一种石墨清洗设备的制作方法

文档序号:36151522发布日期:2023-11-23 02:40阅读:27来源:国知局
一种石墨清洗设备的制作方法

本技术涉及石墨清洗,具体涉及一种石墨清洗设备。


背景技术:

1、石墨是碳的一种同素异形体,为灰黑色,不透明固体,化学性质稳定,耐腐蚀,同酸、碱等药剂不易发生反应。

2、在石墨的生产加工中,需要将石墨切削呈柱状,在切削完成后,石墨表面会残留大量细小的石墨颗粒,需要对其进行清洗;目前的石墨清洗设备多为水洗,但水洗的方式作用在石墨上的力度较大,会对石墨造成一定程度的损伤,同时会使石墨颗粒随污水流失,不利于减少企业生产成本。


技术实现思路

1、为克服上述缺点,本实用新型的目的在于提供一种石墨清洗设备。

2、为了达到以上目的,本实用新型采用的技术方案包括:

3、架体,其上设有清洗箱和移动架,所述移动架在所述架体上能够相对所述清洗箱竖直移动设置;

4、延伸架,设于所述移动架上,所述延伸架能够密封盖设在所述清洗箱的顶端开口,所述延伸架上转动安装有摆杆,所述摆杆具有相对设置的第一端和第二端,所述第一端安装有夹爪气缸;

5、气洗组件,设于所述清洗箱内,用于将位于所述清洗箱内所述夹爪气缸所夹持的产品进行吹洗;

6、负压管,其用于将所述清洗箱和外部负压装置进行连接。

7、本申请通过对石墨进行气洗的方式,有效降低了对石墨的损伤程度,提高石墨产品的合格率,同时通过负压装置对石墨表面去除的颗粒进行回收利用,有效降低了企业的生产成本,且能够提高对石墨的清洗效率,具备实用性。

8、在上述石墨清洗设备的优选技术方案中,所述气洗组件包括:

9、气洗管,设于所述清洗箱内,所述气洗管上设有风嘴;

10、供气装置,设于所述架体上,用于向气洗管进行供气。

11、在上述石墨清洗设备的优选技术方案中,所述气洗管位于所述清洗箱内的侧部和底部,所述风嘴朝向所述清洗箱中部设置。

12、在上述石墨清洗设备的优选技术方案中,还包括驱动组件,所述驱动组件设于所述延伸架,并通过所述第二端驱动所述摆杆转动。

13、在上述石墨清洗设备的优选技术方案中,所述驱动组件包括:

14、旋转气缸,设于所述延伸架于远离所述夹爪气缸一侧表面;

15、第一带轮,设于所述旋转气缸的转动端;

16、第二带轮,设于所述摆杆的第二端;

17、皮带,用于连接所述第一带轮和第二带轮。

18、在上述石墨清洗设备的优选技术方案中,所述移动架上安装有驱动电机,所述驱动电机用于驱动所述延伸架相对所述移动架发生转动。

19、在上述石墨清洗设备的优选技术方案中,所述架体上安装有驱动气缸,所述驱动气缸的伸出轴端安装在所述移动架上。

20、在上述石墨清洗设备的优选技术方案中,所述架体上竖直设置有光杆,所述移动架背部安装有滑套,所述光杆伸入所述滑套设置。

21、本实用新型的有益效果是,本申请通过对石墨进行气洗的方式,有效降低了对石墨的损伤程度,提高石墨产品的合格率,同时通过负压装置对石墨表面去除的颗粒进行回收利用,有效降低了企业的生产成本,且能够提高对石墨的清洗效率,具备实用性。



技术特征:

1.一种石墨清洗设备,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的一种石墨清洗设备,其特征在于:所述气洗组件包括:

3.根据权利要求2所述的一种石墨清洗设备,其特征在于:所述气洗管位于所述清洗箱内的侧部和底部,所述风嘴朝向所述清洗箱中部设置。

4.根据权利要求1所述的一种石墨清洗设备,其特征在于:还包括驱动组件,所述驱动组件设于所述延伸架,并通过所述第二端驱动所述摆杆转动。

5.根据权利要求4所述的一种石墨清洗设备,其特征在于:所述驱动组件包括:

6.根据权利要求1所述的一种石墨清洗设备,其特征在于:所述移动架上安装有驱动电机,所述驱动电机用于驱动所述延伸架相对所述移动架发生转动。

7.根据权利要求1-6任一项所述的一种石墨清洗设备,其特征在于:所述架体上安装有驱动气缸,所述驱动气缸的伸出轴端安装在所述移动架上。

8.根据权利要求7所述的一种石墨清洗设备,其特征在于:所述架体上竖直设置有光杆,所述移动架背部安装有滑套,所述光杆伸入所述滑套设置。


技术总结
本技术公开了一种石墨清洗设备包括:架体,其上设有清洗箱和移动架,所述移动架在所述架体上能够相对所述清洗箱竖直移动设置;延伸架,设于所述移动架上,所述延伸架能够密封盖设在所述清洗箱的顶端开口,所述延伸架上转动安装有摆杆,所述摆杆具有相对设置的第一端和第二端,所述第一端安装有夹爪气缸;气洗组件,设于所述清洗箱内,用于将位于所述清洗箱内所述夹爪气缸所夹持的产品进行吹洗;负压管,其用于将所述清洗箱和外部负压装置进行连接;本技术可解决石墨清洗设备采用水洗的方式作用在石墨上的力度较大,会对石墨造成一定程度的损伤,同时会使石墨颗粒随污水流失,不利于减少企业生产成本的问题。

技术研发人员:任国才,郝稳,邢子扬,覃俊钧,蒋春华
受保护的技术使用者:苏州富怡达超声波有限公司
技术研发日:20230506
技术公布日:2024/1/15
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