一种超声波单晶硅片清洗槽的制作方法

1.本实用新型涉及单晶硅片清洗技术领域，具体而言，涉及一种超声波单晶硅片清洗槽。


背景技术：

2.单晶硅片：硅的单晶体，是一种具有基本完整的点阵结构的晶体。不同的方向具有不同的性质，是一种良好的半导材料。纯度要求达到99.9999％，甚至达到99.9999999％以上。用于制造半导体器件、太阳能电池等。用高纯度的多晶硅在单晶炉内拉制而成。
3.在单晶硅片加工过程中，需要将成型的单晶硅片进行清洗，去除单晶硅片上的污染物，因此需要使用超声波清洗槽，现有的超声波清洗槽在使用时，采用水平摆放的方式对单晶硅片进行清洗，需要在清洗一面后将单晶硅片翻面再次进行清洗，需要工人重复进行操作，不利于提高效率。


技术实现要素：

4.本实用新型的主要目的在于提供一种超声波单晶硅片清洗槽，以改善相关技术中的问题。
5.为了实现上述目的，本实用新型提供了一种超声波单晶硅片清洗槽，包括清洗槽本体，以及安装在清洗槽本体侧部的支架；
6.所述支架上安装有电动滑台，所述电动滑台的滑动块上安装有电动推杆，所述电动推杆的伸缩端固定连接有网篮，所述网篮内设置有若干固定块，所述网篮安装在所述清洗槽本体。
7.在本实用新型的一种实施例中，所述清洗槽本体的侧部固定连接有壳体，所述壳体的侧壁上通过螺栓安装有振动电机。
8.在本实用新型的一种实施例中，所述电动推杆的伸缩端固定连接有气动夹钳，所述网篮的上部边沿固定连接有与气动夹钳相匹配的提手。
9.在本实用新型的一种实施例中，若干所述固定块呈等距设置在所述网篮的内壁上，且所述网篮的内壁上，以及所述固定块的侧壁上均粘接固定有柔性层。
10.在本实用新型的一种实施例中，所述清洗槽本体的槽壁上开设有导向槽，所述网篮的外壁固定连接有与导向槽相匹配的导向块。
11.在本实用新型的一种实施例中，所述壳体的底部通过排水管连通有积液箱。
12.与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：通过上述设计的超声波单晶硅片清洗槽，使用时，将单片单晶硅片放置在相邻固定块之间的间隙内，然后打开电动滑台，使电动滑台带动电动推杆移动至网篮上方，然后打开电动推杆，使电动推杆的伸缩端带动气动夹钳移动至提手处，气动夹钳工作卡在提手上，然后电动滑台带动网篮移动至导向槽处，电动推杆的伸缩端带动网篮向下移动，导向块滑入到导向槽内，降至底部后，气动夹钳与提手分离，即可开始对单晶硅片进行清洗，可以减少对单晶硅片翻面清洗的操作，有效的减少操
作步骤，可以有效的降低工人成本，减少工人的工作量，在清洗完后，将网篮从清洗槽本体中取出，然后送入到壳体内，通过振动电机工作，将单晶硅片的表面的去离子水振落，有利于提高后期对单晶硅片的干燥速度，提高效率。
附图说明
13.图1为根据本实用新型实施例提供的超声波单晶硅片清洗槽的结构示意图；
14.图2为根据本实用新型实施例提供的超声波单晶硅片清洗槽的网篮俯视示意图；
15.图3为根据本实用新型实施例提供的超声波单晶硅片清洗槽的图2中a 部结构放大示意图。
16.图中：1、清洗槽本体；2、支架；3、电动滑台；4、电动推杆；5、网篮； 6、固定块；7、壳体；8、振动电机；9、气动夹钳；10、提手；11、柔性层； 12、导向槽；13、导向块；14、积液箱。
具体实施方式
17.为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本实用新型保护的范围。
18.需要说明的是，本实用新型的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本实用新型的实施例。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
19.在本实用新型中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“前”、“后”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“中”、“竖直”、“水平”、“横向”、“纵向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系。这些术语主要是为了更好地描述本实用新型及其实施例，并非用于限定所指示的装置、元件或组成部分必须具有特定方位，或以特定方位进行构造和操作。
20.并且，上述部分术语除了可以用于表示方位或位置关系以外，还可能用于表示其他含义，例如术语“上”在某些情况下也可能用于表示某种依附关系或连接关系。对于本领域普通技术人员而言，可以根据具体情况理解这些术语在本实用新型中的具体含义。
21.另外，术语“多个”的含义应为两个以及两个以上。
22.需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。
23.实施例1
24.请参阅图1-图3，本实用新型提供了一种超声波单晶硅片清洗槽，包括清洗槽本体1，以及安装在清洗槽本体1侧部的支架2；支架2上安装有电动滑台3，电动滑台3的滑动块上安装有电动推杆4，电动推杆4的伸缩端固定连接有气动夹钳9，网篮5的上部边沿固定连接有与气动夹钳9相匹配的提手 10，气动夹钳9用于抓取提手，使电动推杆4与网篮5连接在一
起，电动推杆4用于将网篮5从清洗槽本体1取出和放入到清洗槽本体1内，电动滑台3 用于带动网篮移动至清洗槽本体1的上方和壳体7的上方，网篮5内设置有若干固定块6，网篮5安装在清洗槽本体1，清洗槽本体1的槽壁上开设有导向槽12，网篮5的外壁固定连接有与导向槽12相匹配的导向块13，固定块6 用于将相邻防止在网篮5内的单晶硅片等距隔开，且使单晶硅片竖直放置在网篮5内，使去离子水可以同时对单晶硅片进行清洗。
25.在本实施例中，清洗槽本体1的侧部固定连接有壳体7，壳体7的侧壁上通过螺栓安装有振动电机8，在将网篮5放置在壳体7内后，通过振动电机8 的使用，可以对壳体7进行振动，使网篮5振动，从而将单晶硅片上的水震落到壳体7内，有利于提高后期对单晶硅片的干燥速度，提高效率。
26.在本实施例中，若干固定块6呈等距设置在网篮5的内壁上，且网篮5 的内壁上，以及固定块6的侧壁上均粘接固定有柔性层11，柔性层11设置为硅胶层，用于对单晶硅片提供碰撞保护。
27.在本实施例中，壳体7的底部通过排水管连通有积液箱14，积液箱14用于收集单晶硅片上掉落的去离子水。
28.具体的，该超声波单晶硅片清洗槽的工作原理：使用时，将单片单晶硅片放置在相邻固定块6之间的间隙内，然后打开电动滑台3，使电动滑台3带动电动推杆4移动至网篮5上方，然后打开电动推杆4，使电动推杆4的伸缩端带动气动夹钳9移动至提手10处，气动夹钳9工作卡在提手10上，然后电动滑台3带动网篮5移动至导向槽12处，电动推杆4的伸缩端带动网篮5 向下移动，导向块13滑入到导向槽12内，降至底部后，气动夹钳9与提手分离，即可开始对单晶硅片进行清洗，在清洗完后，电动推杆4，气动夹钳9 和电动滑台3配合，将网篮5从清洗槽本体1中取出，然后送入到壳体7内，通过振动电机8工作，将单晶硅片的表面的去离子水振落。
29.需要说明的是：电动滑台3、电动推杆4、振动电机8和气动夹钳9的型号规格需根据该装置的实际规格等进行选型确定，具体选型计算方法采用本领域现有技术，故不再详细赘述。
30.以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。