一种石英晶体清洗装置的制作方法

1.本实用新型涉及半导体制造技术领域，特别是涉及一种石英晶体清洗装置。


背景技术：

2.随着电子通信终端换代升级，对于压电石英器件也提出了更高的要求，尤其是在稳定性和小型化方面更为突出。压电石英器件中石英晶体是非常重要的组件之一，在石英晶体的加工过程中涉及到清洗烘干工序，清洗好后的晶片通过镀膜形成电极电路，若石英晶体清洗效果不佳将会直接影响到镀膜的效果，从而影响到后续成品质量，因此，清洗工序对最终产品质量有决定性因素。
3.石英晶体上存在各种各样的污物和油污，现有的清洗装置内的清洗方式单一，不能有效的去除所有污物并清洗掉污渍，对于后续石英晶体的镀膜工序产生极大的影响，从而影响到后续成品质量。


技术实现要素：

4.鉴于以上所述现有技术的缺点，本实用新型的目的在于提供一种石英晶体清洗装置，用于解决现有技术中清洗效果不佳的问题。
5.为实现上述目的及其他相关目的，本实用新型提供一种石英晶体清洗装置，包括：
6.壳体，所述壳体的两侧分别设置进料口以及出料口；提篮，设置在所述壳体内，用于装载石英晶体；
7.夹具，活动设置在所述壳体内，用于夹取所述提篮；
8.清洗机构，设置在所述壳体内，包括从进料口向出料口方向依次设置的超声波碱洗槽、第一纯水喷淋漂洗槽、超声波酸洗槽、第二纯水喷淋漂洗槽、兆声波精洗槽以及异丙醇振洗槽。
9.可选地，所述进料口以及出料口内分别滑动设置有拉门。
10.可选地，所述超声波碱洗槽与所述进料口之间设置有第一隔离密封门。
11.可选地，所述异丙醇振洗槽与所述出料口之间设置有第二隔离密封门。
12.可选地，所述出料口上设置有用于隔离空气的层流罩和去静电枪。
13.可选地，所述超声波碱洗槽内设置有超声波发生器、碱性溶液以及用于检测所述碱性溶液液面高度的高低液位保护机构。
14.可选地，所述第一纯水喷淋漂洗槽与第二纯水喷淋漂洗槽内分别设置有喷淋管。
15.可选地，所述超声波酸洗槽内设置有超声波发生器以及酸性溶液。
16.可选地，所述兆声波精洗槽内设置有兆声波发生器和喷淋管。
17.可选地，所述异丙醇振洗槽内设置有异丙醇溶液以及超声波发生器。
18.如上所述，本实用新型的一种石英晶体清洗装置，具有以下有益效果：
19.本方案通过依次设置用于清洗表面污物的超声波碱洗槽、用于冲洗表面污物的第一纯水喷淋漂洗槽、用于中和碱性物质并进一步清洗的超声波酸洗槽、用于冲洗表面污物
的第二纯水喷淋漂洗槽、用于清洗细小微粒的兆声波精洗槽以及用于清洗亲油性物质的异丙醇振洗槽，能够提高石英晶体清洗装置的清洗效果，并且清洗机构的各个清洗槽布置顺序使得其能够更有效的去除更多的污物并清洗掉污渍。
附图说明
20.图1为本实用新型实施例的立体结构示意图；
21.图2为本实用新型实施例的主视图。
22.零件标号说明
23.1-壳体；
24.21-超声波碱洗槽；22-第一纯水喷淋漂洗槽；23-超声波酸洗槽；24-兆声波精洗槽；25-异丙醇振洗槽；26-第二纯水喷淋漂洗槽；
25.3-夹爪；
26.4-提篮；
具体实施方式
27.以下通过特定的具体实例说明本实用新型的实施方式，本领域技术人员可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点与功效。本实用新型还可以通过另外不同的具体实施方式加以实施或应用，本说明书中的各项细节也可以基于不同观点与应用，在没有背离本实用新型的精神下进行各种修饰或改变。
28.需要说明的是，本实施例中所提供的图示仅以示意方式说明本实用新型的基本构想，遂图式中仅显示与本实用新型中有关的组件而非按照实际实施时的组件数目、形状及尺寸绘制，其实际实施时各组件的型态、数量及比例可为一种随意的改变，且其组件布局型态也可能更为复杂。本说明书所附图式所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。同时，本说明书中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中间”及“一”等的用语，亦仅为便于叙述的明了，而非用以限定本实用新型可实施的范围，其相对关系的改变或调整，在无实质变更技术内容下，当亦视为本实用新型可实施的范畴。
29.请参见图1，本实用新型提供一种石英晶体清洗装置，包括壳体1，壳体1的左右两侧分别开设有进料口和出料口。壳体1内设置有用于装载待清洗的石英晶体的提篮4和用于夹取提篮4的夹具，夹具包括夹爪3，夹具能够伸缩。在一个实施方式中，夹具水平滑动地设置在壳体1内；在另一个实施方式中，夹具转动地设置在壳体1内。在进料口与出料口之间设置有清洗机构，清洗机构包括从进料口向出料口方向依次设置的用于清洗表面污物的超声波碱洗槽21、用于冲洗表面污物的第一纯水喷淋漂洗槽22、用于中和碱性物质并进一步清洗的超声波酸洗槽23、用于冲洗表面污物的第二纯水喷淋漂洗槽26、用于清洗小于0.2μm的细小微粒的兆声波精洗槽24以及用于清洗亲油性物质的异丙醇振洗槽25。超声波碱洗槽21与进料口连通，异丙醇振洗槽25与出料口连通。
30.进料口内和出料口内分别滑动地设置有拉门，当清洗装置需要进料时，进料口的
拉门打开，其余时间进料口的拉门均处于关闭状态；当清洗装置需要出料时，出料口的拉门打开，其余时间出料口的拉门均处于关闭状态。超声波碱洗槽21与进料口之间设置有隔离密封门，异丙醇振洗槽25与出料口之间设置有隔离密封门。出料口的顶部安装用于隔离空气的高效层流罩以及去静电枪；进出料口均设置有同外部机台plc联网的光电开关，进料时感应，出料时报警。石英晶体放置在提篮中，夹爪3夹取提篮依次在超声波碱洗槽21、第一纯水喷淋漂洗槽22、超声波酸洗槽23、第二纯水喷淋漂洗槽26、兆声波精洗槽24以及异丙醇振洗槽25中对石英晶体进行清洗。
31.超声波碱洗槽21用于清洗石英晶体上的酸性物质以及附着在表面的污物，超声波碱洗槽21内设置有进水口、排水口、超声波发生器、碱性溶液以及高低液位保护机构，高低液位保护机构包括高低液位报警仪，在超声波碱洗槽21内液位过高或过低时进行报警，壳体1内设置有总排水管道，排水口与总排水管道连通。碱性溶液包括氢氧化钠、乙二胺四乙酸、葡萄糖酸、乙醇以及去离子水组成的混合碱性溶液。
32.第一纯水喷淋漂洗槽22用于冲洗石英晶体上的表面污物以及超声波碱洗槽21未清洗掉的部分，第二纯水喷淋漂洗槽26用于进一步清洗石英晶体上的表面污物以及超声波酸洗槽23未清洗掉的部分，第一纯水喷淋漂洗槽22设置在超声波酸洗槽23之前，第二纯水喷淋漂洗槽26设置在兆声波精洗槽24之前。第一纯水喷淋漂洗槽22与第二纯水喷淋漂洗槽26内的顶部分别设置有双面的喷淋管，并且两侧的内侧壁上分别设置有两根喷淋管，喷淋管内设置有纯水。喷淋管的角度能够调整，水压也能够调整。第一纯水喷淋漂洗槽22与第二纯水喷淋漂洗槽26均能够快速冲走石英晶体表面的附着物，清洗剂等。第一纯水喷淋漂洗槽22与第二纯水喷淋漂洗槽26的槽面采用三面齿状溢流，能够快速排水，废水直接排入总排水管道。第一纯水喷淋漂洗槽22与第二纯水喷淋漂洗槽26内还分别设置有排污阀，壳体1内设置有排污管道，排污阀与排污管道连通。
33.超声波酸洗槽23用于中和石英晶体在超声波碱洗槽21内附着的碱性物质，并清洗石英晶体上的污物，超声波酸洗槽23内设置有进水口、排水口、超声波发生器、酸性溶液以及高低液位保护机构，高低液位保护机构包括高低液位报警仪，排水口与总排水管道连通。酸性溶液包括ipa(异丙醇)等弱酸溶液。
34.兆声波精洗槽24用于清洗小于0.2μm细小微粒，兆声波清洗可去掉晶片表面上小于0.2μm的粒子，起到超声波起不到的作用。兆声波精洗槽24内的上部设置有双面的喷淋管，并且其两侧的内侧壁上分别设置有两根喷淋管，喷淋管内设置有纯水，纯水的温度在55摄氏度至65摄氏度之间。喷淋管的角度能够调整，水压也能够调整。兆声波精洗槽24内也设置有进水口和排水口，排水口与总排水管道连通。槽面采用三面齿状溢流，能够快速排水。兆声波精洗槽24内还设置有排污阀，壳体1内设置有排污管道，排污阀与排污管道连通。
35.异丙醇振洗槽25内设置有异丙醇水溶液以及超声波发生器，异丙醇振洗槽25用于清洗亲油性物质并有脱水功能。异丙醇能和水自由混合，对亲油性物质的溶解力比乙醇强，异丙醇振洗槽25采用水夹套设计，避免超声波振动使异丙醇温度上升，降低异丙醇的挥发速度。异丙醇振洗槽25内还设置有废液抽取机、加液机及自来水箱，自来水箱设有进水口、排水口，流量可调，排水管道与设备总排水管相连。
36.如上所述，本实施例的一种石英晶体清洗装置，具有以下有益效果：
37.本方案通过依次设置用于清洗表面污物的超声波碱洗槽21、用于冲洗表面污物的
第一纯水喷淋漂洗槽22、用于中和碱性物质并进一步清洗的超声波酸洗槽23、用于冲洗表面污物的第二纯水喷淋漂洗槽26、用于清洗细小微粒的兆声波精洗槽24以及用于清洗亲油性物质的异丙醇振洗槽25，能够提高石英晶体清洗装置的清洗效果，并且清洗机构的各个清洗槽布置顺序使得其能够更有效的去除更多的污物并清洗掉污渍。
38.上述实施例仅例示性说明本实用新型的原理及其功效，而非用于限制本实用新型。任何熟悉此技术的人士皆可在不违背本实用新型的精神及范畴下，对上述实施例进行修饰或改变。因此，举凡所属技术领域中具有通常知识者在未脱离本实用新型所揭示的精神与技术思想下所完成的一切等效修饰或改变，仍应由本实用新型的权利要求所涵盖。