一种陪片反复回收利用的装置的制作方法

1.本实用新型涉及陪片回收技术领域，尤其涉及一种陪片反复回收利用的装置。


背景技术：

2.在半导体工艺制程过程中，经常会使用到陪片，所谓陪片一般是指硅片，采用硅片作为陪片来对pecvd生长介质膜(sio2或是氮化硅)真实厚度进行测量，亦或是对蒸镀的金属厚度进行测量，现有的大部分的陪片在使用使用之后，基本上都是直接进行报废，这样一来容易造成资源的浪费，所以为了降低这部分的制造成本，提升产品的竞争力显得非常必要。
3.因此，有必要提供一种陪片反复回收利用的装置解决上述技术问题。


技术实现要素：

4.本实用新型提供一种陪片反复回收利用的装置，解决了陪片在使用之后都是直接报废，造成资源浪费的问题。
5.为解决上述技术问题，本实用新型提供的一种陪片反复回收利用的装置，包括：
6.外壳；
7.固定板，所述固定板分别固定安装于所述外壳的内侧面的两侧，所述固定板的顶部滑动连接有支撑板，所述支撑板的两端的内部均固定安装有螺纹套，所述螺纹套的内侧面螺纹连接有螺纹杆，所述螺纹杆的外侧面滑动连接有压板，所述压板的内部滑动连接有滑杆，所述滑杆的底部固定安装有支撑组件，所述滑杆的外侧面套设有弹簧；
8.储藏箱，所述储藏箱固定安装于所述外壳的顶部，所述储藏箱的一端固定安装有第二阀门，所述储藏箱的另一端固定安装有气泵，所述气泵固定安装于所述外壳的顶部；
9.固定框，所述固定框固定安装于所述外壳的一侧的底部，所述固定框的内侧面设有气瓶。
10.优选的，所述外壳的一侧的顶部固定安装有第一阀门，所述第一阀门的一端贯穿外壳的一侧并延伸至内侧面，且第一阀门的另一端固定安装气瓶。
11.优选的，所述外壳的正面的一侧转动连接有门体，并且门体的一侧紧密贴合所述外壳的一侧。
12.优选的，所述门体的正面的一侧固定安装有手把，所述手把控制所述门体与所述外壳的开关。
13.优选的，所述外壳的底部的四周均固定安装有滚轮，且滚轮能够360度转动。
14.优选的，所述外壳的内侧面的一侧固定安装有四个风扇，所述风扇设置于所述固定板的顶部。
15.优选的，所述外壳的两侧均固定安装有侧板，所述侧板的内部螺纹连接有支撑杆，所述支撑杆的顶部固定安装有转动板。
16.优选的，所述支撑杆的底部固定安装有底板，所述底板的底部固定安装有橡胶垫。
17.与相关技术相比较，本实用新型提供的一种陪片反复回收利用的装置具有如下有益效果：
18.本实用新型提供一种陪片反复回收利用的装置，通过气瓶内部的hf气体能够对陪片表面的介质膜进行去除，在去除之后，对陪片进行回收，这样一来能够减少对资源的浪费，并且通过外壳和储藏箱在使用的时候，防止气体流出，造成对环境的污染，也能够有效的对有害气体进行回收，通过支撑组件能够对陪片进行压制，防止在去除介质膜的时候，陪片进行移动。
附图说明
19.图1为本实用新型提供的一种陪片反复回收利用的装置的第一实施例的结构示意图；
20.图2为图1所示的内部结构示意图；
21.图3为图1所示的滑杆和支撑组件侧面结构示意图；
22.图4为图1所示的固定框侧面示意图；
23.图5为图2所示的a部放大示意图；
24.图6为本实用新型提供的一种陪片反复回收利用的装置的第二实施例的结构示意图。
25.图中标号：1、外壳，11、门体，12、手把，13、滚轮，14、第一阀门，2、固定框，21、气瓶，3、储藏箱，31、第二阀门，32、气泵，4、风扇，5、固定板，51、支撑板，52、螺纹套，53、螺纹杆，54、压板，55、滑杆，56、支撑组件，57、弹簧，6、侧板，61、转动板，62、支撑杆，63、底板，64、橡胶垫。
具体实施方式
26.下面结合附图和实施方式对本实用新型作进一步说明。
27.第一实施例
28.请结合参阅图1、图2、图3、图4和图5，其中，图1为本实用新型提供的一种陪片反复回收利用的装置的第一实施例的结构示意图；图2为图1所示的内部结构示意图；图3为图1所示的滑杆和支撑组件侧面结构示意图；图4 为图1所示的固定框侧面示意图；图5为图2所示的a部放大示意图。一种陪片反复回收利用的装置，包括：外壳1；
29.外壳1采用密封的材料制成，防止在使用的时候，内部的气体漏出。
30.固定板5，所述固定板5分别固定安装于所述外壳1的内侧面的两侧，所述固定板5的顶部滑动连接有支撑板51，所述支撑板51的两端的内部均固定安装有螺纹套52，所述螺纹套52的内侧面螺纹连接有螺纹杆53，所述螺纹杆 53的外侧面滑动连接有压板54，所述压板54的内部滑动连接有滑杆55，所述滑杆55的底部固定安装有支撑组件56，所述滑杆55的外侧面套设有弹簧 57；
31.固定板5的上面开设有圆孔，方便hf的气体在外壳1的内部进行流动方便对陪片表面的介质膜进行反应，来对陪片表面的介质膜进行去除，最后冲水吹干或者甩干的方式得到干净的陪片，实现陪片的回收。
32.陪片主要使用硅片，在蒸镀金属时，可以现在硅片表面生长一层介质膜，之后再生
长金属，这样可以在，去除介质膜的同时去掉金属，实现陪片的回收。
33.在pevcd生长介质膜的过程中，所述介质膜为氧化硅或者氮化硅，为了监控其生长速率，通常需要放入硅片作为陪片，通过测量硅片表面的介质膜的厚度来监控每炉次的介质膜生长速率。在使用的时候，通过弹簧57的弹性将支撑组件56向下压动，对硅片进行固定，防止在使用的时候，陪片进行移动。
34.储藏箱3，所述储藏箱3固定安装于所述外壳1的顶部，所述储藏箱3的一端固定安装有第二阀门31，所述储藏箱3的另一端固定安装有气泵32，所述气泵32固定安装于所述外壳1的顶部；
35.当储藏箱3的内部废气充满的时候，通过第二阀门31对气体进行放出，然后进行统一回收。
36.固定框2，所述固定框2固定安装于所述外壳1的一侧的底部，所述固定框2的内侧面设有气瓶21。
37.气瓶21采用含硅量低的无缝钢瓶，高温下使用镍或镍基合金、蒙乃尔合金材料。气瓶21的密封材料在常温常压下可用氟橡胶、聚四氟乙烯、聚三氟氯乙烯等。
38.所述外壳1的一侧的顶部固定安装有第一阀门14，所述第一阀门14的一端贯穿外壳1的一侧并延伸至内侧面，且第一阀门14的另一端固定安装气瓶 21。
39.所述外壳1的正面的一侧转动连接有门体11，并且门体1的一侧紧密贴合所述外壳1的一侧。
40.所述门体11的正面的一侧固定安装有手把12，所述手把12控制所述门体11与所述外壳1的开关。
41.所述外壳1的底部的四周均固定安装有滚轮13，且滚轮13能够360度转动。
42.所述外壳1的内侧面的一侧固定安装有四个风扇4，所述风扇4设置于所述固定板5的顶部。
43.风扇4能够加快外壳1内侧面的hf气体进行吹动，加快反速度。
44.本实用新型提供的一种陪片反复回收利用的装置的工作原理如下：
45.在使用的时候，将陪片放在支撑板51的上面，然后将压板54压在支撑板 51的上面，然后将螺纹杆53穿过支撑板51穿入到螺纹套52的内侧面，然后进行转动螺纹杆53将压板54向下压动，然后通过支撑组件56将陪片压在支撑板51的上面，然后将支撑板51放在固定板5的上面，然后使用门体11将外壳1进行密封，之后打开气瓶21，将气瓶21内部的hf气体放出，然后再打开第一阀门14将hf气体放入到外壳1的内部，对陪片进行反应，并且在使用的时候，打开风扇4进行吹动，当反应结束的时候，通过气泵32将外壳 1内部的气体抽入到储藏箱3的内部，进行储藏。
46.与相关技术相比较，本实用新型提供的一种陪片反复回收利用的装置具有如下有益效果：
47.通过气瓶21内部的hf气体能够对陪片表面的介质膜进行去除，在去除之后，对陪片进行回收，这样一来能够减少对资源的浪费，并且通过外壳1 和储藏箱3在使用的时候，防止气体流出，造成对环境的污染，也能够有效的对有害气体进行回收，通过支撑组件56能够对陪片进行压制，防止在去除介质膜的时候，陪片进行移动。
48.第二实施例
49.请结合参阅图6，基于本技术的第一实施例提供的一种陪片反复回收利用的装置，本技术的第二实施例提出另一种陪片反复回收利用的装置。第二实施例仅仅是第一实施例优选的方式，第二实施例的实施对第一实施例的单独实施不会造成影响。
50.具体的，本技术的第二实施例提供的一种陪片反复回收利用的装置的不同之处在于，一种陪片反复回收利用的装置，所述外壳1的两侧均固定安装有侧板6，所述侧板6的内部螺纹连接有支撑杆62，所述支撑杆62的顶部固定安装有转动板61。
51.所述支撑杆62的底部固定安装有底板63，所述底板63的底部固定安装有橡胶垫64。
52.本实用新型提供的一种陪片反复回收利用的装置的工作原理如下：
53.在使用的时候，通过转动板61转动支撑杆62，使支撑杆62在侧板6的内部进行螺纹连接，使底板63抵在地面上。
54.与相关技术相比较，本实用新型提供的一种陪片反复回收利用的装置具有如下有益效果：
55.通过支撑杆62在侧板6的内部进行螺纹连接，带动着底板63向下进行移动，能够对装置进行固定，防止在使用的时候，装置进行移动。
56.以上所述仅为本实用新型的实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其它相关的技术领域，均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。