技术特征：
技术总结
本发明公开了一种W掺杂Bi2O3纳米结构的制备方法，属于光催化材料制备领域。a、将石英玻璃切割为基片，依次在丙酮去离子水中采用超声波各清洗5分钟，干燥。将洗好的玻璃基片固定在可旋转的样品台上，将W靶和Bi2O3靶安装在磁控溅射仪上，使基片平面与水平面成5°‑10°夹角，Bi2O3靶法线与基片法线成80°‑85°，靶间距为6‑7cm，W靶法线与基片法线夹角50°‑55°靶间距为10‑11cm，关闭腔门。c、使用机械泵抽真空，使真空达到10pa以下，打开分子泵，使真空达到5*10(‑4)pa以下，充入氩气，将气压升到0.2Pa‑0.5Pa。d、打开转动，打开W靶直流溅射，Bi2O3交流溅射，同时溅射30分钟。e、将样品放于干燥箱中500°退火1小时，即得到具有三维纳米结构的W掺杂Bi2O3纳米结构阵列。
技术研发人员：曾祥涛;夏钰东;王红艳;朱浩;孙柏;倪宇翔
受保护的技术使用者：西南交通大学
技术研发日：2018.08.24
技术公布日：2018.12.25