一种用于水处理药剂稳定控制的装置的制作方法

本技术属于电解铜箔生产，涉及一种用于水处理药剂稳定控制的装置。

背景技术：

1、电解铜箔生产过程产生电解废水的处理，通常是将废水及药剂输送至水处理设备进行化学处理。一般水处理设备位于低位处，添加药剂的药罐位于高位处，药剂溶液通过供液泵、止回阀输送至水处理设备，而当进行水处理时，药剂溶液从高处往低处流动，产生高压，会对止回阀产生巨大冲击，极大降低止回阀的使用寿命，同时当药剂供应关闭时，由于止回阀入口端的压力大，往往不能立即关闭，从而造成水处理过程中的药剂浪费，如果止回阀已发生部分失效，则浪费更大，这些最终导致水处理过程中药剂供应不稳定，同时造成水处理成本增加，药剂浪费增加。

2、水处理是电解铜箔生产过程中的至关重要的环节，每天有大量的电解废水需要处理，采用传统的方式将会导致药剂的大量浪费，同时也难以保证水处理工艺的稳定性。因此，需要设计一种简单、便捷实用及低成本的装置实现水处理工艺的稳定控制，避免药剂浪费，降低水处理成本。

技术实现思路

1、本实用新型的目的在于提供了一种用于水处理药剂稳定控制的装置，

2、低成本实现水处理过程中药剂溶液的稳定控制，同时也可避免水处理药剂的浪费。

3、为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：一种用于水处理药剂稳定控制的装置，包括水处理设备以及高于该水处理设备的药剂罐，所述水处理设备与药剂罐之间通过第一管道连接，且连接处分别为第一连通口和第二连通口，所述第一管道上安装有供液泵，所述第一管道上安装有第一止回阀和第二止回阀，所述第一管道靠近药剂罐一侧的部分呈l型，所述第一止回阀安装在l型第一管道的竖直管道上，且高于第二连通口。

4、优选地，所述第二止回阀安装在l型第一管道的水平管道上。

5、优选地，所述第一止回阀安装在l型第一管道的顶部。

6、优选地，所述第一管道中部呈倒u型，左右两侧分别连通水处理设备和药剂罐，且第二连通口高于第一连通口。

7、优选地，所述水处理设备一侧通过第二管道连通有水处理建设池。

8、与现有技术相比，本实用新型的有益效果：

9、第二止回阀可以防止药剂回流，同时起到缓冲作用，实现药剂溶液的初步供应。

10、第一止回阀安装在l型连接管上且高于第二连通口，可缓解药剂溶液从高处流下对第一止回阀带来的直接高压力冲击，当压力达到一定值时药剂溶液才能从第一止回阀中流出，如此也可以缓解药剂高压流入时带来的不稳定问题，保证流出药剂溶液的稳定性。

11、第一止回阀安装几字型第一管道上，可避免药剂供应关闭时，由于压

12、差药剂回流对第一止回阀的直接大压力冲击，第一止回阀可通过自身重力及压差实现阀的快速关闭，避免药剂回流，同时第一止回阀位于高处，需要更大的压力才能冲破第一止回阀的防回流作用，也避免了传统方式止回阀入口端高压带来的药剂浪费影响，保证了第一止回阀的高使用寿命。

技术特征：

1.一种用于水处理药剂稳定控制的装置，包括水处理设备(a3)以及高于该水处理设备(a3)的药剂罐(a7)，所述水处理设备(a3)与药剂罐(a7)之间通过第一管道(a8)连接，且连接处分别为第一连通口(a9)和第二连通口(a10)，所述第一管道(a8)上安装有供液泵(a6)，其特征在于：所述第一管道(a8)上安装有第一止回阀(a4)和第二止回阀(a5)，所述第一管道(a8)靠近药剂罐(a7)一侧的部分呈l型，所述第一止回阀(a4)安装在l型第一管道(a8)的竖直管道上，且高于第二连通口(a10)。

2.根据权利要求1所述的一种用于水处理药剂稳定控制的装置，其特征在于：所述第二止回阀(a5)安装在l型第一管道(a8)的水平管道上。

3.根据权利要求1或2所述的一种用于水处理药剂稳定控制的装置，其特征在于：所述第一止回阀(a4)安装在l型第一管道(a8)的顶部。

4.根据权利要求1所述的一种用于水处理药剂稳定控制的装置，其特征在于：所述第一管道(a8)中部呈倒u型，左右两侧分别连通水处理设备(a3)和药剂罐(a7)，且第二连通口(a10)高于第一连通口(a9)。

5.根据权利要求1所述的一种用于水处理药剂稳定控制的装置，其特征在于：所述水处理设备(a3)一侧通过第二管道(a2)连通有水处理建设池(a1)。

技术总结
本技术公开了一种用于水处理药剂稳定控制的装置，其中包括：低位水处理建设池、连接管、水处理设备、倒置止回阀、止回阀、供液泵及高位水处理药剂罐，所述低位水处理建设池通过连接管将电解污水输送至水处理设备，高位水处理药剂罐中的药剂溶液通过供液泵、止回阀及倒置止回阀稳定输送至水处理设备，最终实现电解污水的处理。本技术基于水处理系统设备，通过止回阀、连接管、倒置止回阀的联合设计，实现电解废水处理过程中药剂的稳定供应，保证了水处理工艺的稳定性，避免了水处理药剂的浪费，降低水处理成本，同时装置成本低，操作简单，具有良好的实用性。

技术研发人员：姜红露,陈剑明,付争兵,李俊涛,陈星,李照波,王传德
受保护的技术使用者：江西鑫铂瑞科技有限公司
技术研发日：20230712
技术公布日：2024/1/15