置有可将第四储液槽内的液体溢流至第三储液槽的溢流口。

进一步优选的，所述第三储液槽通过一溢流通道与一废弃管道相连通。

进一步优选的，两组纯水冲洗装置之间设置有第一风切装置。

进一步优选的，所述药液冲洗区与所述纯水冲洗区之间设置有间隔区，所述间隔区内设置有第二风切装置。

上述技术方案的清洗设备至少具有如下优点或有益效果之一：本实用新型采用流水式对基板进行清洗，使用具有氧化性作用的药液在药液冲洗区冲洗处理后，基板表面有了更高的洁净度，又因氧化性作用，基板表面的亲水性得到了提高，有利于后面工序添加氯化镉水溶液在薄膜表面分布的均匀性，提高了电池的转换效率。上述的设备技术方案对大面积cdte薄膜太阳能电池基板的清洗同样适用。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明：

图1是本实用新型的结构简图；

图2是第一输送装置和第一储液槽的结构简图。

具体实施方式

参照图1所示，本实用新型是一种cdte薄膜电池基板清洗设备，包括药液冲洗区10、纯水冲洗区20、干燥区30以及传送装置40，药液冲洗区10设置有药液冲洗装置11；纯水冲洗区20设置有纯水冲洗装置21；干燥区30设置有干燥装置31；传送装置40用以驱动基板50依次经过药液冲洗区10、纯水冲洗区20以及干燥区30。

本实用新型采用流水式对基板50进行清洗，使用具有氧化性作用的药液在药液冲洗区10冲洗处理后，基板50表面有了更高的洁净度，又因氧化性作用，基板50表面的亲水性得到了提高，有利于后面工序添加氯化镉水溶液在薄膜表面分布的均匀性，提高了电池的转换效率。对大面积cdte薄膜太阳能电池基板50的清洗同样适用。

在其中一些实施例中，传送装置40实施例一，传送装置40设置为滚轮传送装置40，通过滚轮对基板50进行传送以将基板50依次经过药液冲洗区10、纯水冲洗区20以及干燥区30；传送装置40实施例二，传送装置40设置为链条带动主传动轴，主传动轴通过齿轮带动传送装置40，传送面为平整面，通过传动轴带动滚轮将放置在传送面上的基板50依次经过药液冲洗区10、纯水冲洗区20以及干燥区30。

在本实用新型中，干燥装置31设置为可热风吹干基板50的风机，在干燥区30设置有风刀32；除此之外，干燥装置31设置为烘干机，以烘干基板50。

参照图2所示，药液冲洗区10的底部设置有第一储液槽12，第一储液槽12与药液冲洗装置11之间设置有可将第一储液槽12内的液体输送至药液冲洗装置11的第一输送装置。第一输送装置包括第一管道121,第一管道121上设置有循环泵122、过滤装置123、调节流量阀124以及压力检测装置125。第一储液槽12用来储存工艺配方药液，通过通过循环泵122将药液抽起一定水压输送至药液冲洗装置11，随后药液冲洗装置11对基板50上、下表面进行冲洗。

如图1和图2所示，在本实用新型中，清洗设备还包括第二储液槽13以及可将第二储液槽13内的液体输送至第一储液槽12的第二输送装置，且第一储液槽12内设置有浓度检测装置。第二储液槽13用来储存化学品液体，基板50在药物冲洗区使用工艺配方药液进行冲洗，通过第一储液槽12内设置的浓度检测装置检测所储存的工艺配方药液的浓度值，以及时通过第二输送装置将第二储液槽13内的化学品液体输送至第一储液槽12，使得工艺运行中药液比例保持在一定范围。

上述的第二输送装置包括设置在第一储液槽12和第二储液槽13之间的第二管道131以及设置在第二管道上的自动加液装置132。

在本实用新型中，清洗设备还包括用于监控基板50进板数量的进片感应器及计数器，通过基板50进片数量设定第一储液槽12内添加的化学品添加量，由自动加液装置自动添加，进一步保证配方比例在一定范围。

在第一储液槽12上设置有加热装置126和温度检测装置。通过温度检测装置检测第一储液槽12内的药液温度以及时通过加热装置126进行加热，加热装置126为红外线加热装置、电阻加热装置等。

在本实用新型中，药液冲洗装置11和纯水冲洗装置21均包括喷淋头。

在本实用新型中，还包括第三输送装置、第四输送装置以及位于纯水冲洗区20底部的第三储液槽22和第四储液槽23，纯水冲洗装置21的数量为两组，分别为第一纯水冲洗装置和第二纯水冲洗装置，第三输送装置可将第三储液槽22内的液体输送至第一纯水冲洗装置，第四输送装置可将第四储液槽23内的液体输送至第二纯水冲洗装置，第三储液槽22与第四储液槽23之间设置有可将第四储液槽23内的液体溢流至第三储液槽22的溢流口。

当基板50经过第二纯水冲洗装置，第二纯水冲洗装置冲洗基板50后的液体流回至第三储液槽22，第二纯水冲洗装置对应第四储液槽23.

第三储液槽22和第四储液槽23用来储存纯水，第四储液槽23内的纯水向第三储液槽22溢流，在工艺运行中持续补充纯水。

第三输送装置包括第三管道以及设置在第三管道的循环泵122、过滤装置123、调节流量阀124以及压力检测装置125。第四输送装置包括第四管道以及设置在第四管道的循环泵122、过滤装置123、调节流量阀124以及压力检测装置125。

第三储液槽22通过一溢流通道与一废弃管道相连通。第三储液槽22内多的纯水向废水管道溢流。

两组纯水冲洗装置21之间设置有第一风切装置61。减少了两组纯水冲洗装置21之间的液体的相互交换或溢出。

在药液冲洗区10与纯水冲洗区20之间设置有间隔区70，间隔区70内设置有第二风切装置71。减少了药液冲洗区10和纯水冲洗区20的液体的相互交换或溢出，进一步提高了基板50的洁净度。

本实用新型的工作原理：传送装置40驱动基板50依次经过药液冲洗区10、纯水冲洗区20以及干燥区30，通过药液喷淋头、纯水喷淋头对基板50进行冲洗处理后，干燥装置31对基板50进行干燥。

上述实施例只是本实用新型的优选方案，本实用新型还可有其他实施方案。本领域的技术人员在不违背本实用新型精神的前提下还可作出等同变形或替换，这些等同的变型或替换均包含在本申请权利要求所设定的范围内。