一种美术设计用的颜料盘清洁装置

文档序号:36868754发布日期:2024-02-02 20:49阅读:17来源:国知局
一种美术设计用的颜料盘清洁装置

本技术属于清洁设备领域,具体地说是一种美术设计用的颜料盘清洁装置。


背景技术:

1、美术设计是一种创意性的艺术形式,包括平面设计、插画、绘画、雕塑、建筑设计等多种艺术形式,在进行绘画设计时需要使用颜料盘进行调色使用,在绘画结束后为了避免下次使用时混色,需要对颜料盘进行清洁;

2、在公开号为cn212976068u的中国专利中,提到了国画颜料盘清洗装置,包括底板,所述底板的顶面固定连接有清洗箱,所述清洗箱的侧面固定连接有电机座,所述电机座的顶面固定连接有电机,所述清洗箱的两侧面均固定套接有轴承,两个所述轴承的内表面分别固定套接有一号轴和二号轴,解决了清洗效率低,且清洗过程中混合颜料的清洗水容易溅射出来的问题。

3、然而,上述专利采用夹紧爪对颜料盘的位置进行限定,夹紧爪容易在颜料盘放置与取出时对其表面造成刮痕损坏,并且在对表面有颜料放置槽的颜料盘进行限定时稳定性不理想,并且颜料盘为竖直状态,在对表面有颜料放置槽的颜料盘进行清洁时,清洁效果不理想,槽内容易产生颜料残留,适用范围有限,不方便人员使用。


技术实现思路

1、为了解决上述技术问题,本实用新型提供一种美术设计用的颜料盘清洁装置,以解决上述背景技术中提到的问题。

2、一种美术设计用的颜料盘清洁装置,包括主体,包括壳体,设置于所述壳体一端的旋转门,以及设置于所述壳体一侧的控制板;清洁机构,设置于所述壳体内部;限位机构,设置于所述清洁机构上;以及,调节机构,设置于所述清洁机构与壳体之间。

3、优选的,所述清洁机构,包括设置于所述壳体内的放置板,设置于所述壳体内的固定块,设置于所述固定块底部的喷头,设置于所述壳体顶部的连接法兰,以及设置于所述连接法兰与固定块之间的软管。

4、优选的,所述限位机构,包括设置于所述放置板顶部的圆形板,设置于所述圆形板表面的限位槽,以及设置于所述圆形板上的限位组件。

5、优选的,所述限位组件包括连接架,设置于所述连接架两端的固定板,滑动设置于所述固定板上的滑块,设置于所述滑块顶部的卡座,设置于所述卡座内侧的橡胶块,设置于所述固定板上的弧形板,螺纹设置于所述滑块侧面的第二限位栓,以及螺纹设置于所述固定板上的第一限位栓。

6、优选的,所述限位槽与弧形板的运动轨迹相适配,所述限位组件设置有两组,两组所述限位组件分别位于圆形板两侧。

7、优选的,所述调节机构,包括设置于所述放置板输入端的电机,设置于所述放置板一侧的齿条,设置于所述壳体内部的平齿轮,设置于所述平齿轮输出端的第二锥齿轮,设置于所述壳体内部的丝杆,以及设置于所述丝杆输入端的第一锥齿轮。

8、优选的,所述齿条与平齿轮相啮合,所述第一锥齿轮与第二锥齿轮相啮合,所述丝杆与固定块通过螺纹连接,所述固定块两端的壳体内安装有限位杆。

9、与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:

10、1、本实用新型通过限位机构,可以根据待清洁颜料盘的直径规格进行对应调整,随后转动限位组件即可轻松进行颜料盘的限定与取出工作,不会对颜料盘表面造成损坏,方便人员使用,同时后续对同样规格的颜料盘进行清洁时无需进行二次调整,提高工作效率。

11、2、本实用新型通过调节机构,可以将颜料盘形成依次递增或递减的圆环区域,然后依次对其进行完全清洁,提高清洁效果。



技术特征:

1.一种美术设计用的颜料盘清洁装置,其特征在于:包括,

2.如权利要求1所述一种美术设计用的颜料盘清洁装置,其特征在于:所述限位槽(302)与弧形板(3010)的运动轨迹相适配,所述限位组件设置有两组,两组所述限位组件分别位于圆形板(301)两侧。

3.如权利要求1所述一种美术设计用的颜料盘清洁装置,其特征在于:所述齿条(407)与平齿轮(406)相啮合,所述第一锥齿轮(404)与第二锥齿轮(405)相啮合,所述丝杆(402)与固定块(203)通过螺纹连接,所述固定块(203)两端的壳体(101)内安装有限位杆(403)。


技术总结
本技术属于清洁设备领域,提供了一种美术设计用的颜料盘清洁装置,包括主体,包括壳体,设置于所述壳体一端的旋转门,以及设置于所述壳体一侧的控制板;清洁机构,设置于所述壳体内部;限位机构,设置于所述清洁机构上;以及,调节机构,设置于所述清洁机构与壳体之间;本技术通过限位机构,可以根据待清洁颜料盘的直径规格进行对应调整,随后转动限位组件即可轻松进行颜料盘的限定与取出工作,不会对颜料盘表面造成损坏,方便人员使用,同时后续对同样规格的颜料盘进行清洁时无需进行二次调整,提高工作效率,通过调节机构可以将颜料盘形成依次递增或递减的圆环区域,然后依次对其进行完全清洁,提高清洁效果。

技术研发人员:李思雨
受保护的技术使用者:佳木斯大学
技术研发日:20231226
技术公布日:2024/2/1
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