一种焦铜离子处理设备的制作方法

本实用新型涉及焦铜离子处理设备技术领域，具体为一种焦铜离子处理设备。

背景技术：

焦铜离子，一般存在于电镀废水中，焦磷酸铜电镀液的主要成分是焦磷酸铜和焦磷酸钾，它们相互作用形成焦磷酸铜钾螯合物，ph在8-9时，铜处于相对稳定的螯合状态，添加硫代硫酸亚铁将铜还原成cu2o，并且使用氢氧化铁团聚将铁二价或三价羟基化，当吸附cu2o以达到去除铜的目的时，会发生共沉淀。

这是现在处理焦铜离子的设备基本都使用的步骤，在进行这些步骤之后，需要进行沉降，再进行过滤，从而将焦铜离子从水中分离出来，但是现在的沉降池，其沉降效果较差，且需要长时间稳定状态，才能完成沉降工作，无法满足大量的废水处理的要求，所以，现在需要一种焦铜离子处理设备，使焦铜离子能够快速的被清理掉。

技术实现要素：

本实用新型的目的在于提供一种焦铜离子处理设备，具备能够提高现有沉降池的沉降效果，从而提成废水处理的效率的优点，解决了现在的沉降池，其沉降效果较差，且需要长时间稳定状态，才能完成沉降工作，无法满足大量的废水处理的要求的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种焦铜离子处理设备，包括沉淀池和过滤池，所述沉淀池和过滤池相对面顶端通过连接板连接，所述沉淀池内部下表面中间位置处安装有第一挡板，所述第一挡板一侧安装有第二挡板，所述第一挡板背离第二挡板的一侧沉淀池上端安装有安装板，所述过滤池内部靠近沉淀池的一侧安装有初过滤层，所述过滤池内部背离沉淀池的一侧安装有超滤层。

优选的，所述沉淀池和过滤池外侧下端安装有预安装板，且预安装板内部插接有预安装螺母，所述预安装板和预安装螺母均设有四个。

优选的，所述连接板顶端安装有水泵，所述水泵输入端安装有水泵进水管，且水泵进水管末端安装有防堵头，所述水泵输出端安装有水泵出水管。

优选的，所述沉淀池背离过滤池的一侧上端设置有进水管。

优选的，所述过滤池背离沉淀池的一侧上端设置有出水管。

优选的，所述安装板内侧焊接有溢水板螺栓，且溢水板螺栓外侧套接有溢水板安装件，所述溢水板螺栓末端转动安装有溢水板螺母，所述溢水板安装件外侧安装有溢水板，所述溢水板安装件和溢水板均设有四个。

优选的，四个所述溢水板长度不一，且从上至下逐渐加长。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：

1、本实用新型通过设置安装板和溢水板，达到了将废水下落的速度进行缓冲，避免将沉降池底部的沉积物冲起，影响沉降功效的效果，当废水从进水管进入到沉降池内部的时候，废水会经过四个溢水板，从而形成四次缓冲，能够有效的将水的动冲击力化解掉，能够使沉降的效果更好。

2、本实用新型通过设置第一挡板和第二挡板，达到了将废水进行两次沉降，使沉降效果更好的效果，当第一挡板靠近溢水板一侧的水位高于第一挡板的时候，水会越过第一挡板，进入到第一挡板和第二挡板之间，进行二次沉降，水位不断上升，当到达第二挡板的高度之后，水会越过第二挡板，最后，通过水泵，将水抽出，通过两级沉降，使沉降效果更好，设备能够将焦铜离子有效的去除。

附图说明

图1为本实用新型的主视结构示意图；

图2为本实用新型的安装板主视结构示意图；

图3为本实用新型的水泵局部放大结构示意图。

图中：1、预安装板；2、沉淀池；3、第一挡板；4、第二挡板；5、过滤池；6、预安装螺母；7、出水管；8、超滤层；9、初过滤层；10、连接板；11、进水管；12、安装板；13、溢水板安装件；14、溢水板螺栓；15、溢水板螺母；16、溢水板；17、防堵头；18、水泵进水管；19、水泵；20、水泵出水管。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“上”、“下”、“内”、“外”“前端”、“后端”、“两端”、“一端”、“另一端”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“设置有”、“连接”等，应做广义理解，例如“连接”，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

请参阅图1，本实用新型提供的一种实施例：一种焦铜离子处理设备，包括沉淀池2和过滤池5，沉淀池2和过滤池5外侧下端安装有预安装板1，且预安装板1内部插接有预安装螺母6，预安装板1和预安装螺母6均设有四个，通过预安装板1和预安装螺母6，能够更加方便的将设备进行安装固定，沉淀池2背离过滤池5的一侧上端设置有进水管11，过滤池5背离沉淀池2的一侧上端设置有出水管7，沉淀池2和过滤池5相对面顶端通过连接板10连接，沉淀池2内部下表面中间位置处安装有第一挡板3，第一挡板3一侧安装有第二挡板4，第一挡板3背离第二挡板4的一侧沉淀池2上端安装有安装板12，过滤池5内部靠近沉淀池2的一侧安装有初过滤层9，过滤池5内部背离沉淀池2的一侧安装有超滤层8。

请参阅图1和图2，本实用新型提供的一种实施例：一种焦铜离子处理设备，包括沉淀池2和过滤池5，沉淀池2和过滤池5相对面顶端通过连接板10连接，沉淀池2内部下表面中间位置处安装有第一挡板3，第一挡板3一侧安装有第二挡板4，第一挡板3背离第二挡板4的一侧沉淀池2上端安装有安装板12，安装板12内侧焊接有溢水板螺栓14，且溢水板螺栓14外侧套接有溢水板安装件13，溢水板螺栓14末端转动安装有溢水板螺母15，溢水板安装件13外侧安装有溢水板16，溢水板安装件13和溢水板16均设有四个，四个溢水板16长度不一，且从上至下逐渐加长，通过不同长度的溢水板16的设计，能够使设备有效的将水的冲击力化解掉，使水不会将下方的沉积物冲起，影响沉降效果，过滤池5内部靠近沉淀池2的一侧安装有初过滤层9，过滤池5内部背离沉淀池2的一侧安装有超滤层8。

请参阅图1和图3，本实用新型提供的一种实施例：一种焦铜离子处理设备，包括沉淀池2和过滤池5，沉淀池2和过滤池5相对面顶端通过连接板10连接，连接板10顶端安装有水泵19，水泵19输入端安装有水泵进水管18，且水泵进水管18末端安装有防堵头17，水泵19输出端安装有水泵出水管20，沉淀池2内部下表面中间位置处安装有第一挡板3，第一挡板3一侧安装有第二挡板4，第一挡板3背离第二挡板4的一侧沉淀池2上端安装有安装板12，过滤池5内部靠近沉淀池2的一侧安装有初过滤层9，过滤池5内部背离沉淀池2的一侧安装有超滤层8。

工作原理：使用者通过预安装板1和预安装螺母6将设备安装到位，即可进使用了，含有焦铜离子的废水通过进水管11导入到沉降池2内部，通过溢水板16的作用，化解水的冲击力，水位不断升高，当第一挡板3靠近溢水板16一侧的水位高于第一挡板3的时候，水会越过第一挡板3，进入到第一挡板3和第二挡板4之间，进行二次沉降，水位不断上升，当到达第二挡板4的高度之后，水会越过第二挡板4，最后，通过水泵19，将水抽出，进入到过滤池5中，通过初过滤层9和超滤层8，进行二次过滤，最终，从出水管7排出，至此，整个设备的工作流程完成。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。