一种含氰、氮电镀废水集中处理池的制作方法

本申请涉及废水处理的，尤其是涉及一种含氰、氮电镀废水集中处理池。

背景技术：

1、电镀是利用电化学的方法将基材表面进行装饰来获得某些新的性质的一种工艺，故被称为基材表面的“美容师”，其随着社会的快速发展，电镀已成为制造业的基础产业之一，在国民经济建设中有着举足轻重的地位，但是电镀过程中产生含氰、氮的电镀废水，含氰、氮电镀废水中不但含有一定量的氰化物，此外还含有重金属、氨氮等污染物，对于低浓度的含氰、氮电镀废水需要将废水中的氰化物和氨氮等化合物进行处理并达标后再排放。

2、相关技术中，通常将低浓度的含氰、氮电镀废水注入到反应池内，在反应池内加入一定比例的处理剂，使处理剂与含氰、氮电镀废水中的氰化物等反应并使其转化为无污染的化合物，然后将处理后的电镀废水排放到河道。

3、但是在处理剂与低浓度的含氰、氮电镀废水反应时，会产生氨气和微量的氰化氢气体，其中微量的氰化氢气体也对人体有较大的危害，在工作人员对电镀废水进行处理时，工作人员可能吸收到氰化氢气体，存在一定的安全隐患。

技术实现思路

1、本申请的目的是提供一种含氰、氮电镀废水集中处理池，解决上述相关技术中在对含氰、氮电镀废水处理时，会产生氨气和微量的氰化氢气体，工作人员可能吸收到氰化氢气体，存在一定安全隐患的问题。

2、本申请提供的一种含氰、氮电镀废水集中处理池采用如下的技术方案：

3、一种含氰、氮电镀废水集中处理池，包括反应池本体，所述反应池本体上连接有进水管和出水管，所述反应池本体的侧面设有供处理剂投入的投料管，所述反应池本体的侧面设有搅拌组件；所述反应池本体的上侧开口盖设有防护罩，所述防护罩的外侧面设置有排气管，所述排气管的内部安装有抽风机。

4、通过采用上述技术方案，在含氰、氮电镀废水处理过程中，首先将废水从进水管内注入到反应池本体内部，再打开密封盖从投料管开口加入一定比例的处理剂，通过搅拌组件将废水与处理剂搅拌均匀，使废水充分反应；通过防护罩避免废水反应产生的微量氰化氢气体弥散到外界空气，且同步启动排气管内部的抽风机，将防护罩内微量的氰化氢气体通过排气管抽出并排放到氰化氢反映塔内部进行处理；以此来降低氰化氢气体对工作人员的危害，降低相应的安全隐患。

5、可选的，所述防护罩上设有进出口和对进出口遮挡的活动门。

6、通过采用上述技术方案，在反应池本体内的废水处理完毕并从排水管排出后，通过进出口和活动门的设置，可以将防护罩上的活动门打开，便于工作人员从进出口进入对反应池本体的底侧析出的晶体或其他杂质进行清理。

7、可选的，所述投料管的外侧开口盖设有密封盖，所述密封盖靠近投料管的侧面设有定位块，所述投料管的开口边沿上设有供定位块插入的定位槽。

8、通过采用上述技术方案，在工作人员将处理剂加到反应池本体内部时，将密封盖打开，完成添加后再将密封盖安装到投料管开口边沿，同时密封盖上的定位块插入到对应的定位槽内部，通过密封盖完成对投料管开口的密封，降低氰化氢气体从投料管开口排出的可能性，降低工作人员吸入氰化氢气体的可能性，降低安全隐患。

9、可选的，所述定位块的侧面设有卡接件，所述卡接件包括压簧和弧形凸块，所述定位块上设有供压簧和弧形凸块置入的放置槽，所述压簧挤压弧形凸块使弧形凸块的一部分凸出放置槽，所述定位槽的内壁上设有供弧形凸块凸出部分插入的弧形凹槽。

10、通过采用上述技术方案，在定位块插入到对应定位槽的过程中，通过卡接件的配合设置，压缩状态的压簧挤压弧形凸块使其凸出部分插入到定位槽内壁上的弧形凹槽内部，以此提高定位块在定位槽内部的安装稳定性。

11、可选的，所述密封盖靠近投料管的侧面设有若干密封条，所述投料管的上侧边沿设有供密封条插入的密封槽。

12、通过采用上述技术方案，在密封盖扣合在投料管开口时，通过密封条和对应密封槽的配合设置，密封盖上的密封条插入到投料管开口边沿上的密封槽内部，以此降低氰化氢气体从密封盖与投料管安装间隙渗出到外界的可能性，提高投料管开口与密封盖之间的密封性能。

13、可选的，所述搅拌组件包括若干位于反应池本体外侧的搅拌电机和位于反应池本体内侧的搅拌扇，搅拌扇包括搅拌轴和扇叶，所述搅拌电机的输出轴贯穿反应池本体且与搅拌扇的搅拌轴同轴固定连接。

14、通过采用上述技术方案，在废水反应过程中，启动搅拌电机，带动反应池本体内部的搅拌扇同步转动，以此使反应池本体内部的废水与处理剂混合更加均匀，同时也时废水反应的更加彻底，提高废水的处理效果。

15、可选的，所述反应池本体的内壁上固定设置有若干扰流板。

16、通过采用上述技术方案，废水在反应池本体内部的流动过程中，通过扰流板的设置，进一步提高废水的混合程度，进一步提高反应池本体内部废水混合的均匀程度。

17、可选的，所述反应池本体靠近出水管的内壁上安装有过滤板，所述过滤板中部为过滤网，所述反应池本体的内壁上设有限位板，所述限位板上设有供过滤板插入且滑动的限位槽。

18、通过采用上述技术方案，在废水从排水管的排放过程中，通过过滤板对已经处理完毕的废水过滤，避免废水中含有的垃圾或其他杂质流入到下一工序。

19、综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：

20、1.通过防护罩避免废水反应产生的氰化氢气体弥散到外界空气；启动排气管内部的抽风机，将反应过程中产生的微量氰化氢气体通过排气管抽出并排放到氰化氢反映塔内部处理，后续可以通过碱性氰化除氰法对氰化氢气体进行处理，将氰化物转化为无毒的二氧化碳和氮气，最终实现无氰排放，以此降低氰化氢气体对工作人员的危害。

21、2.通过密封盖的设置，在工作人员将处理剂加到反应池本体内部时，将密封盖打开，完成添加后再将密封盖安装到投料管开口边沿，同时密封盖上的定位块插入到对应的定位槽内部，通过密封盖完成对投料管开口的密封，降低氰化氢气体从投料管开口排出的可能性，降低工作人员吸入氰化氢气体的可能性，降低安全隐患；通过密封条和对应密封槽的配合设置，降低氰化氢气体从密封盖与投料管安装间隙渗出到外界的可能性，提高投料管开口与密封盖之间的密封性能。

技术特征：

1.一种含氰、氮电镀废水集中处理池，包括反应池本体(1)，所述反应池本体(1)上连接有进水管(11)和出水管(12)，所述反应池本体(1)的侧面设有供处理剂投入的投料管(13)；其特征在于，所述反应池本体(1)的上侧开口盖设有防护罩(2)，所述防护罩(2)的外侧面设置有排气管(21)，所述排气管(21)的内部安装有抽风机(22)；所述防护罩(2)上设有进出口(24)和对进出口(24)遮挡的活动门(23)。

2.根据权利要求1所述的一种含氰、氮电镀废水集中处理池，其特征在于，所述投料管(13)的外侧开口盖设有密封盖(14)，所述密封盖(14)靠近投料管(13)的侧面设有若干定位块(141)，所述投料管(13)的开口边沿上设有供定位块(141)插入的定位槽(131)。

3.根据权利要求2所述的一种含氰、氮电镀废水集中处理池，其特征在于，所述定位块(141)的侧面设有卡接件(15)，所述卡接件(15)包括压簧(151)和弧形凸块(152)，所述定位块(141)上设有供压簧(151)和弧形凸块(152)置入的放置槽(1411)，所述压簧(151)挤压弧形凸块(152)使弧形凸块(152)的一部分凸出放置槽(1411)，所述定位槽(131)的内壁上设有供弧形凸块(152)凸出部分插入的弧形凹槽(1311)。

4.根据权利要求3所述的一种含氰、氮电镀废水集中处理池，其特征在于，所述密封盖(14)靠近投料管(13)的侧面设有若干密封条(142)，所述投料管(13)的上侧边沿设有供密封条(142)插入的密封槽(132)。

5.根据权利要求1所述的一种含氰、氮电镀废水集中处理池，其特征在于，所述反应池本体(1)的侧面设有搅拌组件(3)，所述搅拌组件(3)包括若干位于反应池本体(1)外侧的搅拌电机(31)和位于反应池本体(1)内侧的搅拌扇(32)，搅拌扇(32)包括搅拌轴(321)和扇叶(322)，所述搅拌电机(31)的输出轴贯穿反应池本体(1)且与搅拌扇(32)的搅拌轴(321)同轴固定连接。

6.根据权利要求1所述的一种含氰、氮电镀废水集中处理池，其特征在于，所述反应池本体(1)的内壁上固定设置有若干扰流板(16)。

7.根据权利要求1所述的一种含氰、氮电镀废水集中处理池，其特征在于，所述反应池本体(1)靠近出水管(12)的内壁上安装有过滤板(17)，所述过滤板(17)中部为过滤网(171)，所述反应池本体(1)的内壁上设有限位板(18)，所述限位板(18)上设有供过滤板(17)插入且滑动的限位槽(181)。

技术总结
本申请涉及一种含氰、氮电镀废水集中处理池，涉及废水处理的技术领域，其包括反应池本体，所述反应池本体上连接有进水管和出水管，所述反应池本体的侧面设有供处理剂投入的投料管，所述反应池本体的侧面设有搅拌组件；所述反应池本体的上侧开口盖设有防护罩，所述防护罩的外侧面设置有排气管，所述排气管的内部安装有抽风机；本申请通过防护罩避免废水反应产生的氰化氢气体弥散到外界空气；启动排气管内部的抽风机，将反应过程中产生的微量氰化氢气体通过排气管抽出并排放到氰化氢反映塔内部，后续可以通过碱性氰化除氰法对氰化氢气体进行处理，将氰化物转化为无毒的二氧化碳和氮气，最终实现无氰排放，以此降低氰化氢气体对工作人员的危害。

技术研发人员：王磊,陈云球,胡炜,黄何辉,张有会,郑聪明
受保护的技术使用者：乐清市荣禹污水处理有限公司
技术研发日：20230331
技术公布日：2024/1/15