本发明涉及半导体设备精密备件清洗的，尤其涉及一种氮化铝陶瓷的清洗方法。
背景技术：
1、薄膜沉积设备中陶瓷材质部件的传统清洗方法，一般先使用强碱性化学溶液浸泡进行清洗，这种方法化学反应速度快，去除金属离子速度快，操作方便，再使用弱碱性化学溶液进行浸泡清洗，彻底清除陶瓷孔隙中的残留金属离子。但是虽然碱性溶液对氧化铝材质的陶瓷没有腐蚀性，但对氮化铝材质的陶瓷有腐蚀性，碱性越强对氮化铝陶瓷的腐蚀性也就越强。所以陶瓷的传统化学清洗方法不适用于氮化铝陶瓷的清洗。
技术实现思路
1、本发明旨在解决现有技术的不足，而提供一种氮化铝陶瓷的清洗方法。
2、本发明为实现上述目的，采用以下技术方案：
3、一种氮化铝陶瓷的清洗方法，具体步骤为：
4、s1、部件检查：
5、对整个陶瓷部件进行检查，对不良情况和沉积物是否异常进行记录，拍照；
6、s2、ipa擦拭：
7、使用无尘布沾ipa对待清洗的陶瓷部件进行擦拭，去除陶瓷表面的有机沾污，擦至无尘布表面无明显脏污；
8、s3、硫酸双氧水浸泡：
9、将陶瓷部件浸入硫酸、双氧水和水的混合溶液中，浸泡30分钟以上；
10、硫酸、双氧水、水的体积比为：1:1:1-1:1:3；
11、s4、第一次纯水冲洗：
12、将陶瓷部件取出，使用水枪对部件进行全面冲洗；
13、s5、盐酸浸泡：
14、将陶瓷部件浸入盐酸和水的混合溶液中，浸泡30分钟以上；
15、盐酸、水的体积比为：1:3-1:5；
16、s6、第二次纯水冲洗：
17、将陶瓷部件取出，使用水枪对部件进行全面冲洗；
18、s7、硝酸和氢氟酸清洗：
19、将陶瓷部件浸入硝酸和氢氟酸的混合溶液中，浸泡10分钟以上；
20、硝酸、氢氟酸的体积比为：1:1:1-1:1:2；
21、s8、第三次纯水冲洗：
22、将陶瓷部件取出，使用水枪对部件进行全面冲洗；
23、s9、第一次纯水浸泡：
24、将陶瓷部件浸入纯水中浸泡30分钟以上，然后使用压缩空气吹干表面水份；
25、s10、第一次干燥：
26、将陶瓷部件放入烘箱，每小时升温25℃，升温至200℃，恒温1小时，继续升温至300℃，恒温1小时，升温至400℃，恒温2小时，然后自然降温至100℃，打开烘箱，待部件自然冷却至40℃时，将部件取出；
27、s11、表面喷砂：
28、使用重力喷砂机对陶瓷部件进行喷砂处理，增加陶瓷表面粗糙度；
29、s12、第二次纯水浸泡：
30、将陶瓷部件浸入纯水中浸泡30分钟以上，然后使用压缩空气吹干表面水份；
31、s13、高压水洗：
32、对烘烤完毕的陶瓷部件，进行高压水洗；
33、s14、超声波清洗：
34、将部件流转至100级洁净间，然后将部件放入超声波清洗槽中，清洗30分钟，每15分钟翻转一次部件；
35、s15、氮气吹扫：
36、对冲洗完毕的部件，使用99.999％纯度的氮气进行表面吹扫，去除部件表面的水迹；
37、s16、第二次干燥：
38、将吹扫完毕的部件转移至洁净的干燥箱中，使用150℃的温度干燥2-3个小时，待部件自然冷却后，将部件取出。
39、步骤s1中的不良情况包括刮伤、碰伤、裂纹、缺角、氧化层损伤。
40、步骤s1中，使用强光灯和放大镜对功能区域和工作面进行重点检查。
41、步骤s3中，硫酸、双氧水和水的体积比例为：硫酸：双氧水：水＝1l：1l：2l。
42、步骤s5中，盐酸、水的体积比例为：盐酸：水＝1l：4l。
43、步骤s7中，硝酸：氢氟酸：水的体积比例为：硝酸：氢氟酸：水＝1l：1l：1l。
44、步骤s11中，喷砂机参数为：压力：3-4kg/cm2；喷砂枪头离部件距离15-20厘米；角度60-90度；时间：3-5分钟；喷砂介质：氧化铝；砂材粒径：0.4-0.6毫米；粗糙度要求：ra＝2-4微米。
45、步骤s14中，超声波频率：40khz；超声波功率密度：6-10瓦/平方英寸；槽内纯水保持溢流，溢流流量：20升每分钟。
46、本发明的有益效果是：本发明可以将氮化铝陶瓷部件表面及微孔中的颗粒污染物和沉积污染物完全去除，避免产品本身损耗，并增加陶瓷部件表面的粗糙度，延长陶瓷部件的单次使用时间，增加陶瓷部件的使用次数，降低客户端的使用成本。
1.一种氮化铝陶瓷的清洗方法，其特征在于，具体步骤为：
2.根据权利要求1所述的一种氮化铝陶瓷的清洗方法，其特征在于，步骤s1中的不良情况包括刮伤、碰伤、裂纹、缺角、氧化层损伤。
3.根据权利要求2所述的一种氮化铝陶瓷的清洗方法，其特征在于，步骤s1中，使用强光灯和放大镜对功能区域和工作面进行重点检查。
4.根据权利要求3所述的一种氮化铝陶瓷的清洗方法，其特征在于，步骤s3中，硫酸、双氧水和水的体积比例为：硫酸：双氧水：水＝1l：1l：2l。
5.根据权利要求4所述的一种氮化铝陶瓷的清洗方法，其特征在于，步骤s5中，盐酸、水的体积比例为：盐酸：水＝1l：4l。
6.根据权利要求5所述的一种氮化铝陶瓷的清洗方法，其特征在于，步骤s7中，硝酸：氢氟酸：水的体积比例为：硝酸：氢氟酸：水＝1l：1l：1l。
7.根据权利要求6所述的一种氮化铝陶瓷的清洗方法，其特征在于，步骤s11中，喷砂机参数为：压力：3-4kg/cm2；喷砂枪头离部件距离15-20厘米；角度60-90度；时间：3-5分钟；喷砂介质：氧化铝；砂材粒径：0.4-0.6毫米；粗糙度要求：ra＝2-4微米。
8.根据权利要求7所述的一种氮化铝陶瓷的清洗方法，其特征在于，步骤s14中，超声波频率：40khz；超声波功率密度：6-10瓦/平方英寸；槽内纯水保持溢流，溢流流量：20升每分钟。