一种清洗装置的制作方法

1.本实用新型涉及晶圆制造工艺技术领域，尤其涉及一种清洗装置。


背景技术：

2.随着集成电路制造工艺不断进步，半导体器件的体积变得越来越小，这也导致了非常微小的颗粒也足以影响半导体器件的制造和性能。在当前的半导体清洗过程中，单片式清洗装置提高了晶圆的清洗速度及良率。单片式清洗机是由几个清洗腔体组成，每一片晶圆在各个腔体中进行单独的喷淋式清洗，清洗效果较好，避免了交叉污染。


技术实现要素：

3.本实用新型提供一种清洗装置，能够保证主体的稳定性，防止主体运行出现问题。
4.本技术实施例提供一种清洗装置，包括承载台、清洗件以及驱动组件。
5.所述承载台具有用于承载待清洗件的承载台面；所述清洗件具有在所述清洗件沿竖向移动至预设位置时供所述承载台穿过的清洗腔；所述驱动组件包括支撑块和驱动件，所述支撑块包括第一分部与第二分部，所述第一分部与所述第二分部通过一铰轴铰接，所述铰轴水平设置，所述第一分部与所述清洗件连接，所述第二分部与所述驱动件连接，所述驱动件用于驱动所述清洗件沿竖向移动。
6.其中，所述清洗件配设有两组所述驱动组件，两组所述驱动组件中的所有所述铰轴平行。
7.根据一些实施例，所述清洗件设置有多个，多个所述清洗件沿竖向排布，每一所述清洗件均配设有两组所述驱动组件。设置多个所述清洗件，使得在一次完整的清洗过程中，一个所述待清洗件可以在不同所述清洗腔中进行单独的清洗，这样的清洗效果较好，防止了所述待清洗件之间交叉污染。
8.根据一些实施例，所述第一分部与所述清洗件的下端连接，所述第二分部包括延长板，所述延长板水平设置，且所述延长板向远离所述清洗件的方向延伸，所述驱动件与所述延长板连接。多个所述清洗件沿竖向排布时，下面的所述清洗件会遮挡上面的所述清洗件的下端，所述延长板水平设置，且所述延长板向远离所述清洗件的方向延伸，使得所述驱动件与所述支撑块的连接不会受到所述清洗件的遮挡阻碍。
9.根据一些实施例，所述承载台绕所述第一预设方向旋转，所述第一预设方向垂直于所述承载台面。所述承载台带动所述待清洗件同步转动，使得所述待清洗件可以得到更全面、均匀的清洗。
10.根据一些实施例，与每一所述清洗件连接的两组所述驱动组件绕所述第一预设方向对称排布。每一个所述清洗件连接两组所述驱动组件，使得所述驱动件可以驱动所述清洗件移动，当两组所述驱动组件绕所述第一预设方向对称排布时，使得所述清洗件可以更稳定的移动。
11.根据一些实施例，所述承载台面上设置有用于固定所述待清洗件的夹具，所述夹
具将所述待清洗件固定于所述承载台面上时，所述待清洗件的外周与所述夹具抵接。所述夹具将所述待清洗件固定在所述承载台面上，使得所述待清洗件不会与所述承载台面发生相对滑动。
12.根据一些实施例，清洗装置还包括进液管道，每一所述清洗件上安装有至少一条所述进液管道，所有所述进液管道上均设置有朝向所述承载台面的喷头。当切换不同的所述清洗件时，与每一个所述清洗件对应的连接的所述进液管道中会通入对应的清洗液，一个所述待清洗件在每一个所述清洗腔中进行单独的清洗，可以防止多个所述待清洗件在清洗时交叉污染或所述待清洗件的前批次污染后批次等。
13.根据一些实施例，所述喷头为活动喷头。活动喷头可以转动，以针对所述待清洗件表面上需要重点清洁的部位进行清洗，使得所述待清洗件的清洗更全面，提高了所述待清洗件的清洗效率。
14.根据一些实施例，清洗装置还包括回收槽体，所述回收槽体具有回收槽，所述回收槽体位于所述承载台的下方。所述回收槽可以承接并回收从所述承载台面上流下的清洗液以及从所述清洗件的内壁上流下的清洗液。
15.根据一些实施例，所述回收槽体在水平面上的正投影覆盖所述承载台在水平面上的正投影。所述承载台面上的清洗液沿着所述承载台面的边缘流下并滴落，然后被所述承载台下方的所述回收槽体接住，以实现对清洗液的回收处理。
16.本技术的有益效果为：所述支撑块上设计所述铰链，当所述清洗件出现左右运行不同步的情况时，所述支撑块出现异常受力的情况，所述铰链可以起到缓冲受力的作用，从而保证清洗件的稳定性，防止清洗装置在频繁的运行过程中支撑块断裂导致清洗装置运行暂停的问题。
附图说明
17.为了更清楚地说明本技术实施例或相关技术中的技术方案，下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
18.图1为本技术一实施例中清洗装置的结构示意图；
19.图2为本技术另一实施例中清洗装置的结构示意图；
20.图3为本技术另一实施例中支撑块的结构示意图；
21.图4为本技术又一实施例中清洗装置的结构示意图。
22.附图标记：
23.1.承载台；11.承载台面；2.清洗件；21.清洗腔；211.第一清洗腔；212.第二清洗腔；22.第一清洗件；23.第二清洗件；3.驱动组件；31.支撑块；311.第一分部；312.第二分部；312a.延长板；313.铰轴；32.驱动件；331.第一驱动组件；332.第二驱动组件；4.进液管道；41.喷头；5.夹具；6.回收槽体；7.待清洗件。
具体实施方式
24.为了更清楚地说明本技术实施例或相关技术中的技术方案，下面将结合本技术实
施例中的附图来进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。
25.在相关技术中，单片式清洗装置在工作时，驱动件会驱动清洗件上下运动，使得待清洗件可以在不同的清洗腔中进行清洗。而清洗件与驱动件之间是通过硬性支撑块连接，单片式清洗装置的清洗件在运行过程中会频繁地上升下降，清洗件可能出现两侧升降不同步的现象，此时支撑块异常受力，导致支撑块断裂，使得清洗件不稳定，从而使得清洗装置的运行出现暂停等问题。
26.为解决上述技术问题，本技术实施例提供一种清洗装置，能够保证清洗件的稳定性，防止清洗装置运行出现问题。
27.具体的，本技术提供一种清洗装置，参考图1，所述清洗装置包括承载台1、清洗件2以及驱动组件3。
28.所述承载台1具有承载台面11，承载台面11为与水平面平行的平整台面，用于承载待清洗件7。所述清洗件2具有清洗腔21，在清洗件2沿竖向移动至预设位置时，清洗腔21可供承载台1穿过。其中，预设位置是指当承载台1位于清洗腔21内，且待清洗件7可以进行清洗时清洗件2所在的位置。清洗腔21的形状不限，可以为柱体或方体等。其中，待清洗件7可以为晶圆。
29.驱动组件3，包括支撑块31和驱动件32，所述支撑块31包括第一分部311与第二分部312，所述第一分部311与所述第二分部312通过一铰轴313铰接，所述铰轴313水平设置，所述第一分部311与所述清洗件连接，所述第二分部312与所述驱动件32连接，所述驱动件32用于驱动所述清洗件沿竖向移动。
30.其中，所述清洗件配设有两组所述驱动组件3，两组所述驱动组件3中的所有所述铰轴313平行。
31.一组驱动组件3中一个支撑块31可以连接一个驱动件32，当然，一个支撑块31也可以连接多个驱动件32。一组驱动组件3中可以包括一个支撑块31，也可以包括多个支撑块31，当一组驱动组件3中包括多个支撑块31时，多个支撑块3中的所有铰轴313均水平且平行设置。驱动件32是具有动力且能够带动清洗件2移动的装置，驱动件32可以采用电力驱动、内燃机驱动、磁力驱动等，本领域中的驱动类型均可满足使用需求，此处不做具体限定。
32.需要说明的是，清洗装置工作时，驱动件32频繁地驱动清洗件2上升下降，而驱动件32的频繁工作可能会导致两侧驱动件32升降不同步，此时驱动件32与清洗件2之间的支撑块31则会异常受力。在相关技术中，清洗装置的支撑块31采用的是硬性支撑块，在支撑块31异常受力时，可能会导致支撑块31断裂，清洗件2不稳定，从而导致清洗装置运行停止。而在本技术实施例中，支撑块31的第一分部311与第二分部312之间连接有铰轴313，两组驱动组件3中的铰轴313均水平设置且互相平行，使得支撑块31在受力不均匀时，铰轴313可以缓冲第一分部311的受力，在频繁的运行的过程中，减少清洗件2出现支撑块31断裂的情况，保证清洗件2的稳定性，从而防止清洗装置运行出现暂停等问题。
33.还需要说明的是，以待清洗件7为晶圆为例，将晶圆放置在承载台面11上，此时清洗件2可以在承载台1的上方，也可以在承载台1的下方。清洗装置开始工作后，清洗件2在驱动件32的驱动下沿竖向移动，直到晶圆在清洗腔21中进行清洗。
34.在本技术一些实施例中，参考图1和图2，所述清洗件2设置有多个，多个所述清洗
件2沿竖向排布，每一所述清洗件2均配设有两组所述驱动组件3。
35.需要说明的是，清洗装置中设置多个清洗件2，使得在一次完整的清洗过程中，一个待清洗件7可以在不同清洗腔21中进行单独的清洗，清洗效果较好，防止待清洗件7之间交叉污染。
36.还需要说明的是，以清洗件2设置有两个为例，清洗装置刚开始工作时，根据不同待清洗件7的清洗顺序，两个清洗件2可以均位于承载台1的上方，两个清洗件2也可以均位于承载台1的下方，两个清洗件2还可以一个在承载台1的上方，一个在承载台1的下方。
37.以两个清洗件2均位于承载台1的上方为例，如图2所示，靠近承载台1的一个清洗件2为第一清洗件22，第一清洗件22具有第一清洗腔211；远离承载台1的一个清洗件2为第二清洗件23，第二清洗件23具有第二清洗腔212。将待清洗件7放置在承载台面11上后，驱动件32驱动第一清洗件22向下移动，直到待清洗件7位于第一清洗腔211中进行第一次清洗。第一次清洗完后，驱动件32驱动第一清洗件22继续向下移动，且另外的驱动件32驱动第二清洗件23也向下移动，直到待清洗件7位于第二清洗腔212中进行第二次清洗。使得一个待清洗件7可以在不同的清洗腔21中进行单独的清洗，以防止待清洗件7之间交叉污染。
38.在本技术一些实施例中，参考图2和图3，所述第一分部311与所述清洗件2的下端连接，所述第二分部312包括延长板312a，所述延长板312a水平设置，且所述延长板312a向远离所述清洗件2的方向延伸，所述驱动件32与所述延长板312a连接。
39.需要说明的是，驱动件32通过支撑块31与清洗件2的下端连接，可以更稳定的驱动清洗件2沿竖向移动。而多个清洗件2沿竖向排布时，下面的清洗件2会遮挡上面的清洗件2的下端，从而使得驱动件32不便于与支撑块31连接。而在本技术实施例中，延长板312a向远离所述清洗件2的方向延伸，使得驱动件32与支撑块31的连接不会受到清洗件2的遮挡阻碍。
40.还需要说明的是，以多个清洗件2中第一清洗件22靠近承载台1，第二清洗件23远离承载台1为例，第一清洗件22与第二清洗件23沿竖向排布，第一清洗件22遮挡住第二清洗件23的下端，而延长板312a水平设置，且向远离所述清洗件2的方向延伸，使得第一清洗件22不会遮挡住延长板312a，于是驱动件32可以通过延长板312a顺利地与第二清洗件23连接，以驱动第二清洗件23沿竖向移动。
41.在本技术一些实施例中，参考图1，所述承载台1绕所述第一预设方向aa旋转，所述第一预设方向aa垂直于所述承载台面11。
42.可以理解的是，承载台1带动待清洗件7同步转动，使得待清洗件7可以得到更全面、均匀的清洗。
43.在本技术一些实施例中，参考图2，与每一所述清洗件2连接的两组所述驱动组件3绕所述第一预设方向aa对称排布。
44.可以理解的是，每一个清洗件2连接两组驱动组件3，使得驱动件32可以驱动清洗件2移动，当两组驱动组件3绕第一预设方向aa对称排布时，使得清洗件2可以更稳定的移动。
45.在本技术一些实施例中，参考图4，所述承载台面11上设置有用于固定所述待清洗件7的夹具5，所述夹具5将所述待清洗件7固定于所述承载台面11上时，所述待清洗件7的外周与所述夹具5抵接。
46.可以理解的是，夹具5将待清洗件7固定在承载台面11上，使得待清洗件7不会与承载台面11发生相对滑动。另外，若通过凹槽固定待清洗件7，则凹槽不会使残留的清洗液顺利从承载台面11上流下，而通过夹具5固定待清洗件7，使得每次清洗完待清洗件7后残留的清洗液可以从承载台面11上流下，不会被夹具5挡住。
47.在本技术一些实施例中，参考图4，清洗装置还包括进液管道4，每一所述清洗件2上安装有至少一条所述进液管道4，所有所述进液管道4上均设置有朝向所述承载台面11的喷头41。
48.需要说明的是，当切换不同的清洗件2时，与每一个清洗件2对应连接的进液管道4中会通入对应的清洗液，以对待清洗件7进行清洗。可以理解的是，一个待清洗件7在每一个清洗腔21中进行单独的清洗，可以防止多个待清洗件7在清洗时交叉污染，还可以防止前批次清洗的待清洗件7污染后批次清洗的待清洗件7。其中，通入的清洗液可以为化学试剂、去离子水或蒸馏水等在本技术一些实施例中，所述喷头41为活动喷头。
49.需要说明的是，活动喷头可以转动，以针对待清洗件7表面上需要重点清洁的部位进行清洗，使得待清洗件7的清洗更全面，提高了待清洗件7的清洗效率。
50.在本技术一些实施例中，参考图4，清洗装置还包括回收槽体6，所述回收槽体6具有回收槽，所述回收槽体6位于所述承载台1的下方。
51.具体的，回收槽(图中未标出)可以承接并回收从待清洗件7表面流下的清洗液以及从清洗件2的内壁上流下的清洗液。
52.在本技术一些实施例中，参考图4，所述回收槽体6在水平面上的正投影覆盖所述承载台1在水平面上的正投影。
53.需要说明的是，承载台面11上的清洗液沿着承载台面11的边缘流下并滴落，然后被承载台1下方的回收槽体6接住，以实现对清洗液的回收处理。
54.在本技术实施例中，清洗装置的工作过程为：
55.以两个清洗件2位于承载台1的上方为例，靠近承载台1的一个清洗件2为第一清洗件22，第一清洗件22具有第一清洗腔211，且第一清洗件22连接两组第一驱动组件331；远离承载台1的一个清洗件2为第二清洗件23，第二清洗件23具有第二清洗腔212，且第二清洗件23连接两组第二驱动组件332。将待清洗件7放置在承载台面11上后，第一驱动组件331驱动第一清洗件22向下移动，直到待清洗件7位于第一清洗腔211中。此时，承载台1带动待清洗件7同步旋转，待清洗件7在第一清洗腔211中进行第一次清洗。第一次清洗完后，第一驱动组件331驱动第一清洗件22继续向下移动，且第二驱动组件332驱动第二清洗件23也向下移动，直到待清洗件7位于第二清洗腔212中进行第二次清洗。
56.每一次清洗单个待清洗件7，如此重复，以完成清洗多个待清洗件7的工作。一个待清洗件7可以在不同的清洗腔21中进行单独的清洗，以防止待清洗件7之间交叉污染。
57.本实施例的附图中相同或相似的标号对应相同或相似的部件；在本技术的描述中，需要理解的是，若有术语“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此说明书中描述位置关系的用语仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语的具体含义。
58.以上所述仅为本技术的较佳实施例而已，并不用以限制本技术，凡在本技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。