一种自来水高效净化工艺的制作方法

1.本发明涉及净水技术领域，特别涉及一种自来水高效净化工艺。


背景技术：

2.随着社会经济的快速发展，城乡供水需求日益增加。随着地下水资源形势日益严峻，大力发展及利用地上水的水处理技术，保证水量、水质，满足安全饮水需求成为亟待解决的问题。然而地上及地下水资源水质恶化与人们对健康饮水要求提高之间的矛盾日益扩大，在国家的农村及城镇饮水安全的政策及环境之下，新建及改造适合农村及城镇的，节能、安全、投资及运营成本较低的中心型自来水厂对于整个行业是机遇，又是挑战。近百年来，饮用水处理主要采用混凝沉淀及过滤，然后消毒的方法，对水质好的地下水甚至仅石英砂过滤再消毒即可。混凝沉淀所需反应时间较长，设备容积大，占地面积大，造价高，而占地小的机械搅拌式的混凝沉淀结构复杂，动力消耗大，设备故障率高。经济发展、水资源恶化，单纯的石英砂过滤和消毒已经无法满足人们对水质的要求，增加高效的生物活性炭过滤非常必要。开发出适合中小型自来水厂的，工艺先进可靠、占地小、造价低、能耗和运行成本低、自动化程度高的水处理工艺及装置显得极为迫切。


技术实现要素：

3.本发明要解决的技术问题是提供一种适应于中、小型水厂，进行模块化、组合式建设, 节约占地面积,降低能耗的自来水高效净化工艺。
4.为了解决上述技术问题，本发明的方案为：
5.一种自来水高效净化工艺，其特征在于：包括膜池系统、辅助系统、管道系统、电气系统、自动控制系统组成，原水通过微絮凝区反应后，进入膜池内经陶瓷平板膜过滤，滤水经管道通过重力输水至清水池，未通过膜孔的有机物、悬浮物等经沉淀后进入膜池底部贮泥区，定时排放至污泥池。
6.具体地，所述膜池系统的内部设有过滤膜，该过滤膜为陶瓷平板膜，该陶瓷平板膜为微米级过滤，该水浊度小于0.1。
7.具体地，所述辅助系统在膜片在拦截物质过程中，会有大量的悬浮物、有机物附着在膜片表面，堵塞膜孔，使膜片的通量变小，该辅助系统自动工作维护性清洗，在膜片表面进行气冲洗，在膜片内部进行水洗，当通过维护性清洗膜通量无法达到设计能力的90-18％时，启动恢复性清洗。
8.具体地，整个水净化过程采用plc控制，取水泵和供水泵均变频可调，取水泵由清水池液位控制。
9.具体地，所述膜池内包括同心布置的内筒、中间筒和外筒；外筒为钢筋混凝土结构，内筒和中间筒为塑料或不锈钢材质；内筒内部设多层孔板扰流件，内筒内部为一次絮凝区，内筒底部为预两端锥形的预混合室，预混合室底部为旋流进水装置；中间筒内部为二次絮凝区设多层孔板扰流件，中间筒底部为活性泥渣悬浮区，泥渣悬浮区与沉淀区相通，沉淀
区上部设斜管，斜管上的清水区设出水渠，出水渠与外筒外侧的出水槽连通；泥渣悬浮区底部均设多个虹吸排泥管，部分污泥用污泥泵送至进水管回用；进水管内部设有螺旋混合装置。
10.具体地，所述方形钢筋混凝土清水池位于地下或半地下，清水池上方钢筋混凝土封闭，清水池留有检修门，设有液位传感器。
11.具体地，所述辅助系统采用一拖一、一拖二的组合模式
12.具体地，整个水净化过程采用plc控制，取水泵和供水泵均为变频可调，取水泵由清水池液位控制，保证清水池液位在一定范围内；供水泵由输往用户的管网压力控制，实现恒压供水，特别是保证用水高峰期的水压。
13.与现有技术相比，本发明的有益效果为：
14.本发明提供的一种自来水高效净化工艺，该与传统工艺相比，适应性广、能耗低、占地面积小，造价低，更适合中小型自来水厂；各个设备为一系统单又独立分开，比如可根据水质情况考虑是否采用活性炭过滤；膜池系统、辅助系统、管道系统、电气系统、自动控制系统之间采用自流方式，节省动力消耗及投资；全厂全自动化控制，保证系统的精确、稳定，降低了运行成本和人力成本；通过设置水位液差让整个系统不受限制的情况下实现自流，使得该工艺短流程、低能耗、高效率，大大减少了运营成本，实现了节能减排。
附图说明
15.图1为本发明的流程图；
16.图2本发明的结构示意图
具体实施方式
17.下面结合附图对本发明的具体实施方式作进一步说明。
18.在此需要说明的是，对于这些实施方式的说明用于帮助理解本发明，但并不构成对本发明的限定。此外，下面所描述的本发明各个实施方式中所涉及的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互组合。
19.实施例1
20.根据图1-2所示，一种自来水高效净化工艺，其特征在于：包括膜池系统、辅助系统、管道系统、电气系统、自动控制系统组成，原水通过微絮凝区反应后，进入膜池内经陶瓷平板膜过滤，滤水经管道通过重力输水至清水池，未通过膜孔的有机物、悬浮物等经沉淀后进入膜池底部贮泥区，定时排放至污泥池。
21.优选地，所述膜池系统的内部设有过滤膜，该过滤膜为陶瓷平板膜，该陶瓷平板膜为微米级过滤，该水浊度小于0.1。
22.优选地，所述辅助系统在膜片在拦截物质过程中，会有大量的悬浮物、有机物附着在膜片表面，堵塞膜孔，使膜片的通量变小，该辅助系统自动工作维护性清洗，在膜片表面进行气冲洗，在膜片内部进行水洗，当通过维护性清洗膜通量无法达到设计能力90％时，启动恢复性清洗。
23.优选地，整个水净化过程采用plc控制，取水泵和供水泵均变频可调，取水泵由清水池液位控制。
24.优选地，所述膜池内包括同心布置的内筒、中间筒和外筒；外筒为钢筋混凝土结构，内筒和中间筒为塑料或不锈钢材质；内筒内部设多层孔板扰流件，内筒内部为一次絮凝区，内筒底部为预两端锥形的预混合室，预混合室底部为旋流进水装置；中间筒内部为二次絮凝区设多层孔板扰流件，中间筒底部为活性泥渣悬浮区，泥渣悬浮区与沉淀区相通，沉淀区上部设斜管，斜管上的清水区设出水渠，出水渠与外筒外侧的出水槽连通；泥渣悬浮区底部均设多个虹吸排泥管，部分污泥用污泥泵送至进水管回用；进水管内部设有螺旋混合装置。
25.优选地，所述方形钢筋混凝土清水池位于地下或半地下，清水池上方钢筋混凝土封闭，清水池留有检修门，设有液位传感器。
26.优选地，所述辅助系统采用一拖一、的组合模式。
27.实施例2。
28.一种自来水高效净化工艺，其特征在于：包括膜池系统、辅助系统、管道系统、电气系统、自动控制系统组成，原水通过微絮凝区反应后，进入膜池内经陶瓷平板膜过滤，滤水经管道通过重力输水至清水池，未通过膜孔的有机物、悬浮物等经沉淀后进入膜池底部贮泥区，定时排放至污泥池。
29.优选地，所述膜池系统的内部设有过滤膜，该过滤膜为陶瓷平板膜，该陶瓷平板膜为微米级过滤，该水浊度小于0.1。
30.优选地，所述辅助系统在膜片在拦截物质过程中，会有大量的悬浮物、有机物附着在膜片表面，堵塞膜孔，使膜片的通量变小，该辅助系统自动工作维护性清洗，在膜片表面进行气冲洗，在膜片内部进行水洗，当通过维护性清洗膜通量无法达到设计能力95％时，启动恢复性清洗。
31.优选地，整个水净化过程采用plc控制，取水泵和供水泵均变频可调，取水泵由清水池液位控制。
32.优选地，所述膜池内包括同心布置的内筒、中间筒和外筒；外筒为钢筋混凝土结构，内筒和中间筒为塑料或不锈钢材质；内筒内部设多层孔板扰流件，内筒内部为一次絮凝区，内筒底部为预两端锥形的预混合室，预混合室底部为旋流进水装置；中间筒内部为二次絮凝区设多层孔板扰流件，中间筒底部为活性泥渣悬浮区，泥渣悬浮区与沉淀区相通，沉淀区上部设斜管，斜管上的清水区设出水渠，出水渠与外筒外侧的出水槽连通；泥渣悬浮区底部均设多个虹吸排泥管，部分污泥用污泥泵送至进水管回用；进水管内部设有螺旋混合装置。
33.优选地，所述方形钢筋混凝土清水池位于地下或半地下，清水池上方钢筋混凝土封闭，清水池留有检修门，设有液位传感器。
34.优选地，所述辅助系统采用一拖一、一拖二的组合模式。
35.实施例3
36.一种自来水高效净化工艺，其特征在于：包括膜池系统、辅助系统、管道系统、电气系统、自动控制系统组成，原水通过微絮凝区反应后，进入膜池内经陶瓷平板膜过滤，滤水经管道通过重力输水至清水池，未通过膜孔的有机物、悬浮物等经沉淀后进入膜池底部贮泥区，定时排放至污泥池。
37.优选地，所述膜池系统的内部设有过滤膜，该过滤膜为陶瓷平板膜，该陶瓷平板膜
为微米级过滤，该水浊度小于0.1。
38.优选地，所述辅助系统在膜片在拦截物质过程中，会有大量的悬浮物、有机物附着在膜片表面，堵塞膜孔，使膜片的通量变小，该辅助系统自动工作维护性清洗，在膜片表面进行气冲洗，在膜片内部进行水洗，当通过维护性清洗膜通量无法达到设计能力98％时，启动恢复性清洗。
39.优选地，整个水净化过程采用plc控制，取水泵和供水泵均变频可调，取水泵由清水池液位控制。
40.优选地，所述膜池内包括同心布置的内筒、中间筒和外筒；外筒为钢筋混凝土结构，内筒和中间筒为塑料或不锈钢材质；内筒内部设多层孔板扰流件，内筒内部为一次絮凝区，内筒底部为预两端锥形的预混合室，预混合室底部为旋流进水装置；中间筒内部为二次絮凝区设多层孔板扰流件，中间筒底部为活性泥渣悬浮区，泥渣悬浮区与沉淀区相通，沉淀区上部设斜管，斜管上的清水区设出水渠，出水渠与外筒外侧的出水槽连通；泥渣悬浮区底部均设多个虹吸排泥管，部分污泥用污泥泵送至进水管回用；进水管内部设有螺旋混合装置。
41.优选地，所述方形钢筋混凝土清水池位于地下或半地下，清水池上方钢筋混凝土封闭，清水池留有检修门，设有液位传感器。
42.优选地，所述辅助系统采用一拖二的组合模式。
43.综上所述，在进行净化时，陶瓷平板膜过滤技术，是通过以膜两侧的压力差为驱动力，以膜为过滤介质，在一定的压力下，当原液流过膜表面时，膜表面密布的许多细小的微孔只允许水及小分子物质通过，且该出水浊度为小于0.1。
44.以上结合附图对本发明的实施方式作了详细说明，但本发明不限于所描述的实施方式。对于本领域的技术人员而言，在不脱离本发明原理和精神的情况下，对这些实施方式进行多种变化、修改、替换和变型，仍落入本发明的保护范围内。
45.下表为该系统中的技术要求。
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