一种半导体制品清洁装置的制作方法

1.本发明主要涉及外观检测领域，尤其涉及一种半导体制品清洁装置。


背景技术：

2.当前半导体内存产品市场竞争日益激烈，客户对产品品质要求越来越高，为了避免产品外观因异物质污染被客户投诉，产品出库前需要对产品外观进行清洁。
3.外观检测设备作为产品出库前最后一道工序，在实际生产中，设备测试完成后，需要对产品进行人工清洁后再出库，导致生产效率低下，在进行人工清洁时，同时也造成了人力资源浪费，并且在人工清洁过程中增加搬运及清洁动作，因存在人为失误的风险，导致产品品质隐患增加。


技术实现要素：

4.针对现有技术的上述缺陷，本发明提供一种半导体制品清洁装置，包括机壳1，所述机壳1的尾部通过单向阀2安装在吸尘器上，所述机壳1的底部进气端3连接在离子发生器上；
5.所述机壳1包括一体设置的三角形头部101和方形手提部102，所述三角形头部101和方形手提部102之间贯通，所述三角形头部101的底部设置有进气孔，所述进气孔上安装有清洗刷4。
6.优选的，单向阀2包括膜片201、十字支架202、连接环203和固定环204，所述连接环203和固定环204同轴一体设置，所述固定环204通过连接环203与机壳1连接，所述固定环204捏固定有十字支架202，所述十字支架202远离三角形头部101的一侧安装有膜片201并通过凸头205固定。
7.优选的，膜片201的外径不小于十字支架202的外径。
8.优选的，机壳1内设置有输气管，所述输气管的一端连接在离子发生器上，另一端朝向进气孔。
9.优选的，三角形头部101远离方形手提部102的一侧安装有摄像头5。
10.优选的，方形手提部102的顶部安装有手提103。
11.优选的，清洗刷4采用尼龙材质。
12.本发明的有益效果：实现产品传输过程中表面异物质自动清洁，提升生产效率，避免人力资源浪费，减少产品异物质导致品质事故发生。
附图说明
13.图1为本发明的结构图；
14.图2为本发明中关于单向阀的结构图；
15.图3为本发明中关于单向阀另一视角的结构图；
16.图中，
17.1、机壳，101、三角形头部，102、方形手提部，103、手提；2、单向阀，201、膜片，202、十字支架，203、连接环，204、固定环；3、进气端，205、凸头；4、清洗刷；5、摄像头。
具体实施方式
18.为了使本技术领域人员更好地理解本发明的技术方案，并使本发明的上述特征、目的以及优点更加清晰易懂，下面结合实施例对本发明做进一步的说明。实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。
19.如图1-3所示可知，本发明包括有：机壳1，所述机壳1的尾部通过单向阀2安装在吸尘器上，所述机壳1的底部进气端3连接在离子发生器上；
20.所述机壳1包括一体设置的三角形头部101和方形手提部102，所述三角形头部101和方形手提部102之间贯通，所述三角形头部101的底部设置有进气孔，所述进气孔上安装有清洗刷4。
21.在本实施中优选的，单向阀2包括膜片201、十字支架202、连接环203和固定环204，所述连接环203和固定环204同轴一体设置，所述固定环204通过连接环203与机壳1连接，所述固定环204捏固定有十字支架202，所述十字支架202远离三角形头部101的一侧安装有膜片201并通过凸头205固定。
22.在本实施中优选的，膜片201的外径不小于十字支架202的外径。
23.设置上述结构，当吸尘器工作时，膜片朝向吸尘器，当吸尘器不工作的时候，膜片恢复初始位置，搭设在十字支架上，也不会产品杂质反流入机架通道内的情况，避免二次污染。
24.在本实施中优选的，机壳1内设置有输气管，所述输气管的一端连接在离子发生器上，另一端朝向进气孔。
25.设置上述结构，离子发生器产生离子风，中和气体中正负离子，预防正负离子对产品产生静电伤害。
26.在本实施中优选的，三角形头部101远离方形手提部102的一侧安装有摄像头5。
27.设置上述结构，摄像头信号连接至主控模块，主控模块在显示屏上实时监测晶体表面清洁情况，提高清洁的品质和效率。
28.在本实施中优选的，方形手提部102的顶部安装有手提103。
29.设置上述结构，方便人工或者机械手的握持，保持平衡，利于保证晶圆清晰的品质。
30.在本实施中优选的，清洗刷4采用尼龙材质。
31.设置上述结构，一方面尼龙材质耐腐蚀，耐酸碱，耐高温，另一方面避免伤害晶圆表面，但是又能达到清洗的目的。
32.在使用中，外部的清洁气体由离子发生器进行正负离子中和后进入机壳内的输气管，然后通过清洗刷之间的通气孔对产品表面进行异物质清洁，同时吸尘器将产品清洁后产生的异物质吸入，利用单向阀避免异物质漂浮对设备内部及产品再次造成污染，没有产品运输时，整个清洁系统待机状态。
33.上述实施例仅例示性说明本专利申请的原理及其功效，而非用于限制本专利申请。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本专利申请的精神及范畴下，对上述实施例进行
修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本专利申请所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本专利请的权利要求所涵盖。


技术特征：
1.一种半导体制品清洁装置，其特征在于，包括机壳(1)，所述机壳(1)的尾部通过单向阀(2)安装在吸尘器上，所述机壳(1)的底部进气端(3)连接在离子发生器上；所述机壳(1)包括一体设置的三角形头部(101)和方形手提部(102)，所述三角形头部(101)和方形手提部(102)之间贯通，所述三角形头部(101)的底部设置有进气孔，所述进气孔上安装有清洗刷(4)。2.根据权利要求1所述的半导体制品清洁装置，其特征在于：所述单向阀(2)包括膜片(201)、十字支架(202)、连接环(203)和固定环(204)，所述连接环(203)和固定环(204)同轴一体设置，所述固定环(204)通过连接环(203)与机壳(1)连接，所述固定环(204)捏固定有十字支架(202)，所述十字支架(202)远离三角形头部(101)的一侧安装有膜片(201)并通过凸头(205)固定。3.根据权利要求2所述的半导体制品清洁装置，其特征在于：所述膜片(201)的外径不小于十字支架(202)的外径。4.根据权利要求3所述的半导体制品清洁装置，其特征在于：所述机壳(1)内设置有输气管，所述输气管的一端连接在离子发生器上，另一端朝向进气孔。5.根据权利要求4所述的半导体制品清洁装置，其特征在于：所述三角形头部(101)远离方形手提部(102)的一侧安装有摄像头(5)。6.根据权利要求5所述的半导体制品清洁装置，其特征在于：所述方形手提部(102)的顶部安装有手提(103)。7.根据权利要求6所述的半导体制品清洁装置，其特征在于：所述清洗刷(4)采用尼龙材质。

技术总结
本发明提供一种半导体制品清洁装置，包括机壳，机壳的尾部通过单向阀安装在吸尘器上，机壳的底部进气端连接在离子发生器上；机壳包括一体设置的三角形头部和方形手提部，三角形头部和方形手提部之间贯通，三角形头部的底部设置有进气孔，进气孔上安装有清洗刷。本发明实现产品传输过程中表面异物质自动清洁，提升生产效率，避免人力资源浪费，减少产品异物质导致品质事故发生。导致品质事故发生。导致品质事故发生。


技术研发人员：沈泽斌
受保护的技术使用者：海太半导体（无锡）有限公司
技术研发日：2021.05.19
技术公布日：2022/11/22