一种陶瓷原料淘洗装置的制作方法

本发明涉及硅砂清洗，具体为一种陶瓷原料淘洗装置。

背景技术：

1、陶瓷原料包括硅砂，其中硅砂又名二氧化硅或者石英砂，作为陶瓷原料的核心原料在陶瓷生产中有着不可替代的重要作用，硅砂原料中会混杂有可溶性的灰尘，在对硅砂原料的处理过程中，清洗是必不可缺的流程。

2、在申请号为：202120458097.6的专利文件中，公开了一种绿色陶瓷原料清洗装置，并具体公开了通过将原料放置在原料框内，利用电机带动输出轴和扇叶实现对硅砂的清洗。

3、在上述技术方案中，硅砂在清洗时需要对水进行充分的接触，从而将硅砂中的可溶性杂质充分溶解，在上述技术方案中，通过封板的作用，使得压缩硅砂的清洗空间，造成清洗效果不佳的后果，若不采用封板，则硅砂在清洗转动过程中，会掉落到水池内，使得硅砂在清洗过程中存在损耗。

技术实现思路

1、本发明的目的在于提供了一种陶瓷原料淘洗装置。

2、本发明所解决的技术问题为：解决现有技术中由于封板的存在，使得硅砂的清洗空间被缩小，导致清洗效果不佳的问题。

3、本发明可以通过以下技术方案实现：一种陶瓷原料淘洗装置，包括清洗料斗，清洗料斗通过第一卡接组件连接有遮盖料斗，清洗料斗和遮盖料斗上均匀开设有网孔，清洗料斗放置在传送带上，传送带穿过清洗箱体内部，清洗箱体内部设置有清洗组件。

4、本发明的进一步技术改进在于：清洗组件包括顶部喷淋板和底部喷淋板，顶部喷淋板位于清洗箱体下方，底部喷淋板位于清洗箱体的上方。

5、本发明的进一步技术改进在于：传送带上均匀开设有第一网孔，传送带上开设有放置槽，放置槽的尺寸大于清洗料斗的尺寸。

6、本发明的进一步技术改进在于：第一卡接组件包括限位凸起，清洗料斗内部对称固定有限位凸起，相邻限位凸起之间开设有限位腔，遮盖料斗底部固定有底部限位块，底部限位块和限位腔定位配合。

7、本发明的进一步技术改进在于：清洗料斗上开设有第一限位槽，遮盖料斗上滑动设置有限位滑杆，限位滑杆的端部固定有第一限位板，第一限位板位于遮盖料斗的内部，第一限位板和遮盖料斗之间设置有第一限位弹簧，限位滑杆远离第一限位板的一侧固定有滑动套筒，滑动套筒从第一限位槽上滑出，滑动套筒把内部对称滑动设置有弧形限位块，弧形限位块卡在清洗料斗上。

8、本发明的进一步技术改进在于：滑动套筒内部对称开设有内部限位槽，内部限位槽呈弧形，内部限位槽内部对称固定有第二限位弹簧，第二限位弹簧连接在弧形限位块上，且弧形限位块和滑动套筒滑动连接。

9、本发明的进一步技术改进在于：清洗箱体内部设置有夹持机构，用于对清洗料斗在清洗箱体内部时夹持固定，夹持机构包括第一夹持板和第二夹持板。

10、本发明的进一步技术改进在于：清洗箱体内部转动设置有夹持基座，夹持基座侧边通过挤压弹簧滑动设置有第一滑动座，第一夹持板和第一滑动座滑动连接，第一滑动座通过连接组件和第二夹持板连接。

11、本发明的进一步技术改进在于：连接组件包括第一传送轮，第一滑动座侧边固定有侧边齿条，清洗箱体内部转动设置有第一传送轮，第一传送轮上固定有啮合齿轮，且啮合齿轮和侧边齿条啮合连接，清洗箱体内部转动设置有第二传送轮，第二传送轮和第二夹持板固定连接，第一传送轮和第二传送轮通过连接传送带连接。

12、与现有技术相比，本发明具备以下有益效果：

13、1、本申请通过将清洗料斗和遮盖料斗的配合，使得能够扩大硅砂清洗的空间，便于将硅砂中的可溶性杂质被溶解，从而实现对硅砂的充分清洗，随后将冲洗后的硅砂通过传送带进行传送，能够实现对硅砂的自动上料和下料，避免清洗过程的间断，保证清洗的连续性。

14、2、本申请通过放置槽的尺寸大于清洗料斗的尺寸，使得清洗料斗可以在放置槽上能够进行一定量的移动，且还能够在第一网孔的作用，将清洗水经过第一网孔进入到清洗料斗上，实现水的流动，保证水对清洗料斗内部的硅砂进行充分的清洗，同时还可以利用顶部喷淋板实现清水的进入，保证清洗箱体内部水的补充。

15、3、本申请通过将硅砂放置在清洗料斗内部，随后首先将遮盖料斗进行纵向移动，此时滑动套筒卡在清洗料斗的内壁上，此时第一限位弹簧受到拉伸，直至底部限位块进入到限位腔内部，实现遮盖料斗和清洗料斗的限位作用，此时在第一限位弹簧的作用下，将滑动套筒从第一限位槽内部顶出，此时利用弧形限位块从滑动套筒内部滑出，使得利用弧形限位块抵在清洗料斗的外壁上，实现对弧形限位块的限位作用，此时实现清洗料斗和遮盖料斗的安装固定，能够快速实现清洗料斗和遮盖料斗的分离和安装。

16、4、本申请通过在清洗料斗在传送带上进行继续移动，直至侧边金属耳板靠近电磁板时，此时电磁板得电具备磁性，对侧边金属耳板磁性吸引，但是此时清洗料斗在放置槽的横向限位作用下，使得侧边金属耳板和电磁板时刻处于吸引的状态，在传送带的作用下，使得清洗料斗进行移动，此时调整伸缩杆收缩进行适应性的移动，随后当调整伸缩杆移动到相应位置时，此时传送带停止工作，此时利用调整伸缩杆进行反向移动，使得调整支撑板向着电磁板的方向进行移动，在调整弹簧的作用下，使得电磁板带动清洗料斗进行震动，对清洗料斗内部的硅砂进行震动，将残余的水分抖动出，实现沥水作用，随后电磁板失电，将电磁板从传送带上移开，从而使得清洗料斗自动从清洗箱体内部移出。

技术特征：

1.一种陶瓷原料淘洗装置，其特征在于：包括清洗料斗(3)，所述清洗料斗(3)通过第一卡接组件连接有遮盖料斗(31)，所述清洗料斗(3)和遮盖料斗(31)上均匀开设有网孔，所述清洗料斗(3)放置在传送带(2)上，所述传送带(2)穿过清洗箱体(1)内部，所述清洗箱体(1)内部设置有清洗组件。

2.根据权利要求1所述的一种陶瓷原料淘洗装置，其特征在于，所述清洗组件包括顶部喷淋板(4)和底部喷淋板，所述顶部喷淋板(4)位于清洗箱体(1)下方，所述底部喷淋板位于清洗箱体(1)的上方。

3.根据权利要求1所述的一种陶瓷原料淘洗装置，其特征在于，所述传送带(2)上均匀开设有第一网孔(21)，所述传送带(2)上开设有放置槽(22)，所述放置槽(22)的尺寸大于清洗料斗(3)的尺寸。

4.根据权利要求1所述的一种陶瓷原料淘洗装置，其特征在于，所述第一卡接组件包括限位凸起(318)，所述清洗料斗(3)内部对称固定有限位凸起(318)，相邻限位凸起(318)之间开设有限位腔，所述遮盖料斗(31)底部固定有底部限位块(317)，所述底部限位块(317)和限位腔定位配合。

5.根据权利要求4所述的一种陶瓷原料淘洗装置，其特征在于，所述清洗料斗(3)上开设有第一限位槽(311)，所述遮盖料斗(31)上滑动设置有限位滑杆(316)，所述限位滑杆(316)的端部固定有第一限位板(319)，所述第一限位板(319)位于遮盖料斗(31)的内部，所述第一限位板(319)和遮盖料斗(31)之间设置有第一限位弹簧(3110)，所述限位滑杆(316)远离第一限位板(319)的一侧固定有滑动套筒(313)，所述滑动套筒(313)从第一限位槽(311)上滑出，所述滑动套筒(313)把内部对称滑动设置有弧形限位块(312)，所述弧形限位块(312)卡在清洗料斗(3)上。

6.根据权利要求5所述的一种陶瓷原料淘洗装置，其特征在于，所述滑动套筒(313)内部对称开设有内部限位槽(314)，所述内部限位槽(314)呈弧形，所述内部限位槽(314)内部对称固定有第二限位弹簧(315)，所述第二限位弹簧(315)连接在弧形限位块(312)上，且所述弧形限位块(312)和滑动套筒(313)滑动连接。

7.根据权利要求1所述的一种陶瓷原料淘洗装置，其特征在于，所述清洗箱体(1)内部设置有夹持机构(5)，用于对清洗料斗(3)在清洗箱体(1)内部时夹持固定，所述夹持机构(5)包括第一夹持板(53)和第二夹持板(54)。

8.根据权利要求7所述的一种陶瓷原料淘洗装置，其特征在于，所述清洗箱体(1)内部转动设置有夹持基座(51)，所述夹持基座(51)侧边通过挤压弹簧滑动设置有第一滑动座(55)，所述第一夹持板(53)和第一滑动座(55)滑动连接，所述第一滑动座(55)通过连接组件和第二夹持板(54)连接。

9.根据权利要求8所述的一种陶瓷原料淘洗装置，其特征在于，所述连接组件包括第一传送轮(56)，所述第一滑动座(55)侧边固定有侧边齿条(510)，所述清洗箱体(1)内部转动设置有第一传送轮(56)，所述第一传送轮(56)上固定有啮合齿轮(57)，且所述啮合齿轮(57)和侧边齿条(510)啮合连接，所述清洗箱体(1)内部转动设置有第二传送轮(58)，所述第二传送轮(58)和第二夹持板(54)固定连接，所述第一传送轮(56)和第二传送轮(58)通过连接传送带(59)连接。

技术总结
本发明公开了一种陶瓷原料淘洗装置，涉及硅砂清洗技术领域，包括清洗料斗，清洗料斗通过第一卡接组件连接有遮盖料斗，清洗料斗和遮盖料斗上均匀开设有网孔，清洗料斗放置在传送带上，传送带穿过清洗箱体内部，清洗箱体内部设置有清洗组件。本申请通过将清洗料斗和遮盖料斗的配合，使得能够扩大硅砂清洗的空间，便于将硅砂中的可溶性杂质被溶解，从而实现对硅砂的充分清洗，随后将冲洗后的硅砂通过传送带进行传送，能够实现对硅砂的自动上料和下料，避免清洗过程的间断，保证清洗的连续性。

技术研发人员：曹树龙,黄炳峰,张霞
受保护的技术使用者：合肥陶陶新材料科技有限公司
技术研发日：
技术公布日：2024/1/14