一种LPCVD石英管清洗装置的制作方法

本技术属于异质结topcon太阳能电池制备，具体涉及一种lpcvd石英管清洗装置。

背景技术：

1、lpcvd设备，广泛用于半导体和光伏行业。设备生产使用过程中，通过低压化学气沉积实现镀膜工艺，同时反应腔内壁会沉积上一层非晶硅膜。当前，光伏行业的反应腔体主要有石英材质及金属材质，工艺累积的膜材质与反应腔体的材质存在差异性，随着工艺次数的增加，薄膜厚度不断累积，反应腔内部会出现掉渣，同时石英管还会产生裂纹等破损，严重影响了设备的稳定性，增加了设备的使用成本和维护成本。

技术实现思路

1、本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供一种结构简单、成本低廉、使用寿命长且具有自清洁功能的lpcvd石英管清洗装置。

2、为解决上述技术问题，本实用新型采用以下技术方案：

3、一种lpcvd石英管清洗装置，包括：反应腔体以及分别设置在反应腔体两端的炉口法兰和炉尾法兰；所述炉尾法兰上设有抽气口、引电口和进气口，所述引电口用于安装引电组件，所述引电组件分别与反应腔体内的放电装置和外置的射频组件连接，所述进气口用于安装进气管，所述进气管用于输送氟化物气体至反应腔体内，在放电装置的激发下，反应腔体内的氟化物气体被分解出氟离子，所述氟离子与反应腔体内壁上的非晶硅层进行反应，以清除非晶硅层；所述抽气口与真空泵连接，用于实现废气从反应腔体内抽除。

4、作为本实用新型的进一步改进，所述放电装置为金属圆杆或平行电极板。

5、作为本实用新型的进一步改进，所述反应腔体内包括石英外管和石英内管，所述石英内管嵌套在石英外管内，所述放电装置设于石英内管内；所述石英外管底部设有用于支撑石英内管的支撑件。

6、作为本实用新型的进一步改进，还包括炉口定位法兰和炉尾定位法兰，所述炉口定位法兰和炉尾定位法兰分别位于石英外管的两侧，用于实现反应腔体定位安装在机架上。

7、作为本实用新型的进一步改进，所述炉口法兰包括依次设置的炉口第一法兰、炉口第二法兰和炉口第三法兰，所述炉口第三法兰固定在炉口定位法兰上，所述炉口第二法兰固定在炉口第三法兰上，且位于石英外管的前端口，所述炉口第一法兰固定在石英内管的前端口。

8、作为本实用新型的进一步改进，还包括炉口第一密封圈、炉口第二密封圈和炉口第三密封圈；所述第一密封圈设置在炉口第一法兰上，用于实现炉口第一法兰与炉口第二法兰密封连接；所述炉口第二密封圈设置在炉口第二法兰上，用于实现石英外管的前端口密封；所述炉口第三密封圈设置在炉口第三法兰，用于实现炉口第二法兰与炉口第三法兰密封连接。

9、作为本实用新型的进一步改进，所述炉尾法兰包括依次设置的炉尾第一法兰、炉尾第二法兰和炉尾第三法兰；所述炉尾第三法兰固定在炉尾定位法兰上，所述炉尾第二法兰固定在炉尾第三法兰上，且位于石英外管和石英内管的后端口，所述炉尾第一法兰固定在炉尾第二法兰上，且炉尾第一法兰上设有多个接口。

10、作为本实用新型的进一步改进，还包括炉尾第一密封圈和炉尾第二密封圈；所述炉尾第一密封圈设置在炉尾第一法兰，用于实现炉尾第一法兰与炉尾第二法兰密封连接；所述炉尾第二密封圈设置在炉尾第三法兰上，用于实现炉尾第二法兰与炉尾第三法兰密封连接。

11、作为本实用新型的进一步改进，所述炉尾法兰上还设有热偶口，所述热偶口用于安装热偶，所述热偶用于监测控制反应腔体内的温度。

12、作为本实用新型的进一步改进，所述炉尾法兰上还设有观察窗，所述观察窗用于观察反应腔体内的状态。

13、与现有技术相比，本实用新型的优点在于：

14、本实用新型的lpcvd镀膜装置，通过在炉尾法兰上设置了抽气口、进气口和引电口，并且利用引电口安装引电组件，引电组件分别与反应腔体内的放电装置和外部的射频电源连接，利用进气口将反应腔体内部的进气管与外置清洁气体（氟化物气体）源连接，实现了氟化物气体输送至反应腔体内部，在放电装置的激发下，氟化物气体被激活电离成活性粒子，活性粒子与附着在反应腔体内壁上的非晶硅层进行反应，清洁反应过程中产生的反应废气则通过抽气口排出反应腔体，最终达到了反应腔体自清洁的目的，避免了因镀膜过程中晶硅层薄膜不断累积在反应腔体内壁而导致的反应腔体破损，既延长了反应腔体的使用寿命，又提高了lpcvd镀膜装置的稳定性，大幅降低了lpcvd镀膜装置的使用成本和维护成本。

技术特征：

1.一种lpcvd石英管清洗装置，其特征在于，包括：反应腔体以及分别设置在反应腔体两端的炉口法兰和炉尾法兰；所述炉尾法兰上设有抽气口（20）、引电口（21）和进气口（24），所述引电口（21）用于安装引电组件（17），所述引电组件（17）分别与反应腔体内的放电装置（19）和外置的射频组件连接，所述进气口（24）用于安装进气管（18），所述进气管（18）用于输送氟化物气体至反应腔体内，在放电装置（19）的激发下，反应腔体内的氟化物气体被分解出氟离子，所述氟离子与反应腔体内壁上的非晶硅层进行反应，以清除非晶硅层；所述抽气口（20）与真空泵连接，用于实现废气从反应腔体内抽除。

2.根据权利要求1所述的lpcvd石英管清洗装置，其特征在于，所述放电装置（19）为金属圆杆或平行电极板。

3.根据权利要求1所述的lpcvd石英管清洗装置，其特征在于，所述反应腔体内包括石英外管（8）和石英内管（9），所述石英内管（9）嵌套在石英外管（8）内，所述放电装置（19）设于石英内管（9）内；所述石英外管（8）底部设有用于支撑石英内管（9）的支撑件（16）。

4.根据权利要求3所述的lpcvd石英管清洗装置，其特征在于，还包括炉口定位法兰（4）和炉尾定位法兰（10），所述炉口定位法兰（4）和炉尾定位法兰（10）分别位于石英外管（8）的两侧，用于实现反应腔体定位安装在机架上。

5.根据权利要求4所述的lpcvd石英管清洗装置，其特征在于，所述炉口法兰包括依次设置的炉口第一法兰（1）、炉口第二法兰（2）和炉口第三法兰（3），所述炉口第三法兰（3）固定在炉口定位法兰（4）上，所述炉口第二法兰（2）固定在炉口第三法兰（3）上，且位于石英外管（8）的前端口，所述炉口第一法兰（1）固定在石英内管（9）的前端口。

6.根据权利要求5所述的lpcvd石英管清洗装置，其特征在于，还包括炉口第一密封圈（5）、炉口第二密封圈（6）和炉口第三密封圈（7）；所述第一密封圈（5）设置在炉口第一法兰（1）上，用于实现炉口第一法兰（1）与炉口第二法兰（2）密封连接；所述炉口第二密封圈（6）设置在炉口第二法兰（2）上，用于实现石英外管（8）的前端口密封；所述炉口第三密封圈（7）设置在炉口第三法兰（3），用于实现炉口第二法兰（2）与炉口第三法兰（3）密封连接。

7.根据权利要求4所述的lpcvd石英管清洗装置，其特征在于，所述炉尾法兰包括依次设置的炉尾第一法兰（11）、炉尾第二法兰（12）和炉尾第三法兰（13）；所述炉尾第三法兰（13）固定在炉尾定位法兰（10）上，所述炉尾第二法兰（12）固定在炉尾第三法兰（13）上，且位于石英外管（8）和石英内管（9）的后端口，所述炉尾第一法兰（11）固定在炉尾第二法兰（12）上，且炉尾第一法兰（11）上设有多个接口。

8.根据权利要求7所述的lpcvd石英管清洗装置，其特征在于，还包括炉尾第一密封圈（14）和炉尾第二密封圈（15）；所述炉尾第一密封圈（14）设置在炉尾第一法兰（11），用于实现炉尾第一法兰（11）与炉尾第二法兰（12）密封连接；所述炉尾第二密封圈（15）设置在炉尾第三法兰（13）上，用于实现炉尾第二法兰（12）与炉尾第三法兰（13）密封连接。

9.根据权利要求1至8中任意一项所述的lpcvd石英管清洗装置，其特征在于，所述炉尾法兰上还设有热偶口（21），所述热偶口（21）用于安装热偶，所述热偶用于监测控制反应腔体内的温度。

10.根据权利要求1至8中任意一项所述的lpcvd石英管清洗装置，其特征在于，所述炉尾法兰上还设有观察窗（22），所述观察窗（22）用于观察反应腔体内的状态。

技术总结
本技术公开了一种LPCVD石英管清洗装置，包括：反应腔体以及分别设置在反应腔体两端的炉口法兰和炉尾法兰；炉尾法兰上设有抽气口、引电口和进气口，引电口用于安装引电组件，引电组件分别与反应腔体内的放电装置和射频组件连接，进气口用于安装进气管，进气管用于输送氟化物气体至反应腔体内，在放电装置的激发下，氟化物气体被分解出氟离子，氟离子与反应腔体内壁上的非晶硅层进行反应，以清除非晶硅层；抽气口与真空泵连接，用于实现废气从反应腔体内抽除。本技术具有结构紧凑、原理简单且便于维护等优点，解决了因反应腔体内壁沉积非晶硅层而导致石英管破损、缩短反应腔体寿命等问题，提高了装置稳定性，降低了设备运营成本。

技术研发人员：吴志明,张威,左佳旺
受保护的技术使用者：湖南红太阳光电科技有限公司
技术研发日：20230301
技术公布日：2024/1/14